中科院成功制备8英寸碳化硅衬底 近日中科院物理研究所在官网发文表示,科研人员通过优化生长工艺,进一步解决了多型相变问题,持续改善晶体结晶质量,成功生长出单一4H晶型的8英寸SiC晶体,加工出厚度
2022-05-07 00:55:003759 高温半导体解决方案供应商CISSOID日前宣布:公司已与中国科学院电工研究所(简称中科院电工所)达成战略合作关系,将共同开展基于碳化硅(SiC)功率模块的系统研发项目,攻克技术难题,实现耐高温、耐高压、高能量密度、高效率等优势,推动碳化硅功率器件在新能源汽车领域实现广泛应用。
2019-06-10 14:10:191342 点击上方“码农突围”,马上关注这里是码农充电第一站,回复“666”,获取一份专属大礼包真爱,请设置“星标”或点个“在看”2020年1月15日,中国科学院计算技术研究所(以下简称中科院计算...
2021-07-21 06:13:57
,更好地促进技术创新和产业链的结合。”在多个场合,白春礼都曾反复表示,为了中国LED的未来,中科院愿意先行尝试。 7月12日,在白春礼等人的推动下,中科院邀请了研究所和企业的代表,召开半导体照明工作
2012-07-18 11:31:19
中科院计算技术研究所副所长包云岗介绍了目前全球性能最高的开源高性能RISC-V处理器核项目“香山”。他指出,计算技术研究所对标ARM Cortex-A72,已于2021年成功研制出第一代“香山
2023-05-28 08:43:00
变换装置等,其中“伺服电机预测控制系统”被列入中科院海西院十三五规划《五大重点培育方向》之一。详细信息请查看 中国科学院海西研究院泉州装备制造研究所 官网。`
2017-06-30 16:27:40
`中科院拥有国内乃至国际一流的创新性研发机构和科研团队、凝聚着全球最优秀的科学家,实力雄厚。如今中科院深化在网络摄像机领域的探索,携手ithink公司震撼推出国内首款内置电池网络摄像机——手立视Q系
2015-02-05 10:09:03
芯片加工,MEMS传感器、光电子器件的研究背景或工作经验;4.动手能力强,善于学习沟通,吃苦耐劳,有团队合作精神; 5.有半导体相关工作2年以上工作经验优先考虑; 岗位待遇:中科院苏州纳米所南昌研究院为
2017-07-12 17:19:13
PN结器件优越的指标是正向导通电压低,具有低的导通损耗。 但硅肖特基二极管也有两个缺点,一是反向耐压VR较低,一般只有100V左右;二是反向漏电流IR较大。 二、碳化硅半导体材料和用它制成的功率
2019-01-11 13:42:03
应用,处理此类应用的唯一方法是使用IGBT器件。碳化硅或简称SiC已被证明是一种材料,可以用来构建类似MOSFET的组件,使电路具有比以往IGBT更高的效率。如今,SiC受到了很多关注,不仅因为它
2023-02-24 15:03:59
本文的目的是分析碳化硅MOSFET的短路实验(SCT)表现。具体而言,该实验的重点是在不同条件下进行专门的实验室测量,并借助一个稳健的有限元法物理模型来证实和比较测量值,对短路行为的动态变化进行深度评估。
2019-08-02 08:44:07
、GaP、InP等)之后发展起来的第三代半导体材料。作为一种宽禁带半导体材料,碳化硅具有禁带宽度大、击穿场强高、热导率大、载流子饱和漂移速度高、介电常数小、抗辐射能力强、化学稳定性良好等特点,可以用来制造
2019-10-24 14:21:23
由于碳化硅具有不可比拟的优良性能,碳化硅是宽禁带半导体材料的一种,主要特点是高热导率、高饱和以及电子漂移速率和高击场强等,因此被应用于各种半导体材料当中,碳化硅器件主要包括功率二极管和功率开关管
2020-06-28 17:30:27
的碳化硅压敏电阻由约90%的不同晶粒尺寸的碳化硅和10%的陶瓷粘合剂和添加剂制成。将原材料制成各种几何尺寸的压敏电阻,然后在特定的大气和环境条件下在高温下烧结。然后将一层黄铜作为电触点喷上火焰。其他标准
2024-03-08 08:37:49
进一步了解碳化硅器件是如何组成逆变器的。
2021-03-16 07:22:13
今天我们来聊聊碳化硅器件的特点
2021-03-16 08:00:04
