全球最大的半导体制造设备供应商荷兰ASML今天披露说，他们将按计划在2015年提供450毫米晶圆制造设备的原型，Intel、三星电子、台积电等预计将在2018年实现450毫米晶圆的商业性量产，与此同时，极紫外（EUV）光刻设备也进展顺利，将在今年交付两套新的系统。
2013-04-21 09:42:14
1285 数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。 常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息
2012-01-12 10:51:59
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比
2018-07-12 11:57:08
`紫外线，简称UV，它对人们既有有利的方面，又有有害的方面，优点是杀菌促进骨骼发育，但是长时间接触会使皮肤老化产生斑点皮肤炎乃至皮肤癌、促进白内障。 紫外线照射到织物上，一部分被吸收，一部分被反射
2017-11-29 17:02:53
紫外光耐气候试验箱主要是用于橡胶等材料的老化试验，采用了阳光中的紫外线辐射，来对试验材料进行老化试验，结合模拟温度、湿度、凝露模拟气候条件，对试验材料进行综合性老化试验。一般情况下，发生老化的试验
2017-09-07 15:07:23
自然界的阳光和湿气对材料的破坏，每年造成难以估计的经济损失，紫外光耐气候试验箱可以再现阳光、雨水和露水所产生的破坏。设备通过将待测材料曝晒放在经过控制的阳光和湿气的交互循环中，同时提高温度的方式
2018-03-01 10:47:14
光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性。SU-
2018-07-04 14:42:34
真空紫外辐射材料加工的研究报道急剧增加,本文将简要介绍DBD准分子紫外光源的特点及其在材料加工中的研究和应用,包括无机薄膜制备、半导体材料氧化、材料表面清洗、过渡金属化合物还原、高分子合成和聚合物表面
2010-05-06 08:56:18
`有时自己做一些PCB，闲来无事，利用紫外光LED和一个网购定时模块制作了一个曝光箱，还没进行PCB实操，放一个变色镜在上面，十几秒就变色，上图`
2018-01-30 14:47:54
单片机解密IC芯片破解用紫外光有问题会出现呢？在单片机解密IC芯片破解的过程中，有时要用到紫外光技术。但使用不当会容易产生问题。深圳爱体半导体有限公司为你简单罗列一些紫外光技术用于解密不同型
2017-03-20 17:23:00
本文介绍了一种基于AMBE-2000的紫外光语音系统设计。实验证明，紫外光语音通信系统具有低窃听率、低位辨率、全方位、高抗干扰能力、音质优、功耗低等特点。
2021-03-31 06:04:34
原文来源：如何对紫外光老化试验箱的维护保养工作小编：林频仪器 为了使紫外光老化试验箱能过能好的工作，所以我们平时一定要对其进行定期的维护和保养，这样才能让它一直处于良好的工作状态，那我们在平时
2016-09-05 15:05:57
德国UV7800紫外光管道非开挖修复机器人系统开创式的配电设计，可以上UV灯链支持拓展延长，固化效率提升1/3以上。同时设备可采用电脑程序控制或独立的PLC系统控制。在突发事故中，平板电脑发生故障
2019-12-13 14:27:25
【作者】：吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴;【来源】：《强激光与粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍缩放电等离子体极紫外光源系统中的主脉冲电源,给出了主电路拓扑结构,重点介绍了三级磁
2010-04-22 11:41:29
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境
2019-06-18 08:00:06
紫外光老化试验是电子元器件，织物制品常见的测试试验，用于测试电子元器件，织物制品抵抗紫外光性能。紫外光老化试验箱是一种模拟太阳光照的光老化试验设备，它主要模拟阳光中的紫外光。同时它还可以再现雨水
2017-10-11 15:40:19
紫外光由于具有口盲特点而使其在通信方面有着特殊的的必要性及优越性，紫外光的调制与接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要区别点；介绍了，紫外光通信系统的构成原
2009-07-16 10:02:36
34 本文介绍了紫外通信系统中的视频传输领域，详细介绍了国内外紫外光通信的发展形势，以及紫外光视频传输中遇到的问题和解决方案。基于TI 生产的DM6437 开发板，使用H.264 作为
2009-12-18 17:18:0620 紫外光通信系统由于其特殊的波段范围和特殊的运用方向而受到了广泛的重视。文章主要介绍了紫外光通信的原理，以及G.729编解码标准算法在DM6437 DSP开发板上实现的软硬件设计
2009-12-19 16:31:4610 紫外光通信系统由于其特殊的波段范围和特殊的运用方向而受到了广泛的重视。文章主要介绍了紫外光通信的原理,以及G.729编解码标准算法在DM6437 DSP开发板上实现的软硬件设计方法,
2010-07-17 17:41:149 新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光
2010-06-17 17:27:381470 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210 介绍了紫外 光通信 特点和信道模型，以LED为光源、光电倍增管为光接收器设计无线紫外光数字通信系统方案，研制了无线紫外光通信设备样机，在不同条件下进行实验。实验结果表明
2011-06-08 15:01:1851 介绍了国内外紫外光通信系统几种紫外光源的发展,并从光谱特点、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的应用特点。指出了紫外发光二极管(UVED)决定了未来紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:1048 最新半导体与电子元器件全球授权分销商贸泽电子（Mouser Electronics） ，即日起开始分销Vishay Intertechnology的VEML6070紫外光传感器。VEML6070为一款先进的CMOS紫外（UV）光传感器，具备I2C协议接口和高动态检测精度。
2015-07-08 15:18:432179 针对紫外光通信做了相应研究，希望广大研究爱好者能够有所帮助
2016-03-11 10:33:095 紫外光通信及其军事应用
2017-09-01 14:49:180 前些天，新闻曝光的中芯国际花了1．2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，而根据最新消息称，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
2018-06-29 11:24:008478 纳米电子与数字技术研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)技术。
