对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:00
2403 相干光通信的理论和实验始于80年代。由于相干光通信系统被公认为具有灵敏度高的优势，各国在相干光传输技术上做了大量研究工作。经过十年的研究，相干光通信进入实用阶段。
2020-04-17 15:17:111796 
极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004735 作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了7nm之下不可或缺的制造设备
2021-12-01 10:07:4110988 电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 、LR4和ER4三款，加上ZR4 Lite和数字相干光模块（DCO）这两款新增的产品，可以覆盖400m至2000km以内的所有100G光互连应用。易飞扬完整的100G CFP2产品线一直以来，100G
2020-10-30 09:41:05
DWDM与它的前身非常相似。但是，在100G网络中它通常用于实现更长距离的传输。PAM4和相干是两个行业领先的解决方案，可提供更大的带宽和传输距离。在比较100G DWDM PAM4与相干光模块时，它
2021-03-04 10:05:34
段内速率增长了10倍：从2011年的40G增长到今天的400G，在不久的将来还会有800G的可插拔光模块出现。图1：相干DWDM模块的演变相干光学技术的引入是DWDM系统开发中最重要的创新之一。相干光
2021-01-29 15:33:56
WDM环网结构，低成本彩光模块有待研发。80km及以上传输距离，相干光模块将成为主流。标准化方面，OIF 400ZR基本方案已确定（64GBaud DP-16QAM），IEEE802.3b10k已确定
2019-12-12 17:36:16
模块的选型和数量会有较大差异，客户提出了50G的需求，我们会积极响应客户需求。 5G回传：相干光模块 回传将采用相干光模块，接口带宽超100G，预计200G相干占2/3，400G相干占1/3。从前
2019-11-07 17:23:35
之间的映射位。主要区别在于线路侧光电组件，波长数量，DAC和ADC的数量。800G相干光模块相干DSP比PAM4稍微复杂一些，但不会对成本造成太大影响。对于800Gb/s的净数据速率，相干光模块在双
2020-10-23 11:06:14
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
光模块是什么？光模块有着哪些分类呢？光模块的作用是什么？
2021-05-18 06:53:56
300~500nmKrF：波长248.8nmArF：波长193nm衍射效应对光刻图案的影响左图是理想的光强分布，由于光的衍射效应，实际的光强分布如右图所示。当光的波长与mask的特征尺寸可比时，会产生明显的衍射效应。如上图所示，透过mask的光相互叠加，使得不该受到光照的区域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。 常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息
2012-01-12 10:51:59
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻，我们称之为微影制程，原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），将光罩上的电路图形透过聚光镜（projectionlens），将影像缩小
2020-09-02 17:38:07
。光刻机的曝光波长也在由紫外谱g线 (436nm)→i线(365nm)→248nm→193nm→极紫外光（EUV）→X射线，甚至采用非光学光刻（电子束曝光、离子束曝光），光刻胶产品的综合性能也必须随之
2018-08-23 11:56:31
，他们发现了一个可以解决120km以内的数据中心互连（DCI）的机会。在这样的背景下，光互联网络论坛（OIF）于2016年启动了一个项目，旨在标准化可互操作的相干光器件接口，其功率预算可以支持
2020-10-23 11:09:02
是光通信技术制高点。易飞扬秉承光互连设计革新者的理念，于2018年初正式投资进入相干光模块开发，开放性地与上游供应链进行战略合作，在低功耗设计、信号调制模型上进行优化创新，取得了重大成果。为顺利启动商用
2020-06-19 09:59:49
为什么在骨干网，长距传输上选择了相干光通信？了解相干光通信之前所需的知识储备QPSK，QAM等复杂调制格式具体实现的方式
2021-02-04 07:31:07
,Transceiver Module（思科官网上的叫法）。另外，如SFP光模块，SFP Transceiver也是最常用的叫法。光模块品牌：目前市场上主流的光模块品牌有F-tone(北亿纤通),思科，华为，H3C，HP，中兴等，另外，近年来国内更是出现了大量新兴品牌。
2022-04-13 11:23:45
什么是CWDM光模块？CWDM光模块有哪些封装方式？CWDM光模块应用在什么地方？
2021-05-18 06:46:07
什么是SFP光模块？SFP光模块由哪些器件构成？SFP光模块有哪些分类？
2021-05-17 06:09:51
光互连、高清视频光传输、5G 光网络、相干光通信和硅光芯片集成，主要产品包括光模块、有源光缆、MPO布线系统、光无源器件、相干光模块和光模块云平台。 （4）华工正源 华工正源成立于2001年
2020-03-17 14:27:57
