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原作者：Shiyuan Liu
编辑：黄飞
光刻工艺的8个基本步骤 光刻机结构及工作原理
- 光刻(29860)
- 光刻机(46249)
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EUV光刻机就位后仍需解决的材料问题
荷兰造价上亿的庞大机器到位并组装好后，并不意味着EUV光刻机的生产工作完全准备就绪。随着先进工艺晶圆制造中图案化策略和分辨率重视程度的攀升，为了满足这些需求，与EUV光刻技术相关的材料同样需要纳入考量，尤其是光刻胶和防护膜。 EUV光
2022-07-22 07:49:00
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2403EUV光刻工艺可用到2030年的1.5nm节点
推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。
2017-01-22 11:45:423424
3424光刻工艺的基本步骤
传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的，普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭（见下表）。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑，可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995
13995半导体制造之光刻工艺讲解
光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241338
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除ASML之外的光刻机厂商们近况如何？
尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机厂商尼康和佳能为例，他们就仍在
2022-11-24 01:57:004865
4865密度提升近3倍，高NA EUV光刻机有何玄机
电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199
2199光刻技术原理及应用
介质层上的光致抗蚀剂薄层上。 ②刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺
2012-01-12 10:51:59
光刻胶
用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。SU-8光刻胶的光刻工艺将 SU- 8光刻胶组分旋涂在基材上，旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片经过前烘并冷却至室温。在烘干
2018-07-12 11:57:08
光刻机MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)
`光刻机MPA500FAb用光栅尺传感器(扫描部位)供应。型号：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
光刻机是干什么用的
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38:07
光刻机工艺的原理及设备
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
Microchem SU-8光刻胶 2000系列
、芯片封装和微加工等领域。目前，直接采用 SU- 8 光刻胶来制备深宽比高的微结构与微零件已经成为微加工领域的一项新技术。SU 8光刻胶光刻前清洗工艺：为了获得更好的光刻效果，在进行光刻胶旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
《炬丰科技-半导体工艺》光刻前 GaAs 表面处理以改善湿化学蚀刻过程中的光刻胶附着力和改善湿蚀刻轮廓
的历史蚀刻工艺进行了两个主要的工艺更改，这使得这项工作成为必要。首先，我们从 Clariant AZ4330 光刻胶切换到 Shipley SPR220-3。我们发现后者的光刻胶具有更好的自旋均匀性
2021-07-06 09:39:22
三种常见的光刻技术方法
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
单片机晶圆制造工艺及设备详解
的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入机、清洗机、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。
2018-10-15 15:11:22
魂迁光刻，梦绕芯片，中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻机定位双频激光干涉仪
光刻机的工作台是一个六自由度的运动台，其中X/Y向运动台是的核心基础工序。管控XY轴角度Yaw和Pitch，直线度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪
光刻胶（光敏胶）进行光刻，将图形信息转移到基片上，从而实现微细结构的制造。光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻胶上，通过掩膜版（也称为光刻掩膜）上的图形
2023-07-07 11:46:07
光刻胶与光刻工艺技术
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
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荷兰光刻机为什么厉害_为何光刻机不卖给中国
荷兰作为光刻的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰光刻机为什么厉害，为何光刻机不卖给中国的原因。
2017-12-19 14:56:42124546
124546看懂光刻机:光刻工艺流程详解
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273
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一文解析刻蚀机和光刻机的原理及区别
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
2018-04-10 09:49:17131483
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一文看懂asml光刻机工作原理及基本构造
在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它光刻技术相比，具有生产率高、成本低、易实现高的对准和套刻精度、掩模制作相对简单、工艺条件容易掌握等优点，一直是半导体芯片制造产业中的主流光刻技术。
2018-04-10 11:26:34205917
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EUV光刻工艺终于商业化 新一代EUV光刻工艺正在筹备
达到理想状态，EUV工艺还有很长的路要走。在现有的EUV之外，ASML与IMEC比利时微电子中心还达成了新的合作协议，双方将共同研发新一代EUV光刻机，NA数值孔径从现有的0.33提高到0.5，可以进一步提升光刻工艺的微缩水平，制造出更小的晶体管。
2018-10-30 16:28:403376
3376关于光刻机国内外市场现状分析
光刻机是半导体产业中最关键设备，也被誉为半导体产业皇冠上的明珠。集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
2019-01-23 09:18:0222456
22456为何光刻机不卖给中国
谈起光刻机相信大家首先想到的是荷兰，确实如此，荷兰光刻机在全球都是数一数二的，就连最顶尖的光刻机制造公司ASML也位于荷兰，二荷兰光刻机之所以这么出名，很大程度是由于荷兰在这方面下了很大的功夫，比如技术投入、研发团队以及资金投入都是其他国家难以比拟的。
2019-03-14 14:17:5417823
17823一份关于国产光刻机龙头——上海微电子的介绍
光刻机应用广泛，包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻机以及用于LED领域及面板领域的光刻机等等。封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻机与IC前道光刻机工艺相比技术精度也更低，一般为微米级。
2019-04-28 13:55:52228194
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ASML光刻机的工作原理，光刻机制造难度有多大？
测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是双工作台。一般的光刻机需要先测量，再曝光，只需一个工作台，而ASML有个专利，有两个工作台，实现测量与曝光同时进行。而本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目则是在技术上突破ASML对双工件台系统的技术垄断。
