，而光刻工艺又是精密电子元器件制造的关键流程，这使得光刻胶在整个电子元器件加工产业，都有着至关重要的地位。 本文简要介绍几种代表性光刻胶的成分和机理，重点是光刻胶的新技术应用，以及国产化机会。 光刻胶主要成分
2022-04-25 17:35:22
9350 
光刻胶为何要谋求国产替代？中国国产光刻胶企业的市场发展机会和挑战如何？光刻胶企业发展要具备哪些核心竞争力？在南京半导体大会期间，徐州博康公司董事长傅志伟和研发总监潘新刚给我们带来前沿观点和独家分析。
2022-08-29 15:02:235918 
波长不同，可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm），ArF（193nm）以及EUV光刻胶，其中KrF、ArF和EUV光刻胶被认为是高端光刻胶，目前国内几乎空白。 日本垄断全球光刻胶大部分市场份额，全球排名前四的光刻胶厂商都来自日本，包括合成橡胶
2021-07-03 07:47:0023641 领域进行激烈竞争的时候，中国国产光刻胶企业在国内晶圆厂布局的成熟制程领域，展开了新产品上市和量产的争夺战。 南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该
2022-08-31 07:45:002718 一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17:47
图像的信息量已接近常规光学的极限。光刻曝光的常用波长是3650～4358 埃，预计实用分辨率约为1微米。几何光学的原理，允许将波长向下延伸至约2000埃的远紫外波长，此时可达到的实用分辨率约为0.5
2012-01-12 10:51:59
越好，NA越大越好，这样光刻机分辨率就越高，制程工艺越先进。） 最初的浸入式光刻就是很简单的在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，后来不断改进高NA镜片、多光照
2020-07-07 14:22:55
/㎝²条件下进行曝光。曝光结束后，选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。AZ光刻胶AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺
2018-07-12 11:57:08
分辨率可达0.15mm；193nm光刻采用OPC技术和多层光刻胶技术分辨率可达0.1 mm。进一步提高分辨率, 直至达到硅材料的极限0.1μｍ左右。另一条路线是采用更短波长的激光如氟157ｎｍ和氩
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的： 感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
！所以说分辨率跟精度完全是两回事，在这个温度传感器里，只要你愿意，你甚至可以用一个14位的AD，获得1/16384的分辨率，但是测量值的精度还是0.25摄氏度^_^所以很多朋友一谈到精度，马上就和分辨率
2011-10-13 16:18:06
……约等于0.098摄氏度！这么高的精度，足够用了。但是我们去浏览一下AD7416的数据手册，居然发现里面赫然写着：测量精度0.25摄氏度！所以说分辨率跟精度完全是两回事，在这个温度传感器里，只要你愿意，你
2018-09-20 14:49:45
/1024……约等于0.098摄氏度！这么高的精度，足够用了。但是我们去浏览一下AD7416的数据手册，居然发现里面赫然写着：测量精度0.25摄氏度！所以说分辨率跟精度完全是两回事，在这个温度传感器里
2023-12-19 06:41:18
ADC的一个重要趋势是转向更高的分辨率。这一趋势影响着一系列的应用，包括工厂自动化、温度检测，以及数据采集。对更高分辨率的需求使设计者们从传统的12位SAR(逐次逼近寄存器)ADC，转向分辨率达
2018-11-26 16:48:56
DM6437 视频输出分辨率最高能达到多少
2016-11-03 16:19:25
捕获，同时高速传输较低分辨率（640x480,1280x720,1920x1080）时，静止请求被触发，它正在从一种分辨率转移到另一种分辨率，但无法进行静态捕获。
我在调试时观察到了以下几点：
1
2024-02-22 07:58:43
100μm并具有极高的分辨率。 NR5 系列 NR5-系列负性光刻胶，用于深度离子蚀刻（RIE）中的厚膜掩膜工艺。 PR1 系列 正性光刻胶，用于光刻，蚀刻和高温制程。 IC1/DC5 系列 作为
2010-04-21 10:57:46
