驱动 SiC/GaN 功率开关需要设计一个完整的 IC 生态系统,这些 IC 经过精密调整,彼此配合。于是这里的设计重点不再只是以开关为中心……
2018-06-22 09:19:284847 据日本富士经济(Fuji Keizai)6月发布功率半导体全球市场的报告预估,汽车,电气设备,信息和通信设备等领域对下一代功率半导体(SiC和GaN)需求的预计将增加。预计2030年(与2018
2019-06-25 11:22:427827 GaN中游我们可以将其分为器件设 计、晶圆制造、封装测试三个部分。 作为化合物半导体的一类,与SiC类似,全球产能普遍集中在IDM厂商上,不过相比于SiC,GaN在设计和制造环节正在往垂直分工的模式
2022-07-18 01:59:454002 在未来十年,受电源、光伏(PV)逆变器以及工业电动机的需求驱动,新兴的碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)功率半导体市场将以18%的惊人速度稳步增长。据有关报告称,至2022年SiC和GaN功率半导体
2013-04-26 10:10:041532 SiC、GaN等下一代功率器件的企业有所增加,为数众多的展示吸引了各方关注。SiC和GaN也变得不再是“下一代”。
2013-07-09 09:46:493475 市场研究机构IHS最新统计报告指出,随着愈来愈多供应商推出产品,2015年碳化矽(SiC)功率半导体平均销售价格已明显下滑,有望刺激市场加速采 用;与此同时,氮化镓(GaN)功率半导体也已开始
2016-03-24 08:26:111305 (SiC)和氮化镓(GaN)占有约90%至98%的市场份额。供应商。WBG半导体虽然还不是成熟的技术,但由于其优于硅的性能优势(包括更高的效率,更高的功率密度,更小的尺寸和更少的冷却),正在跨行业进军。 使用基于SiC或GaN的功率半导体来获
2021-04-06 17:50:533168 碳化硅 (SiC) MOSFET 和氮化镓 (GaN) HEMT 等宽带隙 (WBG) 功率器件的采用目前正在广泛的细分市场中全面推进。在许多情况下,WBG 功率器件正在取代它们的硅对应物,并在
2022-07-29 14:09:53807 超结(SJ)硅MOSFET自1990年代后期首次商业化用于功率器件应用领域以来,在400–900V功率转换电压范围内取得了巨大成功。参考宽带隙(WBG)、碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)功率器件,我们将在本文中重点介绍其一些性能特性和应用空间。
2023-06-08 09:33:241389 功率半导体”多被用于转换器及逆变器等电力转换器进行电力控制。目前,功率半导体材料正迎来材料更新换代,这些新材料就是SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓),二者的物理特性均优于现在使用的Si(硅),作为“节能王牌”受到了电力公司、汽车厂商和电子厂商等的极大期待。
2013-03-07 14:43:024596 全球范围内5G技术的迅猛发展,为氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)功率半导体制造商提供新的增长前景。2020年,GaN和SiC功率半导体市场规模为7亿美元,预计2021年至2027年的复合年增长率
2021-05-21 14:57:182257 GaN 和 SiC 器件在某些方面相似,但有显着差异。
2021-11-17 09:06:184236 电子发烧友网报道(文/梁浩斌)在我们谈论第三代半导体的时候,常说的碳化硅功率器件一般是指代SiC MOSFET(金属-氧化物半导体场效应晶体管),而氮化镓功率器件最普遍的则是GaN HEMT(高电子
2023-12-27 09:11:361219 的可用性,有更多的设计者关注GaN选项。GaN比传统MOSFET具有更明显的优势,例如更高的开关速度和更高的效率。GaN器件GaN功率晶体管已经存在了好几年了。早期器件是在昂贵的衬底上制成的,例如
2017-05-03 10:41:53
