我们在之前的专栏文章《一枚芯片的实际成本是多少?》中着重探讨了芯片制造的硬件相关成本。今天我们将针对芯片硬件成本之外的软性成本进行解读。
2016-04-28 00:11:001830 有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑
先分享光刻的参考资料。============================2014-10-17========光刻分类
2014-09-26 10:35:02
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17:47
随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形,经循环往复百次后,在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域,最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻,整个流程中的一个重要步骤,其实并没有
2020-09-02 17:38:07
MEMS、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU8光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。在微流控芯片加工中,SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。运用
2018-07-12 11:57:08
和光刻成本的增加。 另外,在投影式曝光系统中,光束通常以一定的入射角进入光刻胶体内,胶膜越厚,形成的光刻胶图形尺寸也越大。为了得到精确的光刻胶图形,希望胶膜越薄越好。为了保证光刻图形转移无缺陷,胶膜也
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分,然后生成了图案是这样的: 感觉间距小的地方全都有残留,间距大的地方没有残留;工艺参数:s9920光刻胶, evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆,前烘:100摄氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年,位总部设在美国新泽西州,富兰克林市。 公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史,尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
、芯片封装和微加工等领域。目前,直接采用 SU- 8 光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。SU 8光刻胶光刻前清洗工艺:为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要
2018-07-04 14:42:34
就可能在掩膜版上造成损伤,这样在今后所有利用这块掩膜版进行暴光的硅片上都会出现这个缺陷.因此,采用接触式光刻很难得到没有缺陷的超大规模集成电路芯片,所以接触式光刻技术一般只适用于中小规模集成电路。
2012-01-12 10:56:23
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41:23
中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
更高的亮度。 激光刻划的优势 - 可以干净整齐的刻划硬脆性材料 - 非接触式工艺低运营成本 - 减少崩边、微裂纹、分层等缺陷的出现 - 刻划线条窄提高了单片晶圆上的分粒数量 - 减少微裂纹
2011-12-01 11:48:46
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备,主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS(微机电系统)等微细结构。光刻机是一种光学投影技术,通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273 在半导体芯片制造设备中,投资最大、也是最为关键的是光刻机,光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比,具有生产率高、成本低、易实现高的对准和套刻精度、掩模制作相对简单、工艺条件容易掌握等优点,一直是半导体芯片制造产业中的主流光刻技术。
2018-04-10 11:26:34205917 光刻技术是集成电路最重要的加工工艺。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147 ,不过它的底片是涂满光敏胶(也叫光刻胶)的硅片。各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上,光刻胶的曝光部分与硅片进行反应,将其永久的刻在硅片上,这是芯片生产的最关键步骤。 由于光刻机在芯片最后的封装,以及平板显示器件生产都可以用到,所以这里的光刻机一般特指芯片生产的前道光刻
2018-07-29 11:16:005435 这是一种老式的旋转涂胶机,将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边,可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面,光刻胶只有均匀涂抹在芯片表面,才能保证光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 飞利信表示,公司芯片属于自主可控芯片。目前,公司芯片处于光刻(平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺)的最后阶段。
2018-07-18 14:32:025531 在集成电路的制造过程中,有一个重要的环节——光刻,正因为有了它,我们才能在微小的芯片上实现功能。
2018-12-29 15:32:095670 在集成电路的制造过程中,有一个重要的环节——光刻,正因为有了它,我们才能在微小的芯片上实现功能。
2019-01-03 15:31:596279 光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-03-03 10:00:314088 光刻机的作用有多大,在这时候就体现出来了。即便是自己能够研发出芯片了,但是没有光刻机还是不能批量生产。并且就现在来说国际上的光刻机咱们国家大陆地区还是买不到的,似乎是在进行技术封锁,这也就苦了华为这样能够自主研发芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007 光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。