嗨，我在具有双GRID M10卡的UCS C240 M4SX服务器上有4个ESXi 6.5主机。我遇到的问题是双监视器可以达到的最大分辨率。我期望能够在Windows 10的两台显示器上获得
2018-10-10 16:15:29
，胶膜溶于显影液中，引起浮胶。因此在保证分辨率的前提下，曝光要充分。5）显影时间太长，显影液从胶膜底部不断渗入，引起胶膜浮起。因此得控制好显影时间。`
2018-11-22 16:04:49
型号及参数[tr=transparent]光刻胶名称型号匀胶厚度规格[/tr][tr=transparent]Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6μm100ml;500ml;1L
2018-07-04 14:42:34
一些小伙伴在使用ABBYY PDF Transformer+扫描识别文档时，会发出“调整图像分辨率”警告消息。扫描分辨率设置的过高或过低，都会对文本识别的质量产生不好的影响，那么，该怎么解决呢？别急
2017-10-13 14:17:44
能够控制的职责，最大的小数值的CCPR1L：CCP15:4＝384。我认为这是9位分辨率是正确的吗？我应该能用10位分辨率达到1023吗？PWM公式表示的最大分辨率是10.585（10位）……有人能
2019-03-14 08:29:37
各位，我计划使用 4 通道 mipi 将 48MP 相机与 i.MX8M Mini 套件集成。请帮助我了解 imx8m-mini 是否可以从传感器获取 8000x6000 分辨率的 8 bpp 原始
2023-04-04 08:55:28
大家好，使用镜像nanopi-m1-debian-sd4g-20170204.img，默认分辨率是720p的，谁知道如何修改分辨率？找到一个旧帖子，说修改boot下的script.bin，但新版镜像
2017-03-03 00:30:46
和分辨率，但它对 GaAs 的附着力略逊于 AZ4330。其次，我们将湿法蚀刻从基于手动浸入的工艺迁移到 喷射蚀刻系统。虽然可能会产生更好的蚀刻均匀性和可重复性，但喷射蚀刻系统可能是对光刻胶附着力的苛刻
2021-07-06 09:39:22
。正性光刻胶在半导体制造中使用得最多，因其可以达到更高的分辨率，从而让它成为光刻阶段更好的选择。现在世界上有不少公司生产用于半导体制造的光刻胶。 光刻光刻在芯片制造过程中至关重要，因为它决定了芯片上的晶体管
2022-04-08 15:12:41
光刻技术中,涂有光刻胶的硅片与掩膜版直接接触.由于光刻胶和掩膜版之间紧密接触,因此可以得到比较高的分辨率.接触式暴光的主要问题是容易损伤掩膜版和光刻胶.当掩膜版与硅片接触和对准时,硅片上很小的灰尘
2012-01-12 10:56:23
什么是cif分辨率 CIF : common intermediate format &
2008-05-28 16:31:59
初装系统。图标好大一个，应该是分辨率问题，分辨率问题如何解决？
2014-09-12 14:55:19
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00:57
５０ ｓ。用金相显微镜测试了在优化工艺参数条件下制作的光刻胶图形的分辨率，同时对图形反转机理进行了讨论。关键词：光刻；ＡＺ?５２１４；剥离工艺；图形反转；断面模拟
2009-10-06 10:05:30
一个实用的35毫米光学格式中真正使该器件脱颖而出。现在，随着新KAI-29052图像传感器的推出，在这个分辨率节点可获取的成像性能得到了增强。KAI-29052与KAI‑29050完全引脚兼容，提供
2018-10-25 09:04:56
固定分辨率存在的问题：  ■ 即使在低分辨率下,MRM也能达到非常好的画质。 ■ MRM能极大节省存储空间和I/O流量。尽管在相同分辨率下,MRM模型的数据量约为固定
2011-09-05 11:58:11
现在需要驱动自己的HDMI屏幕，分辨率是800*800的，开发板自带的只有两种，请问怎么修改啊
2022-01-10 06:29:25
实现高分辨率的原理是什么如何使用X9241实现高分辨率？
2021-04-27 06:54:00
RBW频率分辨率与FFT的抽头的宽度是什么关系？如何实现更高的分辨率或更窄的RBW测量？影响频谱分析仪频率分辨率精度的因素有哪些？
2021-04-15 07:07:53
如题， 新唐的pwm一般都是16bit， 其实也可以利用预分频比来提高一些所谓的分辨率。
现在有这样一个需求。 要求脉宽在0-65535us之间连续可调， 周期，也类似。但是肯定要大于65535
2023-08-23 06:49:36
如题,新唐的pwm一般都是16bit, 其实也可以利用预分频比来提高一些所谓的分辨率.