2018-03-19 15:08:308347 台积电为防堵强敌三星在七纳米导入极紫外光（EUV）及后段先进封装，抢食苹果新一代处理器订单，已加速在七纳米强化版导入极紫外光时程。供应链透露，台积电可望年底建构七纳米强化版试产线，进度追平或超前三星，让三星无夺苹机会。
2018-04-08 11:22:00896 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2018-07-17 15:34:2813346 今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。
2018-10-17 15:44:564730 本文档的主要内容详细介绍的是紫外光电管的原理图详细资料免费下载。
2018-10-18 08:00:0019 1、起始电压：在一定强度的紫外光照射下，紫外光电管开始导通所需要施加的最低电压。2、灵敏度（计数率）：在规定的工作电压和一定强度的紫外光照射下，光电管每秒钟导通的次数。 （三段测试电压）
2018-11-30 08:00:002 “ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副总裁Anthony Yen表示，ASML已开始开发极紫外（EUV）光刻机，其公司认为，一旦当今的系统达到它们的极限，就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2019-02-21 15:40:375540 极紫外光刻时代的大幕已拉开……
2019-02-27 13:41:11611 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 本文档的主要内容详细介绍的是紫外光电管测试电路原理图免费下载。
2019-06-19 08:00:0014 三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 10:50:591943 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545045 紫外光手持治疗光棒主要由光源系统,控制电路组成.UVB（TL01）辐射灯管的紫外线光谱波长应在310nm~315nm范围内,最大峰值在310nm~314nm。
2020-03-17 14:32:002153 紫外灯管介绍：荧光紫外灯光源，是模拟自然阳光中的紫外光辐射。
2020-03-20 11:45:14659 据国外媒体报道，半导体行业光刻系统供应商ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机（EUV），调查公司Omdia表示，其中约一半面向大客户台积电。ASML此前公布，2019年，共向客户交付了26
2020-04-09 11:20:062310 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364093 4月17日消息，据国外媒体报道，在智能手机等高端设备芯片的工艺提升到5nm之后，能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要，而作为目前全球唯一能生产极紫外光刻机的厂商，阿斯麦的供应量直接决定了各大芯片制造商5nm芯片的产能。
2020-04-18 09:09:433544 顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38:3911513 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境
2020-12-28 10:27:005 荷兰阿斯麦（ASML）公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器，相信大家都有耳闻，它是加工芯片的设备。其最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片，据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054438 据国外媒体报道，已经推出了两款极紫外光刻机的阿斯麦，正在研发第三款，计划在明年年中开始出货。
2020-10-15 16:14:111565 日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML 的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:552396 
11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。
2020-11-11 10:13:304278 
在5nm、6nm工艺大规模投产、第二代5nm工艺即将投产的情况下，芯片代工商台积电对极紫外光刻机的需求也明显增加。而外媒最新援引产业链消息人士的透露报道称，台积电已向阿斯麦下达了2021的极紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 员广泛应用，但是市场对于塑料、油漆、印刷油墨和染料等产品的检测需求日益增加，而这些产品检测更适合采用紫外（UV）照明。过去，这些产品的检测受到了紫外光源成本过高的限制。然而，随着低成本紫外LED照明的出现，这些应用正变得越来越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:192887 近日，据外媒报道，在芯片制程工艺方面一直落后于台积电的三星电子，目前正在寻求加强与极紫外光刻机供应商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研发。
2020-11-24 14:54:522073 12月2日消息，据国外媒体报道，全球第一大芯片代工商台积电，能够获得大量的芯片代工订单，除了领先的制程工艺，还得益于阿斯麦所供应的大量先进的光刻机，在第二代7nm和5nm所需要的极紫外光刻机方面，尤其如此，他们获得的极紫外光刻机的数量，远多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。
2020-12-11 13:40:541386 光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095 对于阿斯麦（ASML）来说，他们正在研发更先进的光刻机，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。 ASML是全球目前唯一能制造极紫外光刻机的厂商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287 12月29日消息，据国外媒体报道，ASML正在研发更先进、效率更高的高数值孔径极紫外光刻机：NXE:5000系列，设计已经基本完成，预计在2022年开始商用。