，改变空间上光分布的振幅或强度、相位、偏振态以及波长，或者把非相干光转化成相干光。由于它的这种性质，可作为实时光学信息处理、光计算和光学神经网络等系统中构造单元或关键的器件。空间光调制器一般按照读出光
2021-04-14 17:45:37
单片机中步进电机与光控无法同时使用
2013-05-01 22:27:26
光模块是光纤通信系统中重要的器件。华为光模块是国内品牌"华为"的光模块，通常原装光模块的价格都过于昂贵。在这个环境下，有一些其他的公司也在开发生产光模块，被称为第三方光模块
2016-11-12 10:27:40
影响相干光学采集系统的因素有哪些？
2021-05-08 08:54:30
主要是光模块、光无源器件、相干光通信模块与子系统。易飞扬重点服务数据中心、5G承载网、城域波分传输、超高清广播视讯等应用领域，是一家创新设计的高速光互连硬件解决方案商。
2021-08-05 15:10:49
、打造开放共赢的5G产业。作为5G参与的重要一员，易飞扬将携200G数字相干光模块最新产品全程参与，并于现场进行产品演示。今年是全球5G发展里程碑的一年，也是中国5G商用元年。为了能够满足5G高速光网
2020-01-07 10:35:51
`[中国，深圳，2021年6月4日]近日，为适应DCI市场需求，全球光互连设计革新者——易飞扬（GIGALIGHT）发布了一款经济型Transponder&Muxponder相干光
2021-06-04 16:38:39
Transponder&Muxponder相干光传输子系统极简解决方案，可支持200G CFP2 DCO、100G CFP2 DCO相干光模块, 200G Muxponder光转换单元、掺铒光纤
2021-09-24 09:33:50
40km不需要相干光模块的问题。当前易飞扬完整的200G产品线如下：有源光缆系列200G QSFP-DD AOC200G QSFP56 AOC直连铜缆系列200G QSFP56 PCC200G
2021-07-08 11:20:37
：系统支持10G/25G/40G/100G混合接入，按照25G信号要求进行色散使用，能够满足其它速率信号传输要求。 对于超长距离的DCI，最有效的传输技术是相干光传输。通过建立快速、可靠的连接，物理上独立
2021-07-26 16:37:31
对比度从无孔时的22%增大到36%,影响光SSD效果;分析给出了满足光SSD使用的空间滤波器的小孔尺寸。【关键词】：谱色散匀滑;;空间滤波器;;柯林斯传输公式;;硬边光阑;;透镜阵列【DOI】：CNKI
2010-04-26 16:14:36
请问有“基于数字信号处理的相干光通信技术”电子版么？谢谢！
2021-06-22 06:26:37
器件服务。内置EDFA的数字相干光模块有助于帮助云和电信运营商降低运营成本和投资成本，延长传输距离，加快高速系统的部署进度。CFP2-DCO相干光模块结构图传统EDFA尺寸大、功耗高、成本高，已经无法
2020-12-15 09:47:26
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36:46
便携式LED匀光勘察光源JW7112/HP_痕迹勘查灯不仅具有普通强光手电的照明功能，也可通过增加滤光片形成多波段光源，实现一灯多用，适用于现场
2023-03-30 11:34:34
华为逆变器SUN2000-100kTL-M2智能光伏控制器技术参数：产品型号：SUN2000-100KTL-M2产品名称：华为光伏逆变器100KW、华为智能光伏控制器、华为光伏并网100KW逆变器
2023-08-29 17:01:25
测试、测量及监测仪器的全球领导厂商---泰克公司日前在亚洲光纤通信与光电国际会议 （ACP 2013）上展出了其最新前沿相干光测试完整解决方案，其中包括宽带OFDM光通信系统测试解决方案、400G/1Tbps多载波相干光调制方案以及40G/100G光通信一致性解决方案。
2013-12-02 14:28:54911 成功选择相干光采集系统的关键
2017-01-14 14:42:25
14 相干光正交频分复用系统偏振模色散研究_郝耀鸿
2017-01-07 16:52:062 相干光测试常见发射机及接收机的劣化
2017-01-08 14:27:4934 深入洞察相干光通信系统
2017-09-01 11:14:3312 在相干光通信中主要利用了相干调制和外差检测技术。所谓相干调制，就是利用要传输的信号来改变光载波的频率、相位和振幅，这就需要光信号有确定的频率和相位，即应是相干光。激光就是一种相干光。
2018-02-09 15:35:3822124 
随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML（阿斯麦）公司今天发布了2019年Q2季度财报，当季营收25.68亿欧元，其中净设备销售额18.51亿欧元，总计出货了41台光刻机，其中EUV光刻机7台。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 
相干光通信的理论和实验始于80年代。由于相干光通信系统被公认为具有灵敏度高的优势，各国在相干光传输技术上做了大量研究工作。经过十年的研究，相干光通信进入实用阶段。英美日等国相继进行了一系列相干光通信实验。
2019-09-26 15:48:21930 
近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆，并交付了57个3400x EUV系统（3400平台是EUV生产平台）。
2020-08-14 11:20:552048 
