延续7纳米制程领先优势，台积电支援极紫外光(EUV)微影技术的7纳米加强版(7+)制程将按既定时程于3月底正式量产，而全程采用EUV技术的5纳米制程也将在2019年第2季进入风险试产。 据了解，独家
2019-02-13 10:08:15
4409 对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:002403 电子发烧友网报道（文/周凯扬）作为目前最先进的半导体制造设备，EUV光刻机的诞生是由各个部件在技术上的集体突破才最终成型的，比如光刻胶、掩膜板和镜组等等。但最为关键的还是EUV名号中的极紫外光
2023-02-13 07:04:004326 期EUV光刻机出现一系列的问题被曝光。有些专家认为在TSMC现场出现的光源故障对于EUV的实用性，尤其是对于未来的量产型EUV光刻机客户会产生疑惑，可能会延续一段时间。
2014-02-28 09:17:411793 “7纳米是很重要的节点，是生产工艺第一次转向EUV的转折点。三星和台积电都宣布了将采用EUV(极紫外光微影)技术在7纳米，而EUV是摩尔定律能够进一步延续到5纳米以下的关键。” Gartner(中国
2017-01-19 10:15:491397 在三星决定7nm率先导入EUV后，让EUV输出率获得快速提升，台积电决定在7nm强化版提供客户设计定案，5nm才决定全数导入。
2017-08-23 08:38:231779 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
韩媒BusinessKorea昨日报道，三星有意一口气买下10台单价为1.76亿美元的EUV。三星如果真的这样做，那就会提升其在7nm等先进工艺上的领先优势。这一方面是由于EUV设备是未来集成电路
2017-10-24 06:47:006044 根据全球唯一能供应EUV光刻机机台的ASML最新官方消息揭露，截至2018年底，已对全球晶圆大厂供应29台EUV机台(2017年占11台)，且2019年有望再出货30台EUV机台。从2019年全球EUV机台倍数成长的现象观察可知，2019年将是7nm EUV半导体产品元年。
2019-03-07 14:35:471108 根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004735 EUV 产量到位了，是不是也该考虑良率了？ 在当前的半导体制程不断往7nm以下发展时，EUV光刻机就成了IDM和代工厂必不可少的工具之一。随着台积电、三星、英特尔和SK海力士等企业的EUV光刻机
2021-07-22 09:22:366730 作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了7nm之下不可或缺的制造设备
2021-12-01 10:07:4110988 电子发烧友网报道（文/周凯扬）随着欧美韩等国家均已引进EUV光刻机，为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持，日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大，却也计划引进EUV光刻机来打破这一困局，重回行业一流
2023-10-10 01:13:001438 电子发烧友网报道（文/周凯扬）随着双碳目标的提出，越来越多的行业应用开始注意到能耗问题，尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说，就是一个不折不扣的耗电大户，结合光刻半导体
2023-10-25 01:14:001062 ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机（EUV）的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24:44
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
脉冲压缩网络,给出了关键参数的设计计算,并且介绍了新颖的末级磁脉冲压缩放电结构。实验结果显示:各级磁脉冲压缩效果达到设计指标,电源输出电压峰达30 kV,输出电流峰值大于40 kA,电流脉冲宽度200
2010-04-22 11:41:29
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源产品介绍：ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒
2023-07-05 16:16:48
进入10nm工艺节点之后，EUV光刻机越来越重要，全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了，他们总共卖出18台EUV光刻机，总价值超过20亿欧元，折合每套系统售价超过1亿欧元，可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593470 尽管EUV现在还存在各种障碍，但是其未来应用前景依然各方被看好。从长远角度来看，发展EUV技术是非常必要的。对此，林雨指出：“自上世纪九十年代起，中国便开始关注并发展EUV技术。最初开展的基础性
2017-11-15 10:13:551240 Borodovsky在采访中表示，另一个可能导致5nm缺陷的因素是现有的EUV光阻剂材料缺乏均匀度。此外，他还表示支持直接电子束写入，因为EUV使用的复杂相移光罩最终将膨胀至目前浸润式光罩价格的8倍。
2018-04-11 15:59:3711349 
非EUV技术的7纳米制程，直接上7纳米LPP EUV制程技术的原因。如今，三星终于公布了7纳米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理认证，意味着7纳米EUV制程将可全球量产了。
2018-06-19 15:06:004522 尽管极紫外光(EUV)步进机的大量生产面临复杂的问题以及紧迫的时间，专家们仍然抱持乐观态度...
