日前,HCR慧辰资讯TMT互联网研究部新发布一份《2016年中国云服务市场研究报告》,报告就2016年中国云服务市场做了深刻的调研分析。
2016-08-14 02:36:002994 推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗?这也不太可能,7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺,研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年,部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。
2017-01-22 11:45:423424 硫酸(H2SO4)和过氧化氢(H2O2)混合物(SPM)用于各种湿法清洗工艺步骤。表2.1显示了SPM的一些常见清洁和表面处理顺序:
2022-07-11 17:26:015100 传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的,普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭(见下表)。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑,可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 在之前的文章里,我们介绍了晶圆制造、氧化过程和集成电路的部分发展史。现在,让我们继续了解光刻工艺,通过该过程将电子电路图形转移到晶圆上。光刻过程与使用胶片相机拍照非常相似。但是具体是怎么实现的呢?
2023-06-28 10:07:472427 光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241338 2014-2018年中国电子产品业发展趋势及投资规划研究报告 进入2014年以来,由于经济增长低于预期、关联行业低迷等综合因素影响,电子产品行业研究报告就是为了了解行情、分析环境提供依据,是企业了解
2014-06-17 15:12:30
2014-2018年中国电子产品业发展趋势及投资规划研究报告 进入2014年以来,由于经济增长低于预期、关联行业低迷等综合因素影响,电子产品行业研究报告就是为了了解行情、分析环境提供依据,是企业了解
2014-06-17 16:06:07
介质层上的光致抗蚀剂薄层上。 ②刻蚀工艺:利用化学或物理方法,将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去,从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺
2012-01-12 10:51:59
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17:47
关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
大家好,我们每天全网搜集各行各业的研究报告,了解一个行业从阅读这个行业的研报开始,今日分享目录如下:20210819分享目录:汽车与零部件行业智能汽车系列报告之三:智能座舱,智能座舱渗透率将快速提升
2021-08-31 06:46:43
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些?`
2020-03-03 15:31:05
的历史蚀刻工艺进行了两个主要的工艺更改,这使得这项工作成为必要。首先,我们从 Clariant AZ4330 光刻胶切换到 Shipley SPR220-3。我们发现后者的光刻胶具有更好的自旋均匀性
2021-07-06 09:39:22
全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告链接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在计算机类竞赛中的表现情况是评估相关高校计算机
2023-04-10 10:16:15
操作,并具备对PECVD或LPCVD工艺优化的能力; 4、 熟悉光刻工艺、湿法刻蚀;离子蚀刻(RIE, ICP etc)者优先;5、熟悉计算机操作,具备相关专业英语阅读能力; 6、工作认真细致、有
2012-12-19 22:42:16
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41:23
华为鸿蒙深度研究报告
2021-08-06 14:46:46
中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程
2021-10-14 09:58:07
图形反转工艺用于金属层剥离的研究研究了AZ?5214 胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术。用扫描电镜和台阶仪测试制作出的光刻胶断面呈倒台面,倾角约为60°,胶厚1?4μm。得到
2009-10-06 10:05:30
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 04:36 编辑
无人值班变电站电气设备音频监控系统技术研究报告
2012-08-20 12:32:29
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高,因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案,选择性大于100:1。
2021-01-08 10:12:57
2009年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告
《2009 年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告》是一份专业和深度的产业链结构研究报告,报告通过对全球及中国
2010-06-03 14:18:4231 2006年D类音频放大IC研究报告 “中国研究报告网”发布的《2006年D类音频放大IC研究报告》收集了国家机构和专业市调组织的最新统计数据,对该行业进行了深入全面的研究和分析
2010-07-01 21:37:5423 报告摘要: 《2009年全球及中国光伏逆变器产业链研究报告》是一份专业和深度的产业链结构研究报告,报告通过对全球及中国的光伏逆变器制造商的专门研究,获得了光
2010-11-12 02:35:3229 中国通信标准化协会(CCSA)日前在国内率先完成“UWB与TD-SCDMA干扰保护研究”的研究报告。今后还将陆续发布 “UWB与IMT-2000 FDD”、“UWB与GSM”、 “UWB与IMT-Advanced”研究报告。
