10月15日，据国外媒体报道，目前全球顶尖的光刻机生产商ASML正在研发第三款EUV光刻机，并计划于明年年中出货。 从其所公布的信息来看，新款光刻机型号命名为TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
3456 对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:002403 推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。
2017-01-22 11:45:423424 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004735 ，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不小的贡献，也让欧洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 ，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机就是EUV光刻机，当然这绝对不是单纯只换个光源这么简单
2020-07-07 14:22:55
三种常见的光刻技术方法根据暴光方法的不同,可以划分为接触式光刻,接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术。 ◆投影式暴光是利用透镜或反射镜将掩膜版上的图形投影到衬底上的暴光方法.在这种暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
深圳大学现代通信技术测试题目录简述1到4G特点（从代表的系统、主要技术及传输的指标三方面）： 25G的主要KPI指标（列表给出5个） 25G的主要核心技术（给出10个） 35G手机（华为mate30
2021-07-26 08:31:09
快照】：极紫外(EUV)光刻技术一直被认为是光学光刻技术之后最有前途的光刻技术之一,国际上对EUV光刻技术已开展了广泛的研究[1-4]。在EUV光刻技术中,EUV光源是其面临的首要技术难题。实现EUV
2010-04-22 11:41:29
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
进入10nm工艺节点之后，EUV光刻机越来越重要，全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了，他们总共卖出18台EUV光刻机，总价值超过20亿欧元，折合每套系统售价超过1亿欧元，可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻机的唯一供应商ASML在2017年度Semicon West半导体设备展上也表示，250瓦的EUV光源也万事俱备。公司2017年财报中也强调，其EUV光刻机满足了125WPH（每小时生产
2018-01-23 14:51:008018 
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
2018-03-31 11:52:005861 据业内最新消息，全球最大的芯片机器制造商、荷兰的AMSL证实，中国向荷兰订购一台最新型的使用EUV（极紫外线）技术的芯片制造机器光刻机，订货单位是中芯国际。这也几乎花掉了中芯国际2017年的所有利润，该公司去年的净利润为1.264亿美元。
2018-05-20 10:32:3713638 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得
2018-06-27 15:43:5011776 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 年代的投影式光刻机，1980年代的步进式光刻机，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和现在的EUV光刻机，设备性能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。 EUV作为下一代技术的代表，不需要多重曝光
2018-11-02 10:14:19834 用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme Ultra-Violet，极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野，从7nm阶段的技术节点到今年(2019年，也是从今年开始)，每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展。
2019-01-21 10:45:562999 
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-02-25 10:07:535812 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
2019-03-02 09:41:2911136 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-03-03 10:00:314088 多重成像技术结合起来使用，但这在无形中提升了制造成本，拉长了工艺周期。为了通过提升技术成本来平衡工序成本和周期成本，厂商们将底牌压在了EUV光刻机身上，但是EUV真的能够满足厂商们的期盼吗？
2019-04-03 17:26:554449 由于三星去年就小规模投产了7nm EUV，同时ASML（荷兰阿斯麦）将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台，显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:037913 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限，极紫外 （EUV） 光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点，EUV 光刻技术是一种能够简化图案形成工艺的支持技术。要在如此精细的尺寸下进行可靠制模，超净的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 
截至目前，华为麒麟990 5G是唯一应用了EUV极紫外光刻的商用芯片，台积电7nm EUV工艺制造，而高通刚发布的骁龙765/骁龙765G则使用了三星的7nm EUV工艺。
2019-12-18 09:20:0315995 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术，不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆，并交付了57个3400x EUV系统（3400平台是EUV生产平台）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 据韩媒报道，三星副董事长李在镕在访问荷兰期间，在会议上要求ASML在一个月内交付三星已购买的9台EUV光刻设备。 报道称，ASML正在审查三星的要求，这部分EUV设备最早可于11月运往韩国。 据悉
2020-10-30 14:13:081269 11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。
2020-11-11 10:13:304278 
IT之家 11 月 16 日消息 据韩国媒体 BusinessKorea 上周报道，韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。但并没有提到是哪一家企业，合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业
2020-11-16 14:19:471817 援引韩媒 BusinessKorea 报道，以三星为代表的韩国企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。根据对韩国知识产权局（KIPO）过去十年（2011-2020）的 EUV 相关专利统计，在 2014 年达到 88 项的顶峰，2018 年为 55 项，2019 年为 50 项。
2020-11-16 17:26:111397 的《过去10年（2011-2020年）专利申请报告》显示，2014年，向韩国知识产权局（KIPO）提交的与EUV光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值，2018年达到55件，2019年达到50件。 特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专
