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电子发烧友网>模拟技术>碳化硅功率器件特性及基本原理

碳化硅功率器件特性及基本原理

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2022-02-07 15:01:28396

6.4.1.2 SiC上的肖特基接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.7迁移率限制因素∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.6不同晶面上的氧化硅/SiC界面特性∈《碳化
2022-01-24 10:22:28480

8.2.3 MOSFET电流-电压关系∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.3MOSFET电流-电压关系8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.2分裂准费米能级
2022-02-24 10:08:25466

6.3.4.1 SiC特有的基本现象∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.1SiC特有的基本现象6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.3热氧化氧化硅
2022-01-05 13:59:37493

8.2.10.2 反型层迁移率的器件相关定义∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.10.2反型层迁移率的器件相关定义8.2.10反型层电子迁移率8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-03-04 10:19:46276

6.1.6 离子注入及后续退火过程中的缺陷行成∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.1.6离子注入及后续退火过程中的缺陷行成6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.5高温退火和表面粗糙化∈《碳化硅技术基本原理——生长
2021-12-31 14:13:05466

6.4.2.1 基本原理∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.2.1基本原理6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.1.2SiC上的肖特基接触∈《碳化硅技术
2022-01-24 10:09:121034

6.1.5 高温退火和表面粗糙化∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.1.5高温退火和表面粗糙化6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.4半绝缘区域的离子注入∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2021-12-31 14:25:52549

开关模式直流-直流变换器∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

11.2.2开关模式直流-直流变换器11.2基本的功率变换电路第11章碳化硅器件在电力系统中的应用《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》代理产品线:1、国产AGMCPLD、FPGAPtP
2022-04-15 16:32:32269

7.3 pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

7.3pn与pin结型二极管第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.2肖特基势磊二极管(SBD)∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-02-10 09:18:15614

8.1.4 比通态电阻∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.4比通态电阻8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.3饱和漏极电压∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征
2022-02-20 16:16:46636

6.2.1 反应性离子刻蚀∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.2.1反应性离子刻蚀6.2刻蚀第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.6离子注入及后续退火过程中的缺陷行成∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2021-12-31 10:57:22817

6.3.4.8 其他方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.8其他方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.7电导法∈《碳化硅
2022-01-11 17:26:05445

6.4.2.2 n型SiC的欧姆接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.2.2n型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技术
2022-01-25 09:18:08743

7.3.1 大注入与双极扩散方程∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

7.3.1大注入与双极扩散方程7.3pn与pin结型二极管第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.3pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理
2022-02-11 09:25:07541

8.1 结型场效应晶体管(JFET)∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.1夹断电压8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.4结势垒肖特基(JBS)二极管与混合pin肖特基(MPS
2022-02-16 09:43:48325

6.2.2 高温气体刻蚀∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.2.2高温气体刻蚀6.2刻蚀第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.2.1反应性离子刻蚀∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.1.6
2021-12-31 10:31:17723

8.1.5 增强型和耗尽型工作模式∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.5增强型和耗尽型工作模式8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.4比通态电阻∈《碳化硅技术基本原理——生长
2022-02-20 14:15:56384

开关模式逆变器∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

11.2.3开关模式逆变器11.2基本的功率变换电路第11章碳化硅器件在电力系统中的应用《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》代理产品线:1、国产AGMCPLD、FPGAPtP替代
2022-04-15 11:01:18403

8.2.8 UMOS的先进设计∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.8UMOS的先进设计8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.7DMOSFET的先进
2022-03-01 10:36:06605

8.1.6 功率JFET器件的实现∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.1.6功率JFET器件的实现8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.5增强型和耗尽型工作模式∈《碳化硅技术
2022-02-21 09:29:28537

6.3.4.2 MOS电容等效电路∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.3.4.2MOS电容等效电路6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.1SiC
2022-01-07 14:24:25420

5.3.2.1 寿命控制∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.3.2.1寿命控制5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.3.2载流子寿命“杀手
2022-01-06 09:38:25510

5.3.2 载流子寿命“杀手”∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.3.2载流子寿命“杀手”5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.3.1.2杂质∈《碳化硅
2022-01-06 09:37:40535

8.2.4 饱和漏极电压∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

8.2.4饱和漏极电压8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.3MOSFET电流-电压关系
2022-02-25 09:29:27469

5.3.1.2 杂质∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.3.1.2杂质5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.3.1.1本征缺陷∈《碳化硅技术
2022-01-06 09:30:23552

5.3.1.1 本征缺陷∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.3.1.1本征缺陷5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.2.3扩展缺陷对SiC器件性能
2022-01-06 09:27:16693

6.4.2.3 p型SiC的欧姆接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

6.4.2.3p型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.2n型SiC的欧姆接触
2022-01-26 10:08:16636

5.2.3 扩展缺陷对SiC器件性能的影响∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

5.2.3扩展缺陷对SiC器件性能的影响5.2SiC的扩展缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.2.1SiC主要的扩展缺陷&5.2.2
2022-01-06 09:25:55621

碳化硅功率器件基本原理、特点和优势

碳化硅(SiC)功率器件是一种基于碳化硅材料的半导体器件,具有许多优势和广泛的应用前景。
2023-06-28 09:58:092319

碳化硅功率器件基本原理及优势

汽车领域中得到了广泛的应用。本文将从AD820ARZ碳化硅功率器件基本原理、优势及应用等方面进行分析。 一、碳化硅功率器件基本原理 碳化硅功率器件是由碳化硅材料制成的半导体器件,它的工作原理与传统的硅功率器件基本相同,
2023-09-05 09:04:421880

碳化硅功率器件基本原理、应用领域及发展前景

随着电力电子技术的不断发展,碳化硅(SiC)功率器件作为一种新型的半导体材料,逐渐在电力电子领域崭露头角。与传统的硅功率器件相比,碳化硅功率器件具有高导热率和高电子饱和迁移率,使得碳化硅功率器件具有高效率、高功率密度、高可靠性等优点。本文将介绍碳化硅功率器件基本原理、应用领域以及发展前景。
2023-12-21 09:43:38353

碳化硅功率器件的实用性不及硅基功率器件

碳化硅功率器件的实用性不及硅基功率器件吗  碳化硅功率器件相较于传统的硅基功率器件具有许多优势,主要体现在以下几个方面:材料特性功率密度、温度特性和开关速度等。尽管碳化硅功率器件还存在一些挑战
2023-12-21 11:27:09286

碳化硅功率器件简介、优势和应用

碳化硅(SiC)是一种优良的宽禁带半导体材料,具有高击穿电场、高热导率、低介电常数等特点,因此在高温、高频、大功率应用领域具有显著优势。碳化硅功率器件是利用碳化硅材料制成的电力电子器件,主要包括
2024-01-09 09:26:49379

碳化硅功率器件基本原理、性能优势、应用领域

碳化硅功率器件主要包括碳化硅二极管(SiC Diode)、碳化硅晶体管(SiC Transistor)等。这些器件通过利用碳化硅材料的优良特性,可以在更高的温度和电压下工作,实现更高的功率密度和效率。
2024-02-29 14:23:24125

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