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过氧化氢溶液的作用解读 在半导体材料制备中硅晶片清洗

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过氧化氢在SC1清洁方案中的作用说明

效的颗粒去除剂。这种混合物也被称为氢氧化胺、过氧化氢混合物(APM)。SC-I溶液通过蚀刻颗粒下面的晶片来促进颗粒去除;从而松动颗粒,使机械力可以很容易地从晶圆表面去除颗粒。 本文将讨论一个详细的SC-I清洗的化学模型。了解导致氧化物同时生长和蚀刻的
2022-03-25 17:02:502376

湿台清洗中颗粒去除的新概念

对于亚微米或深亚微米 ULSI 的制造,完全抑制在硅晶片表面产生的颗粒和污染非常重要。清洁需求的传统概念是使用化学成分(APM、氨和过氧化氢混合物)发挥主要作用。不幸的是,SC-1 (APM) 对表
2022-03-30 14:29:42311

湿式清洗工艺在半导体制造中的重要作用

半导体行业的研究人员研究了臭氧对wafer-cleaning的应用程序。 来 降低化学品消耗,降低成本,提高清洗效率,对臭氧进行了研究作为一种替代,传统的硫酸-过氧化氢 RCA用碱性(SC-1)和酸性来清洗。它是 (SC-2)过氧化氢混合物 这是因为消毒活动产生的多重影响 。
2022-03-31 15:00:26681

一种除去晶片表面有机物的清洗方法

近年来,作为取代SPM(硫酸/过氧化氢清洗的有机物去除法,通过添加臭氧的超纯水进行的清洗受到关注,其有效性逐渐被发现。在该清洗法中,可以实现清洗工序的低温化、操作性的提高、废液处理的不必要
2022-04-13 15:25:211593

一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法

本发明公开了一种用湿式均匀清洗半导体晶片的方法,所公开的本发明的特点是:具备半导体晶片和含有预定清洁液的清洁组、对齐上述半导体晶片的平坦区域,使其不与上述清洁组的入口相对、将上述对齐的半导体晶片浸入
2022-04-14 15:13:57605

基于RCA清洗系统的热模型以及清洗液的温度控制法

化学反应,由于清洗系统具有处理腐蚀性清洗溶液的特殊设备,系统具有长而波动的时间滞后等。在这里,我们首先提出了一个系统的热模型,其中通过DSC(差分扫描量热法)方法,我们分析了清洗溶液的放热化学反应,如SPM(硫酸/过氧化氢混合物)、APM(氨/过氧化氢混合物)和HPM(盐酸/过氧化氢混合物)。
2022-04-15 14:55:27727

制备用于清洁半导体的新型H2O2水实验研究

酸和碱与过氧化氢水( H2O2水)的清洗液。目前市场上的工业H2O2水大部分采用蒽衍生物的自动氧化法生产。该制法是将蒽醌溶解于疏水性芳香族有机物中作为工作液使用的方法,合成的H2O2水中残留有少量疏水性有机物。另外,由于制造设备由不锈钢和铝等金属材料构成,因此来源于其的金属杂质也同样存在于H2O2水中。
2022-04-19 11:22:26677

半导体器件制造过程中的清洗技术

浸入氨水,过氧化氢溶液,盐酸等加热的化学品中。然而,最近,为了降低环境负荷的目的和半导体器件的多品种化,需要片叶式的清洗方法,喷射纯水的清洗工序正在增加。在单片式清洗中,超声波振动体型清洗装置是一种有效
2022-04-20 16:10:293200

用于硅晶圆的全新RCA清洗技术

RCA清洗技术是用于清洗硅晶圆等的技术,由于其高可靠性,30多年来一直被用于半导体和平板显示器(FPD)领域的清洗。其基础是以除去颗粒为目的的氨水-过氧化氢溶液组成的SC―1洗涤和以除去金属杂质
2022-04-21 12:26:571552

栅极氧化物形成前的清洗

氧化物的性质有害,这反过来影响整个器件的性质。 种程序用于清洁硅晶片。一个广泛使用的程序是标准的RCA清洁。RCA清洗包括暴露在三种不同的溶液中——SC1、氢氟酸和SC2。SC1溶液包含氢氧化铵、过氧化氢和水,通常能有效去除颗
2022-06-21 17:07:391229

单次清洗晶圆的清洗方法及解决方案

本文讲述了我们华林科纳的一种在单个晶圆清洗工艺中使用新型清洗溶液的方法,该方法涉及在单一晶片模式下使用清洗溶液,并且清洗溶液包括至少包括氢氧化铵(NH-OH)、过氧化氢(HO)、水(HO)和螯合剂
2022-06-30 17:22:112101

过氧化氢(双氧水)工艺资料(上)生产工艺原理

一、主要生产设备 二、生产工艺原理 (1)氢化反应 在钯触媒催化下,氢气与工作液中的2-乙基蒽醌发生氢化反应,生成2-乙基氢蒽醌。 一、稀品工段工艺流程简述 (1)工作液配制 过氧化氢生产中用的工作
2022-08-16 15:53:114433