2020-12-30 10:29:302159 据国外媒体报道，台积电和三星电子的芯片制程工艺，均已提升到了 5nm，更先进的工艺研发也在推进，并在谋划量产事宜。 在制程工艺提升到 5nm 之后，也就意味着台积电、三星等厂商，对极紫外光刻机的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，对极紫外光刻机的需求会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:543321 如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之大的需求令可以说是史上的天量，三星英特尔急了。
2021-01-26 09:22:051158 对于台积电来说，他们今年依然会狂购极紫外光刻，用最先进的工艺来确保自己处于竞争的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。 为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之
2021-01-27 09:56:082956 近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻（EUV）系统的出货，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 2月2日消息，据国外媒体报道，台积电和三星电子，从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，用于为苹果、高通等客户代工最新的智能手机处理器。 而从外媒的报道来看，除了台积电和三星，存储芯片制造商SK海力士
2021-02-02 18:08:482632 2月25日消息，据国外媒体报道，芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星，已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:011530 UV4000紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用;材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样
2021-06-02 15:22:05624 UV4000紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用;材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。 紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样
2021-06-17 15:34:56452 一台高端的光刻机由上万个零部件构成，光刻机的主要核心部件主要分为两个部分：分别是对准系统和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0016944 紫外光通信是以大气分子和子溶胶粒子的散射和吸收为基础的。紫外光通信基于两个相互关联的物理现象：一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用，这个区域被叫做日盲区
2022-03-18 10:11:034253 光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺，如上海微电子装备公司（CMEE）制程90nm工艺的光刻机，那么90nm光刻机能生产什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后，与有机污染物发生光敏氧化作用,不仅能去除污染物而且能改善表面的性能，从而提高物体表面的浸润性和粘合强度，或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据
2022-08-18 16:16:301080 
EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 UV紫外光导电银浆固化不彻底的主要原因有哪些 SHAREX在导电银浆领域已经有十多年的开发经验，特别是最近开发的AS5100系列UV紫外光固化导电银浆获得客户的广泛认可，由于光固化银浆是个新生的品类
2022-10-15 15:05:501206 
热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道，光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971 科学家利用选择性紫外光刻实现复合纤维材料的光纤微图案化
2022-12-22 14:58:13194 
极紫外光刻的制约因素
耗电量高极紫外线波长更短，但易被吸收，可利用率极低，需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机，250W的功率，每天耗电达到三万度。
生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
MODEL：XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程
2022-12-20 09:24:261211 
，半导体制造领域使用 传统大功率汞灯技术 用于光刻设备的紫外光源。这种光源虽然输出功率高，但输出光谱范围宽，制造和生产过程中会产生对环境有害的物质，并且工作寿命短，更换周期频繁。 UVLED 具有独特的技术优势和成本优势，能够输
2023-07-05 10:11:241026 
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
在uvitron，我们直接了解紫外光固化设备如何成为许多行业的关键技术，紫外光固化系统的好处很多，该技术对许多工业过程的效率、质量和可持续性产生了重大影响。
2023-07-21 11:42:17286 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现，但汞灯的调制带宽非常小，这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:00484 
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
厦门大学康俊勇教授、尹君副教授课题组根据致病菌中遗传物质、蛋白质的紫外光吸收特性，开发了一种由275-nm氮化物LED组成的大功率（3.2 W）且辐照均匀的平面光源，能够在1秒内完成对新冠病毒
2023-10-17 15:22:23878 
电子发烧友网站提供《基于单LED的无线紫外光通信系统设计与实现.pdf》资料免费下载
2023-10-26 14:32:211 紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。
2023-11-28 09:38:20538 
在面对紫外光子成像技术时，面临着诸多挑战。光子密度大、需要高频触发采集，以及实时计算光子位置进行谱图绘制，这些都对采集设备的性能提出了极高的要求。
2024-03-20 09:56:0777 
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