栅极电荷,它可以使用高开关频率,从而允许使用较小的电感器和电容器。 相较于SiC的发展,GaN功率元件是个后进者,它是一种拥有类似于SiC性能优势的宽能隙材料,但拥有更大的成本控制潜力,尤其是高功率的硅
2022-08-12 09:42:07
基于碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等宽带隙(WBG)半导体的新型高效率、超快速功率转换器已经开始在各种创新市场和应用领域攻城略地——这类应用包括太阳能光伏逆变器、能源存储、车辆电气化(如充电器
2019-07-31 06:16:52
可以通过在SiC功率器件上运行HTGB(高温栅极偏压)和HTRB(高温反向偏压)应力测试来评估性能。Littelfuse在温度为175°C的1200V,80mΩSiCMOSFET上进行了压力测试,具有
2019-07-30 15:15:17
SiC-DMOS的特性现状是用椭圆围起来的范围。通过未来的发展,性能有望进一步提升。从下一篇开始,将单独介绍与SiC-MOSFET的比较。关键要点:・功率晶体管的特征因材料和结构而异。・在特性方面各有优缺点,但SiC-MOSFET在整体上具有优异的特性。< 相关产品信息 >MOSFETSiC-DMOS
2018-11-30 11:35:30
基于SiC/GaN的新一代高密度功率转换器SiC/GaN具有的优势
2021-03-10 08:26:03
IC、电源控制器和高集成度嵌入式处理器, 将能管理复杂的多电平、多级功率回路,从而正确发挥新一代 SiC/GaN 功率转换器的优势。——ADI公司再生能源战略营销经理Stefano
2018-10-30 11:48:08
技术的另一大优势是其对高结温具有超高的耐受性。这种耐受性有助于提升功率密度,减少散热问题。[color=rgb(51, 51, 51) !important]SiC/GaN开关有助于减少损耗的其他特性
2019-07-16 23:57:01
前面对SiC的物理特性和SiC功率元器件的特征进行了介绍。SiC功率元器件具有优于Si功率元器件的更高耐压、更低导通电阻、可更高速工作,且可在更高温条件下工作。接下来将针对SiC的开发背景和具体优点
2018-11-29 14:35:23
二极管的恢复损耗非常小。主要应用于工业机器电源、高效率功率调节器的逆变器或转换器中。2. 标准化导通电阻SiC的绝缘击穿场强是Si的10倍,所以能够以低阻抗、薄厚度的漂移层实现高耐压。因此,在相同的耐压值
2019-05-07 06:21:55
电流和FRD的恢复电流引起的较大的开关损耗,通过改用SiC功率模块可以明显减少,因此具有以下效果:开关损耗的降低,可以带来电源效率的改善和散热部件的简化(例:散热片的小型化,水冷/强制风冷的自然风冷化
2019-05-06 09:15:52
相比,能够以具有更高的杂质浓度和更薄的厚度的漂移层作出600V~数千V的高耐压功率器件。高耐压功率器件的阻抗主要由该漂移层的阻抗组成,因此采用SiC可以得到单位面积导通电阻非常低的高耐压器件。理论上
2019-07-23 04:20:21
具有成本效益的大功率高温半导体器件是应用于微电子技术的基本元件。SiC是宽带隙半导体材料,与Si相比,它在应用中具有诸多优势。由于具有较宽的带隙,SiC器件的工作温度可高达600℃,而Si器件
2018-09-11 16:12:04
的不是全SiC功率模块特有的评估事项,而是单个SiC-MOSFET的构成中也同样需要探讨的现象。在分立结构的设计中,该信息也非常有用。“栅极误导通”是指在高边SiC-MOSFET+低边
2018-11-30 11:31:17
电流和FRD的恢复电流引起的较大的开关损耗,通过改用SiC功率模块可以明显减少,因此具有以下效果:开关损耗的降低,可以带来电源效率的改善和散热部件的简化(例:散热片的小型化,水冷/强制风冷的自然风冷化
2019-03-25 06:20:09
随着现代技术的发展, 功率放大器已成为无线通信系统中一个不可或缺的部分, 特别是宽带大功率产生技术已成为现代通信对抗的关键技术。作为第三代半导体材料碳化硅( SiC) , 具有宽禁带、高热导率、高
2019-08-12 06:59:10
描述 PMP20978 参考设计是一种高效率、高功率密度和轻量化的谐振转换器参考设计。此设计将 390V 输入转换为 48V/1kW 输出。PMP20637 功率级具有超过 140W/in^3
