延续7纳米制程领先优势，台积电支援极紫外光(EUV)微影技术的7纳米加强版(7+)制程将按既定时程于3月底正式量产，而全程采用EUV技术的5纳米制程也将在2019年第2季进入风险试产。 据了解，独家
2019-02-13 10:08:15
4409 电子发烧友网报道（文/周凯扬）作为目前最先进的半导体制造设备，EUV光刻机的诞生是由各个部件在技术上的集体突破才最终成型的，比如光刻胶、掩膜板和镜组等等。但最为关键的还是EUV名号中的极紫外光
2023-02-13 07:04:004326 在9月份召开的“SEMICON Taiwan 2014”展览会上，ASML公司的台湾地区销售经理郑国伟透露，第3代极紫外光（EUV）设备已出货6台。
2014-10-11 09:09:541795 “7纳米是很重要的节点，是生产工艺第一次转向EUV的转折点。三星和台积电都宣布了将采用EUV(极紫外光微影)技术在7纳米，而EUV是摩尔定律能够进一步延续到5纳米以下的关键。” Gartner(中国
2017-01-19 10:15:491397 在日前于美国举行的西部光电展（Photonics West）上，业界多家厂商探讨了极紫外光（EUV）微影所需的250W光源、具有发展前景的红外线与近红外线摄影机，以及利用雷射发光二极管（LED）光源进行数据通讯等议题。
2017-03-09 07:50:452523 在三星决定7nm率先导入EUV后，让EUV输出率获得快速提升，台积电决定在7nm强化版提供客户设计定案，5nm才决定全数导入。
2017-08-23 08:38:231779 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
他们正在研发下一代极紫外光刻机的，计划在2022年年初开始出货，2024/2025年大规模生产。 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。根据
2020-03-18 09:16:392659 制造的各道工序，不少晶圆厂在新建之际时，都要对该地区的电力输送进行大改。 极度耗电的EUV 光刻机 由于制造EUV光源的能源转换效率并不算高，所以哪怕7nm节点下，EUV光刻机的目标功耗只有250W，其实际需要的电力供应依然惊人。一台EU
2023-10-25 01:14:001062 ，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
污染物将严重改变受照物体表面的吸收特性。除非另有规定，试验时应当保证样品的清洁，但在评定表面污染物的作用时，有关规范应规定样品表面处理等必要内容；5、紫外光耐气候试验箱湿度在不同湿度条件下，各种材料、涂料
2017-09-07 15:07:23
自然界的阳光和湿气对材料的破坏，每年造成难以估计的经济损失，紫外光耐气候试验箱可以再现阳光、雨水和露水所产生的破坏。设备通过将待测材料曝晒放在经过控制的阳光和湿气的交互循环中，同时提高温度的方式
2018-03-01 10:47:14
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
真空紫外辐射有高于共价键键能的光子能量,可在室温下激起化学反应。自上世纪80年代,基于稀有气体介质阻挡放电的准分子真空紫外光灯面世以来,真空紫外光源有了很大的发展,商业化的准分子真空紫外光灯已有上百
2010-05-06 08:56:18
`有时自己做一些PCB，闲来无事，利用紫外光LED和一个网购定时模块制作了一个曝光箱，还没进行PCB实操，放一个变色镜在上面，十几秒就变色，上图`
2018-01-30 14:47:54
7nm以下的工艺也将导入EUV技术。据***媒体报道，台积电5nm制程将于今年第二季度量产。据台积电介绍， 5nm是台积公司第二代使用极紫外光（EUV）技术的制程，其已展现优异的光学能力与符合预期的良好
2020-02-27 10:42:16
本文介绍了一种基于AMBE-2000的紫外光语音系统设计。实验证明，紫外光语音通信系统具有低窃听率、低位辨率、全方位、高抗干扰能力、音质优、功耗低等特点。
2021-03-31 06:04:34
原文来源：如何对紫外光老化试验箱的维护保养工作小编：林频仪器 为了使紫外光老化试验箱能过能好的工作，所以我们平时一定要对其进行定期的维护和保养，这样才能让它一直处于良好的工作状态，那我们在平时
2016-09-05 15:05:57
德国UV7800紫外光管道非开挖修复机器人系统开创式的配电设计，可以上UV灯链支持拓展延长，固化效率提升1/3以上。同时设备可采用电脑程序控制或独立的PLC系统控制。在突发事故中，平板电脑发生故障