2019-11-23 10:45:54158604 光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-12-21 09:58:4020182 众所周知,说起芯片,大家就会想到光刻机,说起光刻机,大家就会想到ASML。因为在芯片生产中,光刻机特别重要,而ASML又是高端光刻机的垄断者,占了85%以上的高端市场。
2020-02-20 20:30:455443 2月28日,美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术,不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能,还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10,大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388 作为芯片制造的核心设备之一,光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉,光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中,生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 %,再考虑到光刻工艺步骤中的光刻胶、光刻气体、光罩(光掩膜板)、涂胶显影设备等诸多配套设施和材料投资,实则整个光刻工艺占到了芯片成本的三分之一左右。
2020-10-09 15:40:112189 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 ”的。 (硅晶圆上的集成电路和电子元器件) 光刻技术,正是半导体芯片得以出现的关键技术之一,也仍然是今天芯片的核心制造工艺,光刻机更是被誉为半导体产业皇冠上的明珠。 在试图探讨我国如何实现半导体产业突围的当下,光
2020-10-30 08:54:13116 芯片硬件成本 芯片硬件成本包括晶圆成本+掩膜成本+封装成本+测试成本四部分,写成一个公式就是芯片硬件成本=(晶圆成本+掩膜成本+封装成本+测试成本)/ 最终成品率 晶圆是制造芯片的原材料,晶圆成本
2020-11-05 09:32:504018 在集成电路的制造过程中,有一个重要的环节光刻,正因为有了它,我们才能在微小的芯片上实现功能。 根据维基百科的定义,光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画
2020-11-11 10:14:2022384 12月2日消息,据国外媒体报道,全球第一大芯片代工商台积电,能够获得大量的芯片代工订单,除了领先的制程工艺,还得益于阿斯麦所供应的大量先进的光刻机,在第二代7nm和5nm所需要的极紫外光刻机方面,尤其如此,他们获得的极紫外光刻机的数量,远多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 摘要:芯片制造用到的技术很多,光刻是芯片制造的灵魂技术,但是开始的时候,光刻并不是所有技术中最厉害的。现在大众认识到了芯片的重要性,讨论芯片产业的卡脖子问题时,提到最多的是光刻和光刻机。那么,光刻
2020-12-04 15:45:285142 在光刻机领域一家独大的荷兰光刻机巨头ASML,占据着芯片行业的顶端,毕竟没有了他们的设备,想要造出先进工艺制程的芯片是没戏的。 财报披露,ASML2020年全年净销售额140亿欧元,毛利率为48.6
2021-01-22 10:38:164677 2600万片晶圆采用EUV系统进行光刻。随着半导体技术的发展,光刻的精度不断提高,2021年先进工艺将进入5nm/3nm节点,极紫外光刻成为必修课,EUV也成为半导体龙头厂商竞相争夺采购的焦点。未来,极紫外光刻技术将如何发展?产业格局如何演变?我国发展半导体产业应如何解决光刻技术的难题?
2021-02-01 09:30:232588 光刻机是我国芯片制造业一大痛点,目前,在EUV光刻机赛道中,仅有ASML一个玩家。
2021-03-02 15:29:139297 以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何? ● 晶圆为什么是圆的? ● 不同制程的芯片之间有何区别? ● 什么是逻辑芯片,逻辑芯片又包括哪些? ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 、用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的
2021-03-27 10:00:371469 用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机
2021-03-30 18:17:272075 众所周知,想要在芯片领域打破由欧美国家所垄断的市场,必须要解决光刻机的问题,这是传统硅基芯片制造过程中最为重要的一环。而在光刻机领域,荷兰的ASML则是光刻机领域金字塔最顶尖的企业,尤其是在极紫外光领域
2021-04-16 14:31:124401 光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺,光刻机是制造芯片的核心装备,在芯片的制作中,几乎每个工艺的实施,都需要用到光刻技术。可以说,光刻机是半导体界的一颗明珠。那么光刻机原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 因为在科技圈发生的各种问题,比如华为等企业被美国供断芯片,国内一度为芯片供应问题而一筹莫展,很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面,传统硅基芯片制造必定需要光刻机,纳米
2021-08-27 17:22:2336827 因为在科技圈发生的各种问题,比如华为等企业被美国供断芯片,国内一度为芯片供应问题而一筹莫展,很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面,传统硅基芯片制造必定需要光刻机,纳米
2021-08-31 09:40:0713616 最近光博会上看到一本关于光刻的小册子,里面有一点内容,分享给大家。 关于光刻的原理、光刻设备、光刻胶的种类和选择等。 开篇 光刻的原理 表面处理:一般的晶圆光刻前都需要清洁干净,特别是有有机物
2021-10-13 10:59:423893 光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢?