92%的开关损耗,还能让设备的冷却机构进一步简化,设备体积小型化,大大减少散热用金属材料的消耗。半导体LED照明领域碳化硅(SiC)在大功率LED方面具有非常大的优势,采用碳化硅(SiC)陶瓷基板
2021-01-12 11:48:45
上,对介电常数要求严格,虽然有低温共烧陶瓷,仍然无法满足他们的要求,需要一种性能更好的升级产品,建议可以使用富力天晟的碳化硅基板;因应汽车需求而特别开发的产品(如IC 载板、软板、银胶贯孔等),也在向
2020-12-16 11:31:13
电磁性。因碳化硅是一种共价键化合物,原子间结合的键很强,它具有以下一些独特的性能,因而得以广泛应用。1)高熔点。关于碳化硅熔点的数据.不同资料取法不一,有2100℃。2)高硬度。碳化硅是超硬度的材料之一
2019-07-04 04:20:22
碳化硅(SiC)是比较新的半导体材料。一开始,我们先来了解一下它的物理特性和特征。SiC的物理特性和特征SiC是由硅(Si)和碳(C)组成的化合物半导体材料。其结合力非常强,在热、化学、机械方面都
2018-11-29 14:43:52
硅与碳的唯一合成物就是碳化硅(SiC),俗称金刚砂。SiC 在自然界中以矿物碳硅石的形式存在,但十分稀少。不过,自1893 年以来,粉状碳化硅已被大量生产用作研磨剂。碳化硅用作研磨剂已有一百多年
2019-07-02 07:14:52
碳化硅作为现在比较好的材料,为什么应用的领域会受到部分限制呢?
2021-08-19 17:39:39
碳化硅作为一种宽禁带半导体材料,比传统的硅基器件具有更优越的性能。碳化硅的宽禁带(3.26eV)、高临界场(3×106V/cm)和高导热系数(49W/mK)使功率半导体器件效率更高,运行速度更快
2023-02-28 16:34:16
用于一些高压、高温、高效率及高功率密度的应用场合。碳化硅(SiC)材料因其优越的物理特性,开始受到人们的关注和研究。自从碳化硅1824年被瑞典科学家Jns Jacob Berzelius发现以来,直到
2021-03-25 14:09:37
哪位大神知道CISSOID碳化硅驱动芯片有几款,型号是什么
2020-03-05 09:30:32
SIC碳化硅二极管
2016-11-04 15:50:11
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2018-06-12 10:22:42
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2018-11-15 11:59:01
TGF2954碳化硅晶体管产品介绍TGF2954报价TGF2954代理TGF2954TGF2954现货,王先生 深圳市首质诚科技有限公司TGF2954是离散的5.04毫米GaN-on-SiC
2018-11-15 14:01:58
TGF2955碳化硅晶体管产品介绍TGF2955报价TGF2955代理TGF2955TGF2955现货,王先生 深圳市首质诚科技有限公司TGF2955是离散的7.56毫米GaN-on-SiC
2018-11-15 14:06:57
对比 我们采用双脉冲的方法来比较一下基本半导体1200V 80mΩ 的碳化硅MOSFET的两种封装B1M080120HC(TO-247-3)和B1M080120HK(TO-247-4)在相同条件下
2023-02-27 16:14:19
项目名称:基于碳化硅功率器件的永磁同步电机先进驱动技术研究试用计划:申请理由:碳化硅作为最典型的宽禁带半导体材料,近年来被越来越广泛地用于高频高温的工作场合。为了提高永磁同步电机伺服控制系统的性能
2020-04-21 16:04:04
、58887025联系地址:北京市海淀区北四环西路19号中科院电子所科教融合管理办公室邮政编码:100190E-mail:edu@mail.ie.ac.cn 附件:1.中国科学院电子学研究所2017年博士后
2017-12-18 17:27:09
大的晶体。因此,采用点籽晶(Point Seed)方法,实现了大尺寸晶片的成型。即将晶种大面积分布于大块状基质上,并在晶体生长的同时,将其分离,形成单一晶体。森教授说,采用以上方法,可以得到一种适合
2023-02-23 15:46:22
什么是碳化硅(SiC)?它有哪些用途?碳化硅(SiC)的结构是如何构成的?