2019-05-15 17:56:4118393
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中国与国外相比较光刻工艺差别到底在哪里
作为制造芯片的核心装备，光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平，日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化，国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术呢？
2019-06-16 11:18:408244
8244ASML光刻机机密被中国人窃取？
在半导体制造过程中，最重要的一个过程就是光刻工艺，需要用到光刻机，7nm及以下节点工艺则需要EUV光刻机，目前只有荷兰ASML公司能生产，每台售价超过1亿欧元，可以说是半导体行业的明珠了，是门槛非常高的先进技术。
2019-07-12 10:38:434279
4279关于EUV光刻机的分析介绍
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845
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一文读懂光刻机的工作原理
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
2019-11-23 10:45:54158604
158604光刻机为何在我国是个难题
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的光刻机，这已经十分不容易了，这可是0的突破。那么为什么光刻机这么难造呢？
2020-01-29 11:07:007799
7799光刻机公开全部图纸也模仿不了
众所周知，说起芯片，大家就会想到光刻机，说起光刻机，大家就会想到ASML。因为在芯片生产中，光刻机特别重要，而ASML又是高端光刻机的垄断者，占了85%以上的高端市场。
2020-02-20 20:30:455443
5443我国有哪些光刻机企业？
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术，如德国的光学设备、美国的计量设备等，可以说是“集人类智慧大成的产物”，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4874615
74615光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机
，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1189226
89226光刻机是谁发明的_中国光刻机与荷兰差距
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最为关键，因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。
2020-03-18 11:00:4172452
72452光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，我国高端的光刻机，基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388
44388音圈电机在光刻机掩模台系统中的应用
作为芯片制造的核心设备之一，光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉，光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中，生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999
999开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞？
顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38:3911513
11513提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机（Mask
2020-08-28 14:39:0411746
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擦肩而过的光刻机
1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。
2020-09-20 10:35:027124
7124政策助力光刻机行业发展，我国光刻机行业研发进度仍待加快
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162
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只有阿斯麦能够供应的EUV光刻机到底有多难造?
在制造芯片的过程中，光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸，是芯片生产中最核心的工艺，占晶圆制造耗时的40％到50％。光刻机在晶圆制造设备投资额中约占23
2020-10-09 15:40:112189
2189政策助力光刻机行业发展,top3企业销售量呈现波动增长的态势
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-10-10 17:17:071496
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1.2亿美元光刻机
荷兰阿斯麦（ASML）公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器，相信大家都有耳闻，它是加工芯片的设备。其最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片，据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054438
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一文详解光刻机技术
最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，我为什么会这样说呢？
2020-10-19 11:42:5120305
20305EUV光刻机还能卖给中国吗？
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647
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ASML的EUV光刻机已成台积电未来发展的“逆鳞”
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425
1425光刻机的工作原理以及关键技术
导读：光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。 光刻机的工作原理： 利用光刻机
2022-12-23 13:34:547273
7273销量占比达20%，ASML向中国销售光刻机已达700台
作为半导体制造中的核心设备，光刻机无疑是芯片产业皇冠上的明珠，特别是先进工艺的光刻机，7nm以下的都要依赖ASML公司，EUV光刻机他们还是独一份。
2020-11-09 17:11:382195
2195光刻技术为中心的行业壁垒，EUV光刻机并非是是中国半导体行业的唯一症结
在一颗芯片诞生的过程中，光刻是最关键又最复杂的一步。 说最关键，是因为光刻的实质将掩膜版上的芯片电路图转移至硅片，化虚为实。说最复杂，是因为光刻工艺需要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻
2020-11-26 16:19:192472
2472紫外线探测器的性能特点及在光刻机中的应用研究
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干
2020-12-28 14:17:152440
2440关于紫外线探测器在紫外光刻机中的应用
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095
2095ASML垄断第五代光刻机EUV光刻机：一台利润近6亿
在光刻机领域一家独大的荷兰光刻机巨头ASML，占据着芯片行业的顶端，毕竟没有了他们的设备，想要造出先进工艺制程的芯片是没戏的。 财报披露，ASML2020年全年净销售额140亿欧元，毛利率为48.6
2021-01-22 10:38:164677
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12亿美元，中芯国际订购光刻机
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少。那么，中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些类型的光刻机，包含EUV光刻机吗？
2021-03-10 14:36:559465