2018-06-01 16:01:492726 另外，7nm EUV的好处还在于，比多重曝光的步骤要少，也就是相同时间内的产量将提升。当然，这里说的是最理想的情况， 比如更好的EUV薄膜以减少光罩的污染、自修正机制过关堪用等。三星称，7nm EUV若最终成行，将被证明是成本更优的方案。
2018-06-22 15:53:453469 台积电前不久试产了7nm EUV工艺，预计明年大规模量产，三星今天宣布量产7nm EUV工艺，这意味着EUV工艺就要正式商业化了，而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 随着晶圆代工厂台积电及记忆体厂三星电子的7纳米逻辑制程均支援极紫外光（EUV）微影技术，并会在2019年进入量产阶段，半导体龙头英特尔也确定正在开发中的7纳米制程会支援新一代EUV技术。
2019-01-03 11:31:593812 所以，台积电要想保持优势，就必须要加快7nm EUV的进程。而7nm EUV工艺的关键在于EUV光刻机，今年ASML（荷兰阿斯麦）也计划提高EUV光刻机的产能，以及将年出货量由之前的18台提升到今年的30台。
2019-02-14 16:04:593230 据台媒2月12日报道，为延续7纳米制程领先优势，台积电支持极紫外光(EUV)微影技术的7nm加强版制程将按既定时间于3月底正式量产，而全程采用EUV技术的5nm制程也将在今年第2季进入风险试产。
2019-02-16 11:11:154482 将光刻技术转移到EUV波段意味着材料和光源的巨大变化。新的13.5纳米EUV等离子体光源取代了193纳米波长的紫外激光器。光子能量随着波长的减小而增加，因此来自激光驱动的新型等离子体EUV光源的每个光子所携带的能量是来自旧激光光源的光子的14倍。
2019-03-16 10:32:215629 由于三星去年就小规模投产了7nm EUV，同时ASML（荷兰阿斯麦）将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台，显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:037913 继台积电、三星晶圆代工、英特尔等国际大厂在先进逻辑制程导入极紫外光（EUV）微影技术后，同样面临制程微缩难度不断增高的DRAM厂也开始评估采用EUV技术量产。三星电子今年第四季将开始利用EUV技术生产1z纳米DRAM，SK海力士及美光预期会在1α纳米或1β纳米评估导入EUV技术。
2019-06-18 17:20:312438 DRAM厂商在面对DRAM价格不断下跌的困境下，已经在考虑导入EUV技术用于制造DRAM，主要目的是为了降低成本。
2019-06-21 09:10:012047 根据国外媒体报导，曾表示目前制程技术还用不上EUV技术的各大DRAM厂在目前DRAM价格直直落，短期看不到止跌讯号的情况下，也顶不住生产成本的压力，开始考量导入EUV技术，以降低生产成本。南韩三星将在2019 年底前正式导入。
2019-06-21 10:13:343319 当前半导体制程微缩到10纳米节点以下，包括开始采用的7纳米制程，以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程，EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备。藉由EUV设备导入，不仅加快生产效率、提升良率，还能
2019-07-05 15:32:482520 在上周的Semicon West上，ASML提供了有关当前EUV系统以及正在开发的0.55高NA系统的最新信息。
2019-07-27 10:37:333351 
格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 
近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670 台媒称，翔名切入台积电5nm极紫外光（EUV）光罩盒表面处理业务，与EUV光罩盒大厂接洽合作机会，以独家专利无电镀镍（ENP）表面处理技术来提升产品良率，目前该光罩盒厂正进行评估测试，未来获台积电EUV制程指定产品入场门票机会大增。
2020-07-24 17:27:20671 与此同时， 他指出，EUV继续为ASML的客户提高产量，迄今为止，他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆，并交付了57个3400x EUV系统（3400平台是EUV生产平台）。
2020-08-14 11:20:552048 
据估算，ASML今年下半年可能会再出货 22 台EUV设备，明年全年最多50台。据台媒DIGITIMES报导，台积电也将扩大采购 EUV 设备，抢下ASML明年超过1/3的供货，这样一来台积电明年
2020-09-29 17:26:24802 
据中国台湾经济日报报道，三星（Samsung）明年可能导入极紫外光（EUV）技术生产内存，美光（Micron）企业副总裁、中国台湾美光董事长徐国晋表示，美光不打算跟进，目前并无采用 EUV 计划
2020-10-12 09:36:181660 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 ASML公司的EUV光刻机全球独一份，现在主要是用在7nm及以下的逻辑工艺上，台积电、三星用它生产CPU、GPU等芯片。马上内存芯片也要跟进了，SK海力士宣布明年底量产EUV工艺内存。
2020-10-30 10:54:211646 据韩媒报道，三星副董事长李在镕在访问荷兰期间，在会议上要求ASML在一个月内交付三星已购买的9台EUV光刻设备。 报道称，ASML正在审查三星的要求，这部分EUV设备最早可于11月运往韩国。 据悉
2020-10-30 14:13:081269 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 09:33:371298 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 10:25:182211 体上，三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时，口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 目前，EUV光刻机的部署安装主要在台积电、三星的晶圆代工厂。不过，内存厂商们也开始着手上马了。
2020-11-27 09:09:091651 据中国台湾经济日报报道，EUV 光刻机制造商 ASML 首席执行官 Peter Wennink 带领高管拜访三星，双方寻求技术与投资合作。三星希望能抢在台积电之前，取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:571536 继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后，三星也坐不住了。 按照三星的说法，自2014年以来，EUV光刻参与的晶圆超过了400万片，公司积累了丰富的经验，也比其它厂商掌握
2020-12-04 18:26:542201 需要明白的是，EUV光刻机不是有钱就能买，因为ASML每年的产能非常有限，2019年全年才出货了26台，今年上半年出货了13台，截至三季度结束累计才出货23台。
2020-12-11 13:56:202186 根据韩国媒体《Etnews》报导指出，目前全球3大DRAM存储器中尚未明确表示采用EUV极紫外光刻机的美商美光（Micron），因日前招聘网站开始征求EUV工程师，揭露美光也在进行EUV运用于DRAM先进制程，准备与韩国三星、SK海力士竞争
2020-12-25 14:33:101459 美国美光科技开始提速EUV DRAM。加入到三星电子、SK海力士等全球第一、第二EUV厂商选择的EUV阵营后，后续EUV竞争或将更为激烈。
2020-12-25 14:43:131642 EUV（极紫外光）光刻机，是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来，有不少消息都指出，EUV光刻机耗电量非常大，甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915 半导体必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律即将发展到尽头的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。虽然在EUV相关设备市场中，荷兰ASML垄断了核心光刻机，但在“极紫外光刻曝光”周边设备中，日本设备厂家的存在感在逐步提升，尤其在检测、感光材料涂覆、成像等相关设备方面，日本的实力也是不容忽视的。