2022-01-03 17:30:0086844 光刻机作为芯片的核心制造设备,也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产,还可以用于封装和用于LED制造领域。
2022-01-03 16:43:0016302 光刻机是芯片制造的重要设备,内部结构精密复杂,它决定着芯片的制程工艺,是芯片生产中不可少的关键设备,而且光刻机的技术门槛极高,整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术
2021-12-30 09:46:534123 光刻机制作芯片过程非常复杂,而光刻机是制造芯片最重要的设备之一,由于先进光刻机的技术封锁,中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后,也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。
2021-12-30 11:23:2111145 光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 按照光刻机的理想工作状态,一台光刻机一天能生产800×600颗芯片,也就是48万颗芯片,除去产品中的一部分次品,一天剩下的大概在40万颗芯片左右。
2022-02-05 16:15:00203950 光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 来源: 果壳硬科技 1、光刻胶究竟是怎样一个行业? 光刻胶,又称“光致抗蚀剂”,是光刻成像的承载介质,可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量,从而把微细图形从掩模版转移到
2022-01-20 21:02:461208 在比较我们的单片设计与小芯片 MCM 设计时,我们的光刻工具时间显着增加,因为晶圆必须扫描 1.875 倍。这是因为狭缝的很大一部分没有得到充分利用。
2022-06-21 14:43:451185 光刻机是制作芯片的关键设备,利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光,使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺,如上海微电子装备公司(CMEE)制程90nm工艺的光刻机,那么90nm光刻机能生产什么芯片呢?
2022-06-30 09:46:2131257 光刻机是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断,那么全球最先进的光刻机是多少nm的?中国现在又能够做出几nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116 芯片想必大家都很熟悉,光刻机是是制造芯片的核心装备,并且光刻机只有一小部分国家拥有,那么光刻机为什么这么难呢? 据说越小的东西,建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228522 首先光刻胶成分复杂,一瓶光刻胶需要光引发剂、光增感剂、光致产酸剂、树脂、稀释剂、溶剂、助剂这些材料组成,而且配方都是保密的。
2022-07-25 16:27:574270 光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:215304 刘世元介绍,光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺,通过光刻成像系统,将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小,硅片上的曝光图形会产生畸变。
2022-11-28 09:49:56690 日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391837 光刻机是芯片智造的核心设备之一,也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此,荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻,但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 光刻是在晶圆上创建图案的过程,是芯片制造过程的起始阶段,包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。
2023-04-25 09:22:16696 在整个芯片制造过程中,几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 芯片前道制造可以划分为七个环节,即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57:093765 光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205860 外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
2023-06-14 10:16:38226 外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
2023-06-26 17:00:19766 外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
2023-06-29 10:02:17329 外,学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告,实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
2023-06-30 10:06:02261 紫外光刻和曝光 是半导体行业生产各种高端芯片、微观电路结构的核心技术。在紫外光刻过程中,光源发射的紫外线通过掩模上的微小透镜或光栅,然后投射到光刻胶层上,形成所需的微细图案。 长期以来
2023-07-05 10:11:241026 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589 光刻是半导体加工中最重要的工艺之一,决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%,占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材,其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24360 得以延续。 在高速增长的半导体市场里,半导体制造商们不断创新,芯片集成度越来越高,对光刻技术也提出了越来越高的要求。随着芯片集成度的与日俱增正在对半导体产业链带来前所未有的挑战,制造商们渴求更高效、更低成本
2023-07-16 01:50:153009 电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:002917
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