2022-09-23 07:12:02
在太阳能光伏(PV)和能量存储应用中,存在功率密度增加以及始终存在的提高效率需求的趋势。该问题的解决方案以碳化硅(SiC)功率器件的形式出现。 ADuM4135栅极驱动器是单通道器件,在25 V工作电压(VDD至VSS)下具有典型的7A源/灌电流驱动能力
2020-05-27 17:08:24
CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)。与其它同类产品相比,这些GaN内部搭配CGHV96050F1具有卓越的功率附带效率。与硅或砷化镓
2024-01-19 09:27:13
`Cree的CGHV96100F2是氮化镓(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)在碳化硅(SiC)基板上。 该GaN内部匹配(IM)FET与其他技术相比,具有出色的功率附加效率。 氮化镓与硅或砷化
2020-12-03 11:49:15
CREE的CGHV96130F是碳化硅(SiC)基材上的氮化镓(GaN)高迁移率晶体管(HEMT)与其他技术相比,CGHV96130F内部适应(IM)FET具有出色的功率附加效率。与砷化镓相比
2023-12-13 10:10:57
,GaN-on-SiC具有更加优异的性能;砷化镓或硅基氮化镓;包含更高的击穿场强;更高的饱和电子漂移效率和更高的导热系数。CMPA1D1E025 选用 10 导线;25 mm x 9.9 mm;金属/陶瓷
2024-02-27 14:09:50
`IGN0450M250是一款高功率GaN-on-SiC RF功率晶体管,旨在满足P波段雷达系统的独特需求。它在整个420-450 MHz频率范围内运行。 在100毫秒以下,10%占空比脉冲条件
2021-04-01 10:35:32
功率分立和模块解决方案的少数供应商之一。美高森美的SP6LI产品系列采用专为高电流SiC MOSFET功率模块而设计的最低杂散电感封装之一,具有五种标准模块,在外壳温度(Tc)为80°C的情况下,提供从
2018-10-23 16:22:24
标准的产品,并与具有高技术标准和高品质要求的供应商合作。在这过程中,ROHM作为ApexMicrotechnology的SiC功率元器件供应商脱颖而出。ROHM的服务和技术支持都非常出色,使得我们能够
2023-03-29 15:06:13
产品详情:TGA2573宽带在Qorvo生产0.25微米SiC工艺制备GaN高功率GaN HEMT放大器。工作从2到18 GHz,它达到40 dBm饱和输出功率,20% PAE,和10分贝小信号增益在漏
2018-06-19 09:07:36
金属有机物化学气相淀积(MOCVD) 或分子束外延(MBE) 技术而制成。GaN-on-SiC 方法结合了GaN 的高功率密度功能与SiC 出色的导热性和低射频损耗。这就是GaN-on-SiC 成为高
2019-08-01 07:24:28
元件来适应略微增加的开关频率,但由于无功能量循环而增加传导损耗[2]。因此,开关模式电源一直是向更高效率和高功率密度设计演进的关键驱动力。 基于 SiC 和 GaN 的功率半导体器件 碳化硅
2023-02-21 16:01:16
的材料特性,各自都有各自的优点和不成熟处,因此在应用方面有区别 。一般的业界共识是:SiC适合高于1200V的高电压大功率应用;GaN器件更适合于40-1200V的高频应用。在600V和1200V器件
2021-09-23 15:02:11
从本文开始进入新的一章。继SiC概要、SiC-SBD(肖特基势垒二极管 )、SiC-MOSFET之后,来介绍一下完全由SiC功率元器件组成的“全SiC功率模块”。本文作为第一篇,想让大家了解全SiC
2018-11-27 16:38:04
全SiC功率模块与现有的功率模块相比具有SiC与生俱来的优异性能。本文将对开关损耗进行介绍,开关损耗也可以说是传统功率模块所要解决的重大课题。全SiC功率模块的开关损耗全SiC功率模块与现有
2018-11-27 16:37:30