2019-12-13 14:27:25
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
的物理现象：一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用，这个区域被叫做日盲区，到达地面的日盲区紫外光辐射在海平面附近几乎衰减为零；另一现象是地球表面的日盲区紫外光被大气
2019-06-18 08:00:06
或评估影响产品耐用性的组成变化等方面有极大的帮助。设备可以极好地预测产品将在户外遭遇的变化。 尽管紫外光（UV）只占阳光的5％，但是它却是造成户外产品耐用性下降的主要光照因素。这是因为阳光的光化学
2017-10-11 15:40:19
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:16:48
新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光
2010-06-17 17:27:381470 介绍了国内外紫外光通信系统几种紫外光源的发展,并从光谱特点、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的应用特点。指出了紫外发光二极管(UVED)决定了未来紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:10
48 巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周公布上季财报亮眼，并宣布已接到新一代极紫外光（EUV）微影机台六部订单，有分析师推测，台积电可能订走了其中五台，即一口气买下5.5亿美元的设备。
2017-01-22 11:19:0326386 为对抗三星，台积电计划导入极紫外光(EUV)微影设备，决定在7纳米强化版提供客户设计、并在5纳米全数导入。这项决定引发群聚效应，激励相关设备供应链和材料厂全数动起来，抢进「台积大联盟」，以分到市场。
2018-06-17 11:27:002411 EUV光刻机的唯一供应商ASML在2017年度Semicon West半导体设备展上也表示，250瓦的EUV光源也万事俱备。公司2017年财报中也强调，其EUV光刻机满足了125WPH（每小时生产
2018-01-23 14:51:008018 
前些天，新闻曝光的中芯国际花了1．2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，而根据最新消息称，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
2018-06-29 11:24:008478 三星官网发布新闻稿，三星、高通宣布扩大晶圆代工业务合作，包含高通下一代5G移动芯片，将采用三星7纳米LPP（Low-Power Plus）极紫外光（EUV）制程。 新闻稿指出，通过7纳米LPP
2018-02-23 07:31:561279 纳米电子与数字技术研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)技术。
2018-03-19 15:08:308347 随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
2018-03-31 11:52:005861 台积电为防堵强敌三星在七纳米导入极紫外光（EUV）及后段先进封装，抢食苹果新一代处理器订单，已加速在七纳米强化版导入极紫外光时程。供应链透露，台积电可望年底建构七纳米强化版试产线，进度追平或超前三星，让三星无夺苹机会。
2018-04-08 11:22:00896 Borodovsky在采访中表示，另一个可能导致5nm缺陷的因素是现有的EUV光阻剂材料缺乏均匀度。此外，他还表示支持直接电子束写入，因为EUV使用的复杂相移光罩最终将膨胀至目前浸润式光罩价格的8倍。
2018-04-11 15:59:3711349 
非关键层面上首次尝试使用EVU极紫外光刻系统，工艺节点从CLN7FF升级为CLN7FF+，号称晶体管密度可因此增加20%，而在同样密度和频率下功耗可降低10%。 台积电5nm(CLN5)将继续使用荷兰
2018-05-15 14:35:133793 
尽管极紫外光(EUV)步进机的大量生产面临复杂的问题以及紧迫的时间，专家们仍然抱持乐观态度...