2020-11-16 18:07:471355 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 09:33:371298 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 10:25:182211 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品，但就在近日，又有外媒豪言：这种顶尖的EUV极紫外光刻机，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后，三星也坐不住了。 按照三星的说法，自2014年以来，EUV光刻参与的晶圆超过了400万片，公司积累了丰富的经验，也比其它厂商掌握
2020-12-04 18:26:542201 之前有消息称，台积电正在筹集更多的资金，为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机，而这些都是为了新制程做准备。
2020-12-29 09:22:482192 EUV光刻（即极紫外光刻）利用波长非常短的光，在硅片上形成数十亿个微小结构，构成一个芯片。与老式光刻机相比，EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 呢？OFweek君根据公开资料整理出了一些原因，供读者参考。 与DUV（深紫外光）光刻机相比，EUV光刻机的吞吐量相对较低，每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片－175片之间，技术改进后，速度可以提升至275片每小时。但相对而言，EUV生产效率还是更高，
2021-02-14 14:05:003915 近期三星为争抢EUV设备，高层频频传出密访ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一个家喻户晓的名字，但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造半导体必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律即将发展到尽头的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。
2021-01-16 10:32:574386 目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度财报会议上，荷兰ASML（阿斯麦）表示，预计今年将出货交付40台EUV光刻机，比去年多9台。
2021-01-21 15:16:431369 %，净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先，一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机，这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机，带来了45亿欧元（折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 2019 年底在旧金山举办的年度国际电子元件会议（IEDM）上，台积电公布的两个报告标志着集成电路制造迈入了EUV 光刻时代。第一个报告宣布了应用EUV 光刻技术的7 纳米世代的改良版芯片已经
2021-02-19 09:18:203017 
随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻
2021-02-25 09:30:232047 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 11:39:091844 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单，另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:411757 5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别？ EUV光刻机产能如何？ 大飞_6g（听友） 请问谢博士，EUV光刻机的产能是怎样的？比如用最先进的光刻机，满负荷生产手机芯片麒麟990，每天能产多少片？中芯国际有多少台投入生产的光刻机？是1台、5台还是10台呢？谢谢 谢志
2021-03-14 09:46:3023476 日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV（极紫外）光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630 7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。
2022-04-07 14:49:33488 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:45
0 年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机，并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道：台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去，将首先与合作伙伴进行相关的研究。 据了解，High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径，相比于现在的光刻技术，
2022-06-17 16:33:276499 在芯片研发的过程中，光刻机是必不可少的部分，而随着芯片制程工艺的不断发展，普通的光刻机已经不能满足先进制程了，必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程，而目前台积电和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先进的EUV光刻机，只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米呢？ 到现在，世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766 机是哪个国家的呢？ euv光刻机许多国家都有，理论上来说，芯片强国的光刻机也应该很强，但是最强的光刻机制造强国，不是美国、韩国等芯片强国，而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备，其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢？下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116 与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 我们当然也清楚，从国外进口就代表着就多出一份钱，毕竟技术掌握在别人手里，不管量有多大，归根结底还是要比生产成本价高出不少。而想要自己生产出高端芯片，就不得不提到一个让我们耳熟能详的仪器——EUV光刻机。
2022-11-21 10:59:304400 该专利提供一种光刻装置，该光刻装置通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的累积光强均匀化，从而达到匀光的目的，进而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。
2022-11-23 09:57:021081 电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 挑战性。制造商正在关注称为极紫
外(EUV) 光刻的先进制造技术。
EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展，其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻
的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041792 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
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