。LMG1210具有可调节的死区时间控制,可最大程度地减少第三象限损耗。请参见TI白皮书:使用LMG1210 GaN驱动器通过空载时间控制来优化效率。TI 在这些设计中使用了高效功率转换 eGaN功率器件。
2019-11-11 15:48:09
在过去的十多年里,行业专家和分析人士一直在预测,基于氮化镓(GaN)功率开关器件的黄金时期即将到来。与应用广泛的MOSFET硅功率器件相比,基于GaN的功率器件具有更高的效率和更强的功耗处理能力
2019-06-21 08:27:30
相较于硅,碳化硅(SiC)肖特基二极管采用全新的技术,提供更出色的开关性能和更高的可靠性。SiC无反向恢复电流,且具有不受温度影响的开关特性和出色的散热性能,因此被视为下一代功率半导体。
2019-07-25 07:51:59
频率和更高功率密度的开发人员更是如此。RF GaN是一项已大批量生产的经验证技术,由于其相对于硅材料所具有的优势,这项技术用于蜂窝基站和数款军用/航空航天系统中的功率放大器。在这篇文章中,我们将比
2019-07-12 12:56:17
硅代工厂生产,拥有相应的规模经济优势。但GaN on SiC支持高得多的功率密度,支持更高的功率输出。这是因为SiC具有更优秀的导热率:大约比Si高三倍。GaN on SiC功率密度约为5W/mm,约
2018-12-05 15:18:26
`由电气观察主办的“宽禁带半导体(SiC、GaN)电力电子技术应用交流会”将于7月16日在浙江大学玉泉校区举办。宽禁带半导体电力电子技术的应用、宽禁带半导体电力电子器件的封装、宽禁带电力电子技术
2017-07-11 14:06:55
电流和FRD的恢复电流引起的较大的开关损耗,通过改用SiC功率模块可以明显减少,因此具有以下效果:开关损耗的降低,可以带来电源效率的改善和散热部件的简化(例:散热片的小型化,水冷/强制风冷的自然风冷化
2019-03-12 03:43:18
,损耗更低,高温环境条件下工作特性优异,有望成为新一代低损耗元件。②SiC功率元器件SiC是在热、化学、机械方面都非常稳定的化合物半导体,对于功率元器件来说的重要参数都非常优异。作为元件,具有优于Si
2017-07-22 14:12:43
显示的是将用来驱动LMG5200的Hercules模块。图1:具有死区发生器的Hercules PWM模块GaN与Hercules功率级是天生的一对儿。它们在工业和汽车应用中都能发挥很好的作用
2022-11-17 06:56:35
高效率和高密度的功率转换。如表所示,与Si和SiC相比,具有相似RDS(on)的GaN功率晶体管在LLC关键参数方面具有很大的优势。Co(tr)、Qgd、toff和Qg的值越低,LLC转换器在效率
2023-02-27 09:37:29
应用看,未来非常广泛且前景被看好。与圈内某知名公司了解到,一旦国内品牌谁先成功掌握这种技术,那它就会呈暴发式的增加。在Si材料已经接近理论性能极限的今天,SiC功率器件因其高耐压、低损耗、高效率等特性
2019-09-17 09:05:05
1. 器件结构和特征SiC能够以高频器件结构的SBD(肖特基势垒二极管)结构得到600V以上的高耐压二极管(Si的SBD最高耐压为200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替换现在主流产品快速PN结
2019-05-07 06:21:51
针对可靠的高功率和高频率电子设备,制造商正在研究氮化镓(GaN)来制造具有高开关频率的场效应晶体管(FET)由于硅正在接近其理论极限,制造商现在正在研究使用宽带隙(WBG)材料来制造高效率的大功率
2022-06-15 11:43:25
采用热传导率更优的SiC做衬底,因此GaN功率器件具有较高的结温,能在高温环境下工作。不同材料体系射频器件功率-频率工作区间GaN将在高功率,高频率射频市场优势明显相比于4G,5G的通信频段往高频波段
2019-04-13 22:28:48
(SiC)、氮镓(GaN)为代表的宽禁带功率管过渡。SiC、GaN材料,由于具有宽带隙、高饱和漂移速度、高临界击穿电场等突出优点,与刚石等半导体材料一起,被誉为是继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs
2017-06-16 10:37:22
请问一下SiC和GaN具有的优势主要有哪些?