业内领先的高端光模块解决方案提供商苏州旭创科技有限公司今日宣布2020年上半年成功推出的100G/200G/400G CFP2 DCO系列的相干光模块产品将于9月9-11日在深圳光博会（CIOE）现场进行展示，旭创展位号：8B53。
2020-08-20 11:01:042154 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 援引韩媒 BusinessKorea 报道，以三星为代表的韩国企业在 EUV 光刻技术方面取得了极大进展。根据对韩国知识产权局（KIPO）过去十年（2011-2020）的 EUV 相关专利统计，在 2014 年达到 88 项的顶峰，2018 年为 55 项，2019 年为 50 项。
2020-11-16 17:26:111397 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 09:33:371298 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 10:25:182211 EUV光刻（即极紫外光刻）利用波长非常短的光，在硅片上形成数十亿个微小结构，构成一个芯片。与老式光刻机相比，EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 上学的时候估计学到过，例如光干涉的原理。 如上图获得相干光的方法，双缝衍射出现明暗条纹。 相干光就是频率＼偏振＼和传播方向相同的光波。如果一个光源在不大于Ｔｃ的两个时刻 发出的光，在经过不同路
2021-01-08 09:23:478490 
EUV（极紫外光）光刻机，是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来，有不少消息都指出，EUV光刻机耗电量非常大，甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915 目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 六幺四科技与罗德与施瓦茨（以下简称"RS公司"）67GHz矢量网络分析仪 ZVA67 协同工作，推出相干光接收元器件片上测试的完整解决方案 —— ICRA-67 相干光接收元器件分析仪可实现器件
2021-09-03 10:20:161579 电子发烧友网报道（文/周凯扬）作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 今天这篇文章，我们来聊聊一个“网红”技术——相干光通信。
2022-04-14 09:15:435616 在相干光通信中，相干检测要求信号光与本振光的偏振方向相同，即两者的电矢量方向必须相同，才能获得相干接收所能提供的高灵敏度。
2022-05-07 16:39:016001 
台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
尽管CFP和CFP2数字相干光学器件可以快速高效地工作，但与其他封装相比，它们使用的功率更大且成本更高，这些缺点可能会影响总运营成本，这给在经济预算内需要优质100G DWDM可插拔光模块的企业带来了挑战。
2022-06-06 17:13:4810935 
HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先进的EUV光刻机，只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 说到芯片，估计每个人都知道它是什么，但说到光刻，许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话，就无法生产芯片，因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 该照明系统3包括视场复眼镜31(field flyeye mirror，FFM)、光阑复眼镜 32(diaphragm flyeye mirror，PFM)、中继镜组33；其中，中继镜组33通常可以包括两个或者两个以上的中继镜。
2022-11-21 11:09:39689 申请号为 CN202110524685.X。这能解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，这个也是 EUV 光刻常见问题。 从介绍中可以看出，该专利提供了一种光刻装置，通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的积累光强均匀化，从而达到匀光的目的，继而
2022-11-21 15:10:072616 
电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 引言
相干光通信系统具有非常多的优点，广泛运用在长距离光传送网中。近年来，随着网络流量的爆炸式增长，数据中心对数据传输速度也提出了新的要求，相干光通信在数据中心短距光互连中也体现出
来了许许多多
2023-05-17 11:14:482 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041792 
相干下沉是最近几年相干光通信的一个热门发展趋势。相干光信号采用偏振复用的矢量信号，能在有限的带宽内传输更大的数据，所以可以用在数据中心之间互连的场景中，传输距离80-120km，比如常说的400ZR和800ZR。
2023-06-13 10:52:58472 
EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
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