9465中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别？
以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何？ ● 晶圆为什么是圆的？ ● 不同制程的芯片之间有何区别？ ● 什么是逻辑芯片，逻辑芯片又包括哪些？ ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476
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光刻机原理介绍
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772
125772光刻机原理怎么做芯片
光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺，光刻机是制造芯片的核心装备，在芯片的制作中，几乎每个工艺的实施，都需要用到光刻技术。可以说，光刻机是半导体界的一颗明珠。那么光刻机原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869
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芯片制造公司光刻机的情况
光刻机是芯片制造的重要设备，内部结构精密复杂，它决定着芯片的制程工艺，是芯片生产中不可少的关键设备，而且光刻机的技术门槛极高，整个设备的不同部位采用了世界上最先进的技术
2021-12-30 09:46:534123
4123光刻机制作芯片过程
光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后，也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。
2021-12-30 11:23:2111145
11145刻蚀机能替代光刻机吗
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到，并且刻蚀机的精度十分笼统，而光刻机对精度的要求十分细致，所以刻蚀机不能代替光刻机。
2022-02-05 15:47:0039913
39913光刻胶和光刻机的关系
光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281
11281光刻机干啥用的
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813
85813光刻机是干什么用的 光刻机厂商有哪些
光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用于光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436
29436三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634
5634euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗
大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米呢？ 到现在，世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766
42766euv光刻机是哪个国家的
是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977
6977euv光刻机是干什么的
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066173
6173duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
78127euv光刻机原理是什么
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术，具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:1015099
15099光刻机为什么这么难呢
芯片想必大家都很熟悉，光刻机是是制造芯片的核心装备，并且光刻机只有一小部分国家拥有，那么光刻机为什么这么难呢？ 据说越小的东西，建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228522
8522俄罗斯预计2028年生产7nm工艺制造的光刻机
光刻机誉为“现代半导体行业皇冠上的明珠”，是一种高度复杂的设备。光刻机是通过紫外光作为“画笔”，把预先设计好的芯片电路路线书写在硅晶圆旋涂的光刻胶上，光刻工艺直接决定了芯片中晶体管的尺寸和性能，是芯片生产中最为关键的过程。
2022-10-27 09:39:024118
4118一文详解光刻机的工作原理
是的！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相。机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上， 如此便可把被摄物体的影像复制到底片上。
2022-11-21 10:03:067316
7316除ASML之外的光刻机厂商们近况如何？
电子发烧友网报道（文/周凯扬）尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商，凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘，主导着半数以上的市场份额，但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 07:10:033222
3222一文解析光刻机的工作原理
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2022-12-01 09:32:113700
3700密度提升近3倍，高NA EUV光刻机有何玄机
电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952
952晶圆上绘制电路光刻工艺的基本步骤
光刻胶经曝光后，其化学性质会发生改变。更准确地说，经曝光后，光刻胶在显影液中的溶解度发生了变化：曝光后溶解度上升的物质称作正性（Positive）光刻胶，反之则为负性（Negative）光刻胶。
2023-01-31 15:59:491222
1222知识分享---光刻模块标准步骤
通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征，以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像，并具有所需的侧壁轮廓。
2023-06-02 16:30:25421
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芯片制造之光刻工艺详细流程图
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205860
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激光干涉仪与光刻机的缘分
光刻机是集成电路生产的关键设备之一，在整个生产过程中占据重要的地位。高精度的工作台作为光刻机核心部件之一，其运动性能和定位精度决定了光刻工艺所能实现的线宽和产率。光刻机的工作台是一个六自由度的运动
2022-03-08 09:07:46859
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什么是光刻工艺？光刻的基本原理
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589
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光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326
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全面解析***结构及工作原理
光刻与光刻机
➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。
➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
光刻机结构及工作原理
➢光刻机简介
➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245
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光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359
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光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4143
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工商网监
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