2021-08-03 07:34:15
本文介绍了适用于5G毫米波频段等应用的新兴SiC基GaN半导体技术。通过两个例子展示了采用这种GaN工艺设计的MMIC的性能:Ka频段(29.5至36GHz)10W的PA和面向5G应用的24至
2020-12-21 07:09:34
未转换为射频输出功率的直流加载电源将作为热量耗散(除非晶体管的效率为100%)。· 因此,GaN 晶体管变得非常热,热管理成为重要的设计考虑因素。幸运的是,碳化硅基氮化镓(GaN on SiC) 能够
2018-08-04 14:55:07
新一代SiC/GaN功率转换器的完整IC生态系统的最高水准。设计平台类型众多,既有用于高电压、大电流SiC功率模块的隔离式栅极驱动器板,也有完整的交流/直流双向转换器,其中ADSP-CM419F的软件在
2018-10-22 17:01:41
描述此参考设计基于 LMG1210 半桥 GaN 驱动器和 GaN 功率的高电子迁移率晶体管 (HEMT),实现了一款数兆赫兹功率级设计。凭借高效的开关和灵活的死区时间调节,此参考设计不仅可以显著
2018-10-17 15:39:59
“功率半导体”多被用于转换器及逆变器等电力转换器进行电力控制。目前,功率半导体材料正迎来材料更新换代,这些新材料就是SiC(碳化硅)和GaN(氮化镓),二者的物理特性均优
2012-07-02 11:18:331387 据权威媒体分析,SiC和GaN器件将大举进入电力电子市场,预计到2020年,SiC和GaN功率器件将分别获得14%和8%市场份额。未来电力电子元器件市场发展将更多地集中到SiC和GaN的技术创新上。
2013-09-18 10:13:112463 这篇文章的目的是提供一个指南,高功率SiC MESFET和GaN HEMT晶体管的热性能的克里宽禁带半导体设备的用户。
2017-06-27 08:54:1123 安华高科技公司(Avago Technologies)推出了四款光电耦合器新产品,主要用于使用 SiC(碳化硅)和 GaN(氮化镓)制造的功率半导体器件等的门极驱动。新产品的最大特点是最大传播延迟
2017-09-12 16:07:001 1.GaN 功率管的发展微波功率器件近年来已经从硅双极型晶体管、场效应管以及在移动通信领域被广泛应用的LDMOS 管向以碳化硅(SiC)、氮镓(GaN) 为代表的宽禁带功率管过渡。SiC、GaN材料
2017-11-09 11:54:529 了解关键的ADI iCoupler®数字隔离、控制、传感和通信技术如何直接通过部署SiC和GaN功率转换及日益复杂的多级控制拓扑来解决面临的挑战。
2018-06-05 13:45:004830 功率半导体市场一直都处于温温不火的状态的,但是随着混合动力及电动汽车、电力和光伏(PV)逆变器的需求,GaN和SiC功率半导体市场规模呈现井喷式增长。
2018-05-23 15:00:059833 RFSW2100D是一种GaN-on-SiC大功率离散RF开关,设计用于军事和商业无线基础设施、工业/科学/医疗和通用宽带RF控制和交换应用。采用先进的高功率密度氮化镓(GaN)半导体工艺
2018-08-31 11:26:006 基于碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等材料的新型功率开关技术的出现促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技术的传统系统。
2018-10-04 09:03:004753 基于碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等材料的新型功率开关技术的出现促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技术的传统系统。
2019-01-05 09:01:093767 新一代逆變器採用GaN和SiC等先進開關技術。寬帶隙功率開關,具有更出色的功效、更高的功率密度、更小巧的外形和更輕的重量,通過提高開關頻率來實現。
2019-07-25 06:05:001892 新一代逆变器采用GaN和SiC等先进开关技术。宽带隙功率开关,具有更出色的功效、更高的功率密度、更小巧的外形和更轻的重量,通过提高开关频率来实现。
2019-06-21 06:16:002722 碳化硅(SiC)是最成熟的WBG宽带隙半导体材料, 它已经广泛用于制造开关器件,例如MOSFET和晶闸管。氮化镓(GaN)具有作为功率器件半导体的潜力,并且在射频应用中是对硅的重大改进。
