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电子发烧友网>测量仪表>设计测试>利用不同的安表/电压源测量离子束

利用不同的安表/电压源测量离子束

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聚焦离子束显微镜(FIB-SEM)材料分析

一、FIB设备型号:Zeiss Auriga Compact 聚焦离子束显微镜 (FIB-SEM) 聚焦离子束(FIB)与扫描电子显微镜(SEM)耦合成为FIB-SEM双束系统后,通过结合相应的气体
2021-11-06 09:43:132785

一文详解离子束工艺技术

 二次离子质谱(SIMS)是一种分析方法。具有高空间分辨率和高灵敏度的工具。它使用高度聚焦的离子束(通常是氧气或(无机样品用铯离子)“溅射”样品表面上选定区域的材料。
2022-11-22 10:44:09651

聚焦离子束技术介绍

1、聚焦离子束技术(FIB) 聚焦离子束技术(Focused Ion beam,FIB)是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米
2023-01-16 17:10:221890

半导体行业之离子注入工艺(十)

当质谱仪选择了所需的离子后,离子将进入后段加速区域,射束电流与最后的离子能量被控制在该区内,离子束电流利用可调整的叶片控制,而离子能量则由后段加速电极的电位控制。
2023-06-04 16:38:261185

与传统溅射或热蒸发技术相比,离子束辅助沉积有哪些优势?

离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术,可与溅射或热蒸发工艺一起使用,以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量薄膜。
2023-06-08 11:10:22984

上海伯东大口径射频离子源成功应用于12英寸IBE 离子束蚀刻机

上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
2023-06-15 14:58:47665

KRi 射频离子源应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD

上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致
2023-05-25 15:53:36770

AMEYA360分析蔡司用于亚10纳米级应用的离子束显微镜

蔡司用于亚10纳米级应用的离子束显微镜ORION NanoFab,集 3 种聚焦离子束于一身的显微镜,可以实现亚 10 nm 结构的超高精度加工快速、精准的亚 10 纳米结构加工。借助 ORION
2023-07-19 15:45:07244

双束聚焦离子束FIBSEM在微电子技术中的应用

博仕检测聚焦离子束FIB-SEM测试案例
2023-09-04 18:49:41461

美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用

上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种
2023-05-11 13:26:30

KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积
2023-05-25 10:18:34

KRi 离子源 e-beam 电子蒸发系统辅助镀膜应用

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积
2023-05-25 10:22:37

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