2018-06-01 16:01:492726 传三星电子（Samsung Electronics）启动采用极紫外光（EUV）微影设备的DRAM生产研发，虽然三星目标2020年前量产16纳米DRAM，不过也有可能先推出17纳米制程产品。
2018-08-17 17:07:22709 今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。
2018-10-17 15:44:564730 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光，而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。
2018-11-01 09:44:264269 “ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副总裁Anthony Yen表示，ASML已开始开发极紫外（EUV）光刻机，其公司认为，一旦当今的系统达到它们的极限，就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 全球三大晶圆代工厂台积电、英特尔、三星，最快将在2019年导入极紫外光微影技术（EUV），值得注意的是，全球可提供EUV光罩盒的业者只有两家，家登是其中之一，且家登已经通过艾司摩尔（ASML）认证，此举无疑宣告，家登今年EUV光罩盒将大出货，公司更透露，接单强劲，目前已有供给告急压力。
2019-01-03 11:16:374248 随着晶圆代工厂台积电及记忆体厂三星电子的7纳米逻辑制程均支援极紫外光（EUV）微影技术，并会在2019年进入量产阶段，半导体龙头英特尔也确定正在开发中的7纳米制程会支援新一代EUV技术。
2019-01-03 11:31:593812 就在日前，半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔 （ASML） 在财报会议上表示，2019 年 ASML 将把极紫外光刻机 （EUV） 的年出货量从 18 台，提升到30 台之后，现有外国媒体报导，晶圆代工
2019-02-13 16:53:038511 据台媒2月12日报道，为延续7纳米制程领先优势，台积电支持极紫外光(EUV)微影技术的7nm加强版制程将按既定时间于3月底正式量产，而全程采用EUV技术的5nm制程也将在今年第2季进入风险试产。
2019-02-16 11:11:154482 将光刻技术转移到EUV波段意味着材料和光源的巨大变化。新的13.5纳米EUV等离子体光源取代了193纳米波长的紫外激光器。光子能量随着波长的减小而增加，因此来自激光驱动的新型等离子体EUV光源的每个光子所携带的能量是来自旧激光光源的光子的14倍。
2019-03-16 10:32:215629 国内知名关键性贵重材料之保护、传送及储存解决方案整合服务商家登日前正式发布新一代EUV极紫外光光罩传送盒G/GP Type同时获全球最大半导体设备商ASML认证，G/GP Type 版本可用于NXE:3400B，家登加速进入EUV微影技术先进裂程，大量制造全面启航。
2019-03-20 10:21:455638 台积电指出，5nm制程将会完全采用极紫外光(EUV)微影技术，因此可带来EUV技术提供的制程简化效益。5nm制程能够提供全新等级的效能及功耗解决方案，支援下一代的高端移动及高效能运算需求的产品。目前，其他晶元厂的7nm工艺尚举步维艰，在5nm时代台积电再次领先。
2019-04-04 16:05:571660 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 继台积电、三星晶圆代工、英特尔等国际大厂在先进逻辑制程导入极紫外光（EUV）微影技术后，同样面临制程微缩难度不断增高的DRAM厂也开始评估采用EUV技术量产。三星电子今年第四季将开始利用EUV技术生产1z纳米DRAM，SK海力士及美光预期会在1α纳米或1β纳米评估导入EUV技术。
2019-06-18 17:20:312438 当前半导体制程微缩到10纳米节点以下，包括开始采用的7纳米制程，以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程，EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备。藉由EUV设备导入，不仅加快生产效率、提升良率，还能
2019-07-05 15:32:482520 台积电近日宣布，已经开始了7nm+ EUV工艺的大规模量产，这是该公司乃至整个半导体产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。作为EUV设备唯一提供商，市场预估荷兰ASML公司籍此EUV设备年增长率将超过66%。这个目标是否能实现？EUV工艺在发展过程中面临哪些挑战？产业化进程中需要突破哪些瓶颈？
2019-10-17 15:57:302351 截至目前，华为麒麟990 5G是唯一应用了EUV极紫外光刻的商用芯片，台积电7nm EUV工艺制造，而高通刚发布的骁龙765/骁龙765G则使用了三星的7nm EUV工艺。
2019-12-18 09:20:0315995 三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 当前在芯片制造中最先进的EUV（极紫外光刻）工艺被三星率先用到了DRAM内存颗粒的生产中。
2020-03-25 15:40:482003 芯片加工精度取决于光刻机光线的波长，光线波长越小，芯片精度越高。随着摩尔定律发展，芯片制造迈进10nm节点，波长13.4nm的EUV（极紫外光）就成为唯一的选择。
2020-07-20 09:27:172241 CFan曾在《芯希望来自新工艺！EUV和GAAFET技术是个什么鬼？》一文中解读过EUV（极紫外光刻），它原本是用于生产7nm或更先进制程工艺的技术，特别是在5nm3nm这个关键制程节点上，没有
2020-09-01 14:00:292234 台媒称，翔名切入台积电5nm极紫外光（EUV）光罩盒表面处理业务，与EUV光罩盒大厂接洽合作机会，以独家专利无电镀镍（ENP）表面处理技术来提升产品良率，目前该光罩盒厂正进行评估测试，未来获台积电EUV制程指定产品入场门票机会大增。
2020-07-24 17:27:20671 据中国台湾经济日报报道，三星（Samsung）明年可能导入极紫外光（EUV）技术生产内存，美光（Micron）企业副总裁、中国台湾美光董事长徐国晋表示，美光不打算跟进，目前并无采用 EUV 计划
2020-10-12 09:36:181660 台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 根据韩国媒体《BusinessKorea》的报道，日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:37:302866 日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML 的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。
2020-11-11 10:13:304278 