2020-04-30 14:35:3111723 11月15日消息 根据 Omdia 的《2020 年 SiC 和 GaN 功率半导体报告》,在混合动力及电动汽车、电源和光伏逆变器需求的拉动下,碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)功率半导体的新兴市场
2020-11-16 10:19:322223 今日宽禁带半导体联盟秘书长陆敏博士发表了主题为“SiC和GaN功率电子技术及产业发展趋势”的演讲。
2020-12-04 11:12:042262 ,特别适用于5G射频和高压功率器件。 据集邦咨询(TrendForce)指出,因疫情趋缓所带动5G基站射频前端、手机充电器及车用能源等需求逐步提升,预期2021年GaN通讯及功率器件营收分别为6.8亿和6100万美元,年增30.8%及90.6%,SiC器件功率领域营收
2021-05-03 16:18:0010174 日前,SiC & GaN功率器件设计和方案商派恩杰官方正式宣告与德国Foxy Power合作组建欧洲&北美销售团队。
2021-09-09 09:39:171065 半导体的关键特性是能带隙,能带动电子进入导通状态所需的能量。宽带隙(WBG)可以实现更高功率,更高开关速度的晶体管,WBG器件包括氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半导体。
2022-04-16 17:13:015712 宽带隙半导体具有许多特性,这些特性使其对高功率、高温器件应用具有吸引力。本文综述了三种重要材料的湿法腐蚀,即ZnO、GaN和SiC。虽然ZnO在包括HNO3/HCl和HF/HNO3的许多酸性溶液
2022-07-06 16:00:211642 在基本半导体特性(带隙、临界电场和电子迁移率)的材料比较中,GaN 被证明是一种优异的材料。“Si 的带隙略高于一个电子伏特,临界电子场为 0.23 MV/cm,而 GaN 的电子迁移率和带隙更宽
2022-08-03 08:04:292748 由氮化镓 (GaN) 和碳化硅 (SiC)。基于 GaN 和 SiC 的器件可以提供最新一代电源应用所需的高性能。然而,它们极高的功率密度应该得到适当的管理,这使得创新的热管理技术成为一个需要考虑的关键方面。
2022-08-03 08:04:57996 随着硅接近其物理极限,电子制造商正在转向非常规半导体材料,特别是宽带隙(WBG)半导体,如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。由于宽带隙材料具有相对较宽的带隙(与常用的硅相比),宽带隙器件可以在高压、高温和高频下工作。宽带隙器件可以提高能效并延长电池寿命,这有助于推动宽带隙半导体的市场。
2023-02-05 14:25:15676 本文介绍了使用多个电流探头研究SiC和GaN功率半导体器件的电极间电容。它分为四部分:双电流探头法原理、测量结果、三电流探头法原理和测量结果。
2023-02-19 17:06:18350 氧化镓有望成为超越SiC和GaN性能的材料,有望成为下一代功率半导体,日本和海外正在进行研究和开发。
2023-04-14 15:42:06363 SiC和GaN被称为“宽带隙半导体”(WBG),因为将这些材料的电子从价带炸毁到导带所需的能量:而在硅的情况下,该能量为1.1eV,SiC(碳化硅)为3.3eV,GaN(氮化镓)为3.4eV。这导致了更高的适用击穿电压,在某些应用中可以达到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431 SiC与GaN的兴起与未来
2023-01-13 09:06:226 设计人员正在寻求先进技术,从基于硅的解决方案转向使用碳化硅 (SiC) 和氮化镓 (GaN) 等宽带隙 (WBG) 材料的功率半导体技术,从而在创新方面迈出下一步。他们寻求用于电动汽车 (EV) 的功率密度更高、效率更高的电路。
2023-11-12 11:30:001163 1月8日,Luminus Devices宣布,湖南三安半导体与其签署了一项合作协议,Luminus将成为湖南三安SiC和GaN产品在美洲的独家销售渠道,面向功率半导体应用市场。
2024-01-13 17:17:561042
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