过氧化氢(双氧水)工艺资料(下)

27.5%的过氧化氢进入原料液预热器与底部产品(热量回收)换热,温度从30℃加热到37℃左右后由进料泵送入降膜蒸发器。
2022-08-16 17:19:171569

氧掺杂碳量子点用于过氧化氢电合成

基于此,香港城市大学支春义教授(通讯作者)等人报道了一种以葡萄糖(C6H12O6)作为碳(C)源,制备出具有高氧/碳(O/C)原子比的碳量子点(carbon quantum dot, CQD)催化剂,其O含量为30.4 at%。
2022-08-19 09:36:221225

如何测量曝气期间和曝气后残留的过氧化氢

现在生物制剂是最有效和最有潜在价值的新治疗产品,包括多肽、蛋白质和抗体-药物偶联物(ADC),以及细胞、细胞衍生产品和基因疗法。这些产品在生产过程中,容易受到残留过氧化氢氧化或降解破坏,因为
2022-08-26 09:37:431064

调控电合成H2O2的多孔石墨烯催化剂活性位点

在Covid-19大流行的刺激下,随着整个医疗保健行业和消费者对消毒和清洁的抗菌需求不断增加,人们对稀释过氧化氢(H2O2)生产的研究越来越感兴趣。
2022-09-08 09:09:37622

过氧化氢检测仪/过氧化氢报警器介绍

搭配国外原装进口气体传感器,当目标气体进入气体探头部分后,内部的传感器会第一时间发出感应,传感器根据气体浓度的高低会产生一定电量信号,该信号经过电路放大处理后,由CPU经过AD采样、温度补偿、智能计算后,转换为对应的标准电压信号(如0-5V)
2022-09-29 15:00:351173

医疗机构终末消毒中双氧水浓度超标检测预警

过氧化氢又名双氧水,应对新发呼吸道传染病时常用消毒剂之一,许多国家批准用于食品容器的消毒,低浓度可用于饮用水消毒。过氧化氢是一种强氧化剂,纯过氧化氢加热到153℃以上会发生爆炸;能与水以任何比例混合
2022-12-13 14:03:12215

过氧化氢灭菌的湿度传感器HC2A-S-HH

过氧化氢(H2O2)用于对洁净室、生物隔离器、培养箱和其他设备进行消毒。在这个过程中,通过放气或喷雾使空气饱和,从而在所有表面上形成缩微胶片。过氧化氢能杀死所有微生物。然后将H2O2机械回收或允许
2023-04-24 16:48:37610

过氧化氢检测仪特点简要介绍

过氧化氢检测仪属于一款手持式气体检测仪,该仪器在实际应用中,具有一定的优势特点,而正是因为仪器具有这些特点,才可以使它更好的被我们所采用。为了方便大家更好的去了解过氧化氢检测仪,下面就跟大家介绍一下
2023-05-15 16:18:5390

肉类过氧化值检测仪哪家好

肉类过氧化值检测仪哪家好【霍尔德 HED-GY12】为集成化油品快速检测分析设备,肉类过氧化值检测仪能够快速检测食用植物油、食用猪油、花生油、葵花油、米糠油、食品、肉制品中的过氧化值含量;通过检测
2021-03-09 15:49:10350

荧光氧气传感器用于检测酶分解过氧化氢产生的氧气量应用方案

过氧化氢酶是一种广泛存在于各类生物体中的酶,它是一类抗氧化剂,其作用是催化过氧化氢转化为水和氧气的反应。过氧化氢酶也是具有最高转换数(与底物反应速率)的酶之一;在酶达饱和的状态下,一个过氧化氢酶分子
2023-08-01 11:31:06278

腐蚀pcb板的溶液是什么

腐蚀pcb板的溶液按抗蚀层类型与生产条件而选择:有酸性氯化铜、碱性氯化铜、三氯化铁、硫酸与过氧化氢、过硫酸盐等多种。下面捷多邦小编和大家介绍一下腐蚀pcb板的溶液的一些知识。 三氯化铁的蚀刻液是铜箔
2023-10-08 09:50:22743

简单认识半导体材料

的构成元素和它们在其中具体的个数。化学家使用更精确的术语“化合物”来描述元素的不同组合。因此,H2O(水),NaCl(氯化钠或盐),过氧化氢(过氧化氢)和As2O3都是不同的化合物,它们都是由单个分子的集合体组成的。
2023-12-03 14:07:21264

集成声学谐振器和电化学芯片的微流控平台实现过氧化氢检测

过氧化氢(H₂O₂)在调节细胞代谢、增殖、分化和凋亡方面起着至关重要的作用
2023-12-22 09:47:39226

半导体资料丨氧化锌、晶体硅/钙钛矿、表面化学蚀刻的 MOCVD GaN

蚀刻时间和过氧化氢浓度对ZnO玻璃基板的影响 本研究的目的是确定蚀刻ZnO薄膜的最佳技术。使用射频溅射设备在玻璃基板上沉积ZnO。为了蚀刻ZnO薄膜,使用10%、20%和30%的过氧化氢(H2O2
2024-02-02 17:56:45306

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