体上，三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时，口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 三星电子近期为争抢极紫外光（EUV）设备，高层频频传出密访ASML。继三星电子副会长李在镕（Lee Jae-yong）10月亲自赴荷兰拜会ASML执行长Peter Wennink后，又再度传出
2020-12-02 15:25:391847 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品，但就在近日，又有外媒豪言：这种顶尖的EUV极紫外光刻机，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 根据韩国媒体《Etnews》报导指出，目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光（Micron），因日前招聘网站开始征求EUV工程师，揭露美光也在进行EUV运用于DRAM先进制程，准备与韩国三星、SK海力士竞争
2020-12-25 14:33:101459 EUV光刻（即极紫外光刻）利用波长非常短的光，在硅片上形成数十亿个微小结构，构成一个芯片。与老式光刻机相比，EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 EUV（极紫外光）光刻机，是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来，有不少消息都指出，EUV光刻机耗电量非常大，甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915 半导体必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律即将发展到尽头的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。虽然在EUV相关设备市场中，荷兰ASML垄断了核心光刻机，但在“极紫外光刻曝光”周边设备中，日本设备厂家的存在感在逐步提升，尤其在检测、感光材料涂覆、成像等相关设备方面，日本的实力也是不容忽视的。
2021-01-16 09:43:112542 近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻（EUV）系统的出货，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 哈工大在国家急需时刻从不缺席，现在国家急需光刻机。哈工大的DPP-EUV光源出来，真的是史诗级成果，一流大学就应该有世界顶尖水平，这是哈工大在超精密加工，超精密测量领域几十年积累的结果！ 中科院
2021-02-01 10:41:4725937 日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV（极紫外）光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630 就在几天前，清华大学团队联合德国的研究机构实验证实了「稳态微聚束」(steady-state microbunching, SSMB)光源。这个光源的波长可以从太赫兹覆盖到极紫外波段，或许能成为EUV光刻机新的光源技术。
2021-03-30 10:43:088197 
美国媒体7月19日报道，美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机（极紫外光刻机）进入中国大陆。 报道称，中国政府此前与荷兰政府协商，要求允许中国公司购买ASML生产的EUV光刻机设备（极紫外光
2021-07-21 16:52:252126 美国华尔街日报7月19日报道，美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机（极紫外光刻机）进入中国大陆。 华尔街日报报道称，中国政府此前与荷兰政府协商，要求允许中国公司购买ASML生产的EUV
2021-07-25 17:35:152919 HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 [UVLED紫外光源]，别名紫外线固化光源，也称之为紫外发光二极管，属于冷光源，归类于是特种照明光源设备。按照光源形状，主要可分为UVLED点光源、UVLED线光源、UVLED面光源这三个类型
2022-12-28 10:03:102089 
过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 EUV要解决的不仅是波长问题，更重要的是，ASML的LPP EUV光源中，激光器需要达到20kW的功率，而这样的发射功率经过重重反射，达到焦点处的功率却只有350W左右。
2023-02-17 12:44:077659 DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术。
2023-03-20 14:23:2412166 需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 极紫外光刻的制约因素
耗电量高极紫外线波长更短，但易被吸收，可利用率极低，需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机，250W的功率，每天耗电达到三万度。
生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
上海伯东日本 Atonarp Aston™ 过程质谱分析仪通过快速, 可操作, 高灵敏度的分子诊断数据实现了更佳的反射板镀锡层清洁, 并且 Aston™ 过程质谱的实时氢气 H2 监测也降低了每个 EUV 工具的氢气消耗
2023-06-20 17:18:43259 
紫外光刻和曝光 是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术。在紫外光刻过程中，光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅，然后投射到光刻胶层上，形成所需的微细图案。 长期以来
2023-07-05 10:11:241026 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
2023-07-24 18:19:471095 EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 据本文介绍，锡液滴发生器是激光等离子型极紫外线（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。锡液滴目标具有高反复频率，小直径和稳定性好的特性。这篇论文显示了上海光仪器euv光源组最近对水滴发生器的研究发展，包括水滴的直径、重复频率、间隔、位置及稳定性等。
2023-09-05 10:27:171506 实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现，但汞灯的调制带宽非常小，这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:00484 
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615
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