2021-06-18 08:32:43
应用的企图心。到2020年时,氮化镓组件将进军600~900伏特市场,与碳化硅组件的竞争关系升温。问题:1.碳化硅(Sic)、氮化镓(GaN)、都是一种新型的材料。那COOLMOS又是啥?(这几年也很热门)2.
2021-09-23 15:02:11
和 500A,带或不带碳化硅肖特基续流 1200V 二极管。 另一个例子是MiniSKiiP,这是一种无底板电源模块,使用赛米控的SPRiNG系统将电源和辅助端子连接到PCB。弹簧位置由外壳设计固定
2023-02-20 16:29:54
步提升电源效率。针对上述情况,解决方案有以下两种。 方案一:将IGBT单管上反并联的快速恢复二极管换成基本半导体的“零反向恢复”的碳化硅肖特基二极管(碳化硅 SBD),这种组合起来封装的器件,称之为
2023-02-28 16:48:24
一种减慢di/dt和dv/dt的方式来解决。不幸的是,这些方法会导致开关损耗增加和系统效率降低。而在使用碳化硅MOSFET时,只需在栅极和源极之间增加一个二极管电压钳位即可解决这一难题。 在碳化硅
2023-03-14 14:05:02
用碳化硅MOSFET设计一个双向降压-升压转换器
2021-02-22 07:32:40
散电感是碳化硅封装的一种技术发展趋势。然而,实现碳化硅封装技术的突破并大规模应用,还需要开展大量的工作,以下列举一些核心挑战以及前景展望:1)低杂散电感封装结构综合性能的进一步研究验证。例如封装结构
2023-02-22 16:06:08
新型材料铝碳化硅解决了封装中的散热问题,解决各行业遇到的各种芯片散热问题,如果你有类似的困惑,欢迎前来探讨,铝碳化硅做封装材料的优势它有高导热,高刚度,高耐磨,低膨胀,低密度,低成本,适合各种产品的IGBT。我西安明科微电子材料有限公司的赵昕。欢迎大家有问题及时交流,谢谢各位!