2009-06-24 08:36:37679 2006年全球及中国太阳能多晶硅产业链研究报告
《2006年全球及中国太阳能多晶硅产业链研究报告》详细分析介绍了太阳能多晶硅材料从原材料硅砂-多晶硅-硅片-电池片-
2009-11-07 16:01:471002 Intel 22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上,Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆,并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52:581085 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210 移动互联网研究报告摘要
2011-03-29 10:04:2242 充电连接器研究报告,介绍目前的各种连接器及应用方面的知识
2012-02-03 16:55:4547 城镇化与智慧城市研究报告2014,感兴趣的可以下载观看。
2016-11-02 18:32:540 2016年IC行业深度研究报告,感兴趣的可以看一看。
2016-11-02 18:31:0921 2017-2020年伺服电机行业及市场研究报告
2017-01-14 01:56:570 2011年中国IC设计行业研究报告,作为IC芯片的设计参考资料
2017-02-28 15:07:591 6自由度机器人 双足竟步机器人研究报告 加代码
2017-04-10 11:19:1266 电子设计自动化技术的领导厂商 Mentor Graphics 近日发布一份《让你的工程师自由创新》的研究报告。中文版的报告全文可在Mentor Graphics的官方网站阅读和下载。
2018-03-20 15:07:00678 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273 本文首先介绍了PCB蚀刻工艺原理和蚀刻工艺品质要求及控制要点,其次介绍了PCB蚀刻工艺制程管控参数及蚀刻工艺品质确认,最后阐述了PCB蚀刻工艺流程详解,具体的跟随小编一起来了解一下吧。
2018-05-07 09:09:0940479 今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 在2018 GTI峰会上,华为联合中国移动发布了《云VR应用创新研究报告(2018)》(以下简称“报告”)
2018-07-07 11:09:075940 清华AMiner团队近日发布新一期研究报告——《计算机图形学研究报告》,报告全文共 53 页,从概念、技术、人才、会议、应用及相应趋势详细介绍了计算机图形学的相关内容。
2018-08-20 15:31:172811 随着技术的发展,今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,下一代将在2020年进入5nm工艺,2022年进入3nm工艺。目前第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,预计到5nm工艺将会上EUV光刻工艺。
2018-08-20 17:41:491149 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 该研究报告涵盖了全球区块链即服务市场的全面研究,包括预期期间区块链即服务市场的扩张速度。该报告提供了简明扼要的概述,并展示了未来一段时间内全球区块链即服务市场的规模和估值。全球区块链即服务市场
2019-02-13 11:45:021013 本文档的主要内容详细介绍的是2019年中国5G产业市场的研究报告分析。
2019-02-17 09:55:4911350 中国工业机器人产业研究报告
2019-04-26 14:33:183991 作为制造芯片的核心装备,光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平,日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化,国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术呢?
2019-06-16 11:18:408244 制造PCB时,会发生类似的光学对准。它们是光刻工艺的一部分,用于在PCB构建时铺设图案化层。不要因为出现弯曲的滑块而受到影响,当然也不要让PCB设计中的元件错位。了解如何正确规划光刻工艺,以及了解可能影响光刻工艺的因素并导致缺陷。
2019-07-26 08:35:012579 KLA-Tencor光刻工艺控制解决方案将产量优化至0.13微米 SAN JOSE - KLA-Tencor公司推出了一款工艺模块控制(PMC)解决方案芯片制造商实施和控制0.13微米及更小
2020-02-14 11:05:231114 三星宣布,位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺,这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 重要要点 l 什么是光刻? l 光刻工艺的类型。 l 光刻处理如何用于电路板成像。 l 工业平版印刷处理设计指南。 可以说,有史以来研究最多的文物是都灵裹尸布。进行广泛检查的原因,从来源的宗教建议
2020-09-16 21:01:161361 原文标题:干货|2020年碳碳复合材料行业研究报告 文章出处:【微信公众号:新材料在线】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。 责任编辑:haq
2020-10-09 10:17:453303 原文标题:干货|2020年硅碳负极材料研究报告 文章出处:【微信公众号:新材料在线】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。 责任编辑:haq
2020-10-09 10:21:092993 【2020年砷化镓行业研究报告】,供业内人士参考: 原文标题:【重磅报告】2020年砷化镓行业研究报告 文章出处:【微信公众号:新材料在线】欢迎添加关
2020-10-09 10:34:424064 在制造芯片的过程中,光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸,是芯片生产中最核心的工艺,占晶圆制造耗时的40%到50%。光刻机在晶圆制造设备投资额中约占23
