10月15日,据国外媒体报道,目前全球顶尖的光刻机生产商ASML正在研发第三款EUV光刻机,并计划于明年年中出货。 从其所公布的信息来看,新款光刻机型号命名为TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:003456 荷兰造价上亿的庞大机器到位并组装好后,并不意味着EUV光刻机的生产工作完全准备就绪。随着先进工艺晶圆制造中图案化策略和分辨率重视程度的攀升,为了满足这些需求,与EUV光刻技术相关的材料同样需要纳入考量,尤其是光刻胶和防护膜。 EUV光
2022-07-22 07:49:002403 光刻机是集成电路制造的关键核心设备,为了在更小的物理空间集成更多的电子元件,单个电路的物理尺寸越来越小,主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50-90nm。
2016-12-13 02:04:1112251 除了阻抗,还有其他问题,即EUV光掩模基础设施。光掩模是给定IC设计的主模板。面膜开发之后,它被运到制造厂。将掩模放置在光刻工具中。该工具通过掩模投射光,这又掩模在晶片上的图像。
2017-09-29 09:09:1712238 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:004735 作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了7nm之下不可或缺的制造设备
2021-12-01 10:07:4110988 电子发烧友网报道(文/周凯扬)到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 01:48:002199 电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着双碳目标的提出,越来越多的行业应用开始注意到能耗问题,尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说,就是一个不折不扣的耗电大户,结合光刻半导体制造
2023-10-25 01:14:001062 不得不将193nm液浸技术和各种多重成像技术结合起来使用,以便突破工艺极限。但是采用多重成像的手段就需要进行多次光刻、蚀刻、淀积等流程,无形中提升了制造成本,拉长了工艺周期。”因此,EUV技术实质上
2017-11-14 16:24:44
,光源是ArF(氟化氩)准分子激光器,从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机,但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限,所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光(EUV
2020-07-07 14:22:55
时)。EUV光刻和X光光刻则可以达到更高的分辨率。然而, 它们存在的掩膜制造困难,且掩膜易被强光损伤等缺陷限制了它们的工业化生产。而电子束光刻胶极有可能在集成电路线宽降至纳米级时大显身手,目前国外电子束胶
2018-08-23 11:56:31
集成电路生产流程见下图:[img][/img]整个流程分为六个部分:单晶硅片制造,IC设计,光罩制作,IC制造,IC测试和封装。1.IC生产流程 [单晶硅片制造] 单晶硅片是用来制造IC的,单晶硅
2019-01-02 16:28:35
哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到,其
2020-02-27 10:42:16
芯片制造全工艺流程详情
2020-12-28 06:20:25
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36:46
进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593470 刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
2018-01-09 13:37:2316784 EUV光刻机的唯一供应商ASML在2017年度Semicon West半导体设备展上也表示,250瓦的EUV光源也万事俱备。公司2017年财报中也强调,其EUV光刻机满足了125WPH(每小时生产
2018-01-23 14:51:008018 。 GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望将EUV光刻技术加入到7nm和5nm生产中。但就像以前一样,EUV由几部分组件组成,在芯片制造商能够引入之前,它们必须整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861 今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 据《日经亚洲评论》(Nikkei Asian Review)援引消息人士的话称,中国芯片加工企业中芯国际(SMIC)今年5月向全球最大的芯片设备制造商——荷兰ASML订购了首台最先进的EUV
2018-09-05 15:24:1914570 达到理想状态,EUV工艺还有很长的路要走。在现有的EUV之外,ASML与IMEC比利时微电子中心还达成了新的合作协议,双方将共同研发新一代EUV光刻机,NA数值孔径从现有的0.33提高到0.5,可以进一步提升光刻工艺的微缩水平,制造出更小的晶体管。
2018-10-30 16:28:403376 中心还达成了新的合作协议,双方将共同研发新一代EUV光刻机,NA数值孔径从现有的0.33提高到0.5,可以进一步提升光刻工艺的微缩水平,制造出更小的晶体管。 NA数值孔径对光刻机有什么意义?,决定
2018-11-02 10:14:19834 由于三星去年就小规模投产了7nm EUV,同时ASML(荷兰阿斯麦)将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台,显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:037913 该技术的实施还需要借助高成本的纳米光刻制造技术。
2019-06-28 11:53:542576 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
2019-07-18 16:02:003147 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
2019-07-23 10:47:213102 格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 11月25日,市场研究公司总裁罗伯特·卡斯特拉诺(Robert Castellano)表示:“过去三年来,应用材料一直在晶圆制造前段工序(WFE)的设备市场上失去市场份额,而 ASML却将凭借其价格高昂的EUV光刻设备大批出货实现超越,取代应用材料成为最大的半导体设备公司。”
2019-11-26 15:06:442093 截至目前,华为麒麟990 5G是唯一应用了EUV极紫外光刻的商用芯片,台积电7nm EUV工艺制造,而高通刚发布的骁龙765/骁龙765G则使用了三星的7nm EUV工艺。
2019-12-18 09:20:0315995 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日,美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术,不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能,还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10,大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670 与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
2020-08-14 11:20:552048 据媒体报道,光刻机巨头ASML(阿斯麦)日前宣布,将在中国台湾的南部科学园区建立自己在海外(荷兰之外)的首个培训中心,旨在就近辅导台积电所领导EUV光刻制造集群。
2020-08-18 10:04:362263 芯片制程已经推进到了7nm以下,这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了,目前全世界只有荷兰ASML(阿斯麦)可以制造。
2020-09-28 16:31:471631 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499647 台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业,目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机。
2020-11-11 10:13:304278 在半导体工艺进入7nm之后,EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了,全球也只有ASML公司能生产,单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上,ASML还真不一定就是第一,专利比三星还少。
2020-11-17 10:25:182211 机。 目前,台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片,但在未来几个季度
2020-11-17 16:03:381827 。 EUV光刻机参与的将是SK海力士的第四代(1a nm)内存,在内存业内,目前的代际划分是1x、1y、1z和1a。 EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。 当然,EUV光刻机实在是香饽饽。唯一的制造商ASML(
2020-11-26 18:23:291761 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后,需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备,才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品,但就在近日,又有外媒豪言:这种顶尖的EUV极紫外光刻机,目前全球