2016-10-19 10:45:41
风险,配置合适的短路保护电路,可以有效减少开关器件在使用过程中因短路而造成的损坏。与硅IGBT相比,碳化硅MOSFET短路耐受时间更短。 1)硅IGBT: 硅IGBT的承受退保和短路的时间一般小于
2023-02-27 16:03:36
是宽禁带半导体材料的一种,主要特点是高热导率、高饱和以及电子漂移速率和高击场强等,因此被应用于各种半导体材料当中,碳化硅器件主要包括功率二极管和功率开关管。功率二极管包括结势垒肖特基(JBS)二极管
2023-02-20 15:15:50
最近需要用到干法刻蚀技术去刻蚀碳化硅,采用的是ICP系列设备,刻蚀气体使用的是SF6+O2,碳化硅上面没有做任何掩膜,就是为了去除SiC表面损伤层达到表面改性的效果。但是实际刻蚀过程中总是会在碳化硅
2022-08-31 16:29:50
各行业所需高温半导体解决方案的领导者CISSOID日前宣布:公司已与中国科学院电工研究所(简称中科院电工所)达成战略合作关系,将共同开展基于碳化硅(SiC)功率模块的系统研发项目,攻克技术难题,实现耐高温、耐高压、高能量密度、高效率等优势,推动碳化硅功率器件在新能源汽车领域实现广泛应用。
2019-06-11 14:50:593517 ,莫桑石。在C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用最广泛、最经济的一种,可以称为金钢砂或耐火砂。 中国工业生产的碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种,均为六方晶体,比重为3.20~3.25,显微硬度为2840~3320kg/mm。 碳化硅也可以通过使
2023-02-02 14:50:021981 高技术耐火原料中,碳化硅为应用最广泛、最经济的一种,可以称为金钢砂或耐火砂。中国工业生产的碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种,均为六方晶体,比重为3.20~3.25。
2023-02-03 16:11:352997 我们拿慧制敏造出品的KNSCHA碳化硅功率器件:碳化硅二极管和碳化硅MOSFET展开说明。碳和硅进过化合先合成碳化硅,然后碳化硅打磨成为粉末,碳化硅粉末经过碳化硅单晶生长成为碳化硅晶锭;碳化硅
2023-02-21 10:04:111693 碳化硅衬底 产业链核心材料,制备难度大碳化硅衬底制备环节主要包括原料合成、碳化硅晶体生长、晶锭加工、晶棒切割、切割片研磨、研磨片抛光、抛光片清洗等环节。
2023-05-09 09:36:483430 6.3.5.3界面氮化6.3.5氧化硅/SiC界面特性及其改进方法6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.5.2氧化
2022-01-17 09:18:16613 基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.5.5界面的不稳定性∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.5.4其他方法∈《碳化硅技术基本原理——生长
2022-01-21 09:37:00736 6.3.5.1界面态分布6.3.5氧化硅/SiC界面特性及其改进方法6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.8其他方法
2022-01-12 10:00:29744 基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.5.4其他方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.5.3界面氮化∈《碳化硅技术基本原理——生长、
2022-01-21 09:35:56706 8.2.9阈值电压控制8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.8UMOS的先进设计∈《碳化硅
2022-03-02 09:27:23531 8.2.1MOS静电学回顾8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.6功率JFET器件的实现
2022-02-22 09:21:59449 7.3.4电流-电压关系7.3pn与pin结型二极管第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.3.3“i”区的电势下降∈《碳化硅技术基本原理——生长
2022-02-14 09:44:16801 6.5总结第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.3p型SiC的欧姆接触∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.4.2.2n型SiC
2022-01-27 09:16:44861 6.3.5.4其他方法6.3.5氧化硅/SiC界面特性及其改进方法6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.5.3界面
2022-01-18 09:28:24662 8.2.10.1影响反型层迁移率的机理8.2.10反型层电子迁移率8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内
2022-03-03 09:46:19354 6.3.4.5高低频方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.3确定表面
2022-01-10 09:48:37347 6.3.5.2氧化后退火6.3.5氧化硅/SiC界面特性及其改进方法6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.5.1界面
2022-01-13 11:21:29631 6.3.2氧化硅的介电性能6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.1氧化速率∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-01-04 14:11:56775 6.1.4半绝缘区域的离子注入6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.3p型区的离子注入∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-01-06 09:23:25402 8.1.3饱和漏极电压8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.2电流-电压关系∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征