2020-10-09 15:40:112189 台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业,目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 预计在2021-2022年之间达到顶峰。5G建设极大扩宽下游应用场景,终端用PCB前景大好。 基于此,新材料在线特推出【2020年印刷线路板(PCB)行业研究报告】,供业内人士参考。 原文标题:【重磅报告】2020年印刷线路板(PCB)行业研究报告 文章出处:【微信公众号
2020-12-26 09:24:446292 2021年智能家居行业研究报告
2021-09-02 15:56:5077 多层PCB内层的光刻工艺包括几个阶段,接下来详细为大家介绍多层PCB内层的光刻工艺每个阶段都需要做什么。 PART.1 在第一阶段,内层穿过化学制剂生产线。铜表面会出现粗糙度,这对于光致抗蚀剂的最佳
2021-09-05 10:00:162160 光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 。后一种工艺是集成电路微制造技术的基础。微电子工业不断增长的需求需要光刻材料(光刻剂),具有亚微米分辨率、高灵敏度、对微电子中常用的基质的良好粘附,以及对广泛的等离子体和湿化学蚀刻剂的高抗性。 非晶态半导体材料
2022-01-19 16:08:46375 近日,权威调研机构艾瑞发布了2021年艾瑞中国物联网研究报告,报告对中国物联网的产业发展历程、社会价值与经济价值、生态革命演变、市场规模与痛点,以及未来发展趋势进行了深入研究剖析,旨在为中国物联网
2022-02-22 09:54:002074 光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2022-06-21 09:30:0916641 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 根据所使用的辐射,有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中,有部分不透明和部分不透明的图案掩模(光片)半透明区域被使用。紫外线辐射或气体激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例减少。
2022-07-27 16:54:533169 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词,也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么,让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 来源:云天半导体 厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后,经过团队的不懈努力, 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺开发终破2/2um L/S大关; 以下为部分工艺
2022-11-30 17:07:07854 光刻胶经曝光后,其化学性质会发生改变。更准确地说,经曝光后,光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化:曝光后溶解度上升的物质称作正性(Positive)光刻胶,反之则为负性(Negative)光刻胶。
2023-01-31 15:59:491222 光掩模可以被认为是芯片的模板。光掩模用电子束图案化并放置在光刻工具内。然后,光掩模可以吸收或散射光子,或允许它们穿过晶圆。这就是在晶圆上创建图案的原因。
2023-03-03 10:10:321129 光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205860 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589 半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541223 电子发烧友网站提供《2022比亚迪汽车深度研究报告-2022-企业研究.pdf》资料免费下载
2022-05-12 17:30:507 中国人工智能产业研究报告
2023-01-13 09:05:361 2021中国FPGA芯片行业研究报告
2023-01-13 09:05:372 2021全球及中国FPGA安全行业研究报告
2023-01-13 09:05:381 2021年5G个人应用研究报告
2023-01-13 09:05:381 2021年中国FPGA芯片行业研究报告
2023-01-13 09:05:401 2021年中国半导体行业发展研究报告
2023-01-13 09:05:4316 2021年全球半导体产业研究报告
2023-01-13 09:05:4412 2021年智能家居行业研究报告
2023-01-13 09:05:504 2021年电子行业研究报告
2023-01-13 09:05:541 2021年通信深度研究报告
2023-01-13 09:05:561 中国5G+AI典型案例研究报告
2023-01-13 09:06:282 中国5G行业研究报告
2023-01-13 09:06:283 中国FPGA芯片行业研究报告
2023-01-13 09:06:286 中国商业物联网行业研究报告
2023-01-13 09:06:301 中国家用物联网行业研究报告
2023-01-13 09:06:302 中国成长型AI企业研究报告
2023-01-13 09:06:312 全球及中国5G合规测试行业研究报告
2023-01-13 09:06:402 全球及中国嵌入式电源行业研究报告
2023-01-13 09:06:412 全球及中国车载T-BOX行业研究报告
2023-01-13 09:06:419 半导体封装行业研究报告
2023-01-13 09:06:4413 2022年FPC行业深度研究报告
2023-03-01 15:37:333 FPC子行业深度研究报告-外厂策略重心转移
2023-03-01 15:37:391 电子发烧友网站提供《工业控制系统及其安全性研究报告.pdf》资料免费下载
2023-11-16 14:29:130 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中,k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度,ASML认为其物理极限在0.25,k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326
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