2021-01-16 09:43:112542 近期三星为争抢EUV设备，高层频频传出密访ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一个家喻户晓的名字，但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造半导体必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律即将发展到尽头的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。
2021-01-16 09:44:472137 近期三星为争抢EUV设备，高层频频传出密访ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一个家喻户晓的名字，但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造半导体必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律即将发展到尽头的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。
2021-01-16 10:32:574386 目前，还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机，三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约，中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 %，净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先，一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机，这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机，带来了45亿欧元（折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前两天发布了财报，全年净销售额140亿欧元，EUV光刻机出货31台，带来了45亿欧元的营收，单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼，但是ASML也有隐忧，实际上EUV光刻机
2021-01-22 17:55:242639 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 11:39:091844 一提起ASML这家公司，就少不了对光刻机问题的讨论，因为截至目前，ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的DUV光刻机就不多说了，ASML每年都能卖出去很多台，而在更先进的EUV光刻机方面，ASML更是占据了绝对垄断的地位。
2021-02-27 09:59:4214073 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单，另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:411757 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单，另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 10:13:051665 日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV（极紫外）光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630 从2019年开始，晶圆厂就开始有限度地将极紫外线（EUV）光刻技术用于芯片的大批量制造（HVM）。在当时，ASML的Twinscan NXE系列光刻机能够满足客户的基本生产需求，然而整个EUV
2021-04-08 11:09:401989 因此除了台积电、三星及英特尔等晶圆厂争抢EUV，后续包含美光、SK海力士也需要大量EUV设备。乘着5G普及的“顺风”，半导体微缩化需求逐步高涨，半导体厂家加速导入EUV，EUV设备成为炙手可热的产品。
2021-05-18 09:49:512182 
电子发烧友网报道（文/周凯扬）作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
先进光刻工艺EUV相关知识，适合对半导体工艺有兴趣的人员，或者是从事光刻工艺的工程师
2022-06-13 14:48:23
1 HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 说到芯片，估计每个人都知道它是什么，但说到光刻，许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话，就无法生产芯片，因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻机
2022-07-10 11:42:276977 可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前，最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 但imec先进成像、工艺和材料高级副总裁斯蒂芬·希尔（Steven Scheer）在接受采访时非常理性地指出，要经济高效地引入High NA EUV光刻机，还需翻越“四堵墙”，包括改进EUV光刻胶的厚度、底层材料的属性、3D掩膜效应对成像的影响，以及与新型逻辑晶体管、存储芯片组件进行协同设计。
2023-03-17 09:27:091230 DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术。
2023-03-20 14:23:2412166 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041792 
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊，也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年，asml推出了世界上第一个euv试制品，并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
2023-07-24 18:19:471095 EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 今年的大部分讨论都集中在 EUV 的下一步发展以及高数值孔径 EUV 的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示，目标是提高EUV的能源效率，以及他们下一代高数值孔径EUV工具的开发状况。
2023-08-11 11:25:25252 
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60台，而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前，AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56383 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
高数值孔径EUV 今年的大部分讨论都集中在EUV的下一步发展以及高数值孔径EUV的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示，其目标是提高EUV的能源效率，以及下一代高数值孔径EUV工具的发展状况。
2023-11-23 16:10:27255 
在讨论ASML以及为何复制其技术如此具有挑战性时，分析通常集中在EUV机器的极端复杂性上，这归因于竞争对手复制它的难度。
2024-01-17 10:46:13116 
了。 芯片制造离不开光刻机，特别是在先进制程上，EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时，尽管目前市面上，EUV光刻机客户仅有三家，但需求不断增加的情况底下，EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺，High-NA（高数值孔径）EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004635
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