2022-02-18 10:11:58344 6.1.3p型区的离子注入6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.1选择性掺杂技术∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-01-06 09:21:13565 6.1.2n型区的离子注入6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.1选择性掺杂技术∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-01-06 09:17:33617 6.3.3热氧化氧化硅的结构和物理特性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.2氧化硅的介电性能∈《碳化硅技术基本原理
2022-01-04 14:10:56564 7.2肖特基势磊二极管(SBD)第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.1.3双极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-02-09 09:27:53440 和载流子浓度2.2.2光吸收系数和折射率2.2.1能带结构2.1晶体结构第3章碳化硅晶体生长3.9总结3.8切片及抛光3.7化学气相淀积法生长3C-SiC晶圆3.6溶液
2022-05-09 17:19:452152 8.2.6功率MOSFET的实施:DMOSFET和UMOSFET8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内
2022-02-28 11:20:021054 6.3.4.6C-Ψs方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.5高低频方法
2022-01-10 14:04:39631 6.3.4.7电导法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.6C-Ψs方法
2022-01-12 10:44:27394 8.2.7DMOSFET的先进设计8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.2.6功率MOSFET
2022-02-28 10:46:39321 6.4.1.2SiC上的肖特基接触6.4.1n型和p型SiC的肖特基接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技术
2022-01-24 10:22:28480 的结构和物理特性∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.2氧化硅的介电性能∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.1氧化速率
2022-01-05 13:59:37493 8.2.10.2反型层迁移率的器件相关定义8.2.10反型层电子迁移率8.2金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-03-04 10:19:46275 6.1.5高温退火和表面粗糙化6.1离子注入第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.1.4半绝缘区域的离子注入∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2021-12-31 14:25:52549 7.3pn与pin结型二极管第7章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.2肖特基势磊二极管(SBD)∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件
2022-02-10 09:18:15614 8.1.4比通态电阻8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.3饱和漏极电压∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征
2022-02-20 16:16:46636 6.3.4.8其他方法6.3.4电学表征技术及其局限性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.3.4.7电导法∈《碳化硅
2022-01-11 17:26:05445 6.4.2.2n型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技术
2022-01-25 09:18:08743 8.1.1夹断电压8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:7.4结势垒肖特基(JBS)二极管与混合pin肖特基(MPS
2022-02-16 09:43:48325 8.1.5增强型和耗尽型工作模式8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.4比通态电阻∈《碳化硅技术基本原理——生长
2022-02-20 14:15:56384 8.1.6功率JFET器件的实现8.1结型场效应晶体管(JFET)第8章单极型功率开关器件《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:8.1.5增强型和耗尽型工作模式∈《碳化硅技术
2022-02-21 09:29:28537 特有的基本现象∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.3热氧化氧化硅的结构和物理特性∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》6.3.2氧
2022-01-07 14:24:25420 5.3.2.1寿命控制5.3.1SiC中的主要深能级缺陷5.3SiC中的点缺陷第5章碳化硅的缺陷及表征技术《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:5.3.2载流子寿命“杀手
2022-01-06 09:38:25510 6.4.2.3p型SiC的欧姆接触6.4.2n型和p型SiC的欧姆接触6.4金属化第6章碳化硅器件工艺《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容:6.4.2.2n型SiC的欧姆接触
2022-01-26 10:08:16636 单晶生长,以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料形成碳化硅晶体;2)衬底环节,碳化硅晶体经过切割、研磨、抛光、清洗等工序加工形成单晶薄片,也即半导体衬底材料;
2023-12-05 15:26:53560 性质、结构、制备方法、特性以及应用方面存在着一些差异。以下将详细介绍碳化硅和氮化镓的区别。 1. 物理性质 碳化硅是由碳和硅元素组成的化合物,具有多种晶体结构,包括六方晶系、三方晶系和立方晶系。它具有较高的熔点、硬度、热导率和
2023-12-08 11:28:51742 碳化硅衬底有诸多缺陷无法直接加工,需要在其上经过外延工艺生长出特定单晶薄膜才能制作芯片晶圆,这层薄膜便是外延层。几乎所有的碳化硅器件均在外延材料上实现,高质量的碳化硅同质外延材料是碳化硅器件研制的基础,外延材料的性能直接决定了碳化硅器件性能的实现。
2023-12-15 09:45:53607
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