2020-12-03 13:46:226379 继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后,三星也坐不住了。 按照三星的说法,自2014年以来,EUV光刻参与的晶圆超过了400万片,公司积累了丰富的经验,也比其它厂商掌握
2020-12-04 18:26:542201 之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。
2020-12-29 09:22:482192 EUV光刻(即极紫外光刻)利用波长非常短的光,在硅片上形成数十亿个微小结构,构成一个芯片。与老式光刻机相比,EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 荷兰ASML生产的EUV光刻机使用由激光产生,并通过巨型镜子聚焦的极紫外(EUV)光束,在硅片上铺设非常狭窄的电路。这能让厂商制造更快、更强大的微处理器、内存芯片和其他先进元件。这些元件无论是对消费类电子产品,还是对军事应用来说都至关重要。
2021-01-08 10:25:322858 EUV(极紫外光)光刻机,是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来,有不少消息都指出,EUV光刻机耗电量非常大,甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915 近期三星为争抢EUV设备,高层频频传出密访ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一个家喻户晓的名字,但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造半导体必不可少的“光刻”机器,在摩尔定律即将发展到尽头的现在,可以说,得EUV者得先进工艺。
2021-01-16 10:32:574386 目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078 %,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677 ASML公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元,EUV光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼,但是ASML也有隐忧,实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 2019 年底在旧金山举办的年度国际电子元件会议(IEDM)上,台积电公布的两个报告标志着集成电路制造迈入了EUV 光刻时代。第一个报告宣布了应用EUV 光刻技术的7 纳米世代的改良版芯片已经
2021-02-19 09:18:203017 随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 11:39:091844 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单,另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:411757 日前,ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV(极紫外)光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630 美国媒体7月19日报道,美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机(极紫外光刻机)进入中国大陆。 报道称,中国政府此前与荷兰政府协商,要求允许中国公司购买ASML生产的EUV光刻机设备(极紫外光刻
2021-07-21 16:52:252126 光刻机设备(极紫外光刻机),中方希望将这款价值1.5亿美元的机器用于大陆芯片制造。 这款180吨重、售价1.5亿美元的设备是艾司摩尔招牌产品,称为「极紫外光(EUV)微影系统」,是制造最先进微处理器必需。英特尔、三星电子、台积电等公司都使用EUV设备,生
2021-07-25 17:35:152919 7nm之下不可或缺的制造设备,我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力,还有蔡司和TRUMPF(通快)两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会。
2022-04-07 14:49:33488 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了,并且在随后的工艺迭代中,逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻:3400B
•EUV生成原理
•EUV来源:架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 在芯片研发的过程中,光刻机是必不可少的部分,而随着芯片制程工艺的不断发展,普通的光刻机已经不能满足先进制程了,必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程,而目前台积电和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686 EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766 说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 光刻机是大规模集成电路生产的核心设备,它能够制造和维护需要高水平的光学和电子产业基础,全球只有少数制造商掌握了这一基础。 光刻机的作用是对芯片晶圆进行扫描曝光,对集成电路进行蚀刻。精度更高的光刻
2022-07-10 14:35:066173 目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116 与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010 EUV 光刻技术被视为先进半导体制造的最大瓶颈,但这些价值超过 1.5 亿美元的工具是没有光掩模的paperweights。一个恰当的比喻是,光掩模可以被认为是光刻工具对芯片层进行图案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47942 EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术,简单来说,就是以极紫外光作“刀”,对芯片上的晶圆进行雕刻,让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词,也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么,让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 电子发烧友网报道(文/ 周凯扬 )到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02952 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力,但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 大多数人没有意识到芯片制造是国家经济的核心。通过阅读您的书,EUV 的开发过程始于美国的英特尔,然后完全脱离了英特尔。一家荷兰公司如何拥有这项关键的芯片制造技术?
2023-02-15 10:34:06856 挑战性。制造商正在关注称为极紫
外(EUV) 光刻的先进制造技术。
EUV光刻可用于制造比以前更小规模的芯片。该技术可以导致微处理器的发展,其速度比目前最强大的芯片快十倍。EUV光刻
的本质也可以归因于当前芯片印刷技术的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟,预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041792 需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比,EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别,从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 光刻机需要采用全反射光学元件,掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性技术。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战,包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
2023-06-07 10:45:541012 asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 EUV掩膜,也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜,对于极紫外光刻(EUVL)这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术,用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV光刻胶材料是光敏物质,当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用,包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度(LER)、降低释气和提高热稳定性。
2023-09-11 11:58:42349 近20年来,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563 EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615 EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前,AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56383 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004635
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