现在有这样一个需求. 要求脉宽在0-65535us之间连续可调, 周期,也类似.但是肯定要大于65535,连续
2024-01-16 08:30:44
峰值噪声与有效噪声的区别，峰值分辨率与有效分辨率的区别？无失码分辨率又是指的什么？
2023-11-27 11:42:59
低带宽、高分辨率ADC的分辨率为16位或24位。但是，器件的有效位数受噪声限制，而噪声则取决于输出字速率和所用的增益设置。有些公司规定使用有效分辨率来表示该参数，ADI则规定使用峰峰值分辨率。峰峰
2023-12-15 07:56:29
总结：常用分辨率
2020-06-01 08:53:22
上看到的分辨率。不过近年来随着宽屏幕笔电大行其道，这个分辨率很难看到了。小姜的两台笔电都是这个分辨率的，算是工作需求吧 · UXGA (1600x1200) UXGA 又称为 UGA，分辨率
2011-02-26 15:31:10
求教，怎么调整andriod输出分辨率，适配分辨率大的屏
2023-11-06 07:13:42
您好，我计划将 X-Nucleo-cca02m2 板与 nucleo-f401re 一起用于音频流。我找到了 en.x-cube-memsmic1_v5.5.0 示例代码，其中发现 USB 音频流的位分辨率为 16 位。但我的要求是 24 位分辨率。更改给定源代码中的位分辨率是否有效？
2022-12-16 06:59:46
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
AD5522的输出电压跨度在22.5V左右，对应16bit的DAC的分辨率约22.5V/65536=343uV。
如果我想提高到170uV左右的分辨率，但是又要保持输出电压跨度22.5V不变需要用
2023-11-15 08:20:44
我看官方的ADXL354文档里面没有说最低分辨率，我想问一下ADXL354的最低分辨率能达到ADXL203的1mg吗？
2018-07-30 09:13:25
您好，问一下RK3399开发板的HDMI输出分辨率可以设置为1708*480吗，如果不可以，这个开发板上HDMI可以输出的最新分辨率是多少？
2021-12-30 06:07:10
上也能成功解码显示图像。。按照文档所说，sc 组件的输出分辨率是可以动态修改的~
但在解码显示图像后，我尝试过修改输出分辨率，结果程序就崩溃了···
我想问一下，能否动态修改图像的输出分辨率？如果能，该怎么做？ Thx!
PS:我的SDK版本是从TI官网下的最新的5.0.0.80
2018-06-21 09:02:06
您好，
请问有采样率250MHz左右 分辨率为12位，管脚兼容8位分辨率的adc吗？
谢谢！
2023-11-21 06:46:46
请问要达到0.05%的测量精度，需要多少位分辨率和准确度的ADC。能不能推荐几款，最好是能有2路同时输入的高精度ADC.
2018-09-13 11:06:16
请问要达到0.05%的测量精度，需要多少位分辨率和准确度的ADC。
能不能推荐几款，最好是能有2路同时输入的高精度ADC.
2023-12-18 06:54:07
加个属性节点设置一下vido mode，具体模式几可以先到NI MAX里看你电脑摄像头最高分辨率多少，在NI MAX里排第几个就是模式几。个人猜测找不到摄像头的原因是摄像头设置不了那么高的分辨率，而labview默认用最高分辨率打开。
2022-03-06 15:56:53
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
。 目前高精度贴片机的Z轴移动和转动已分别达到0.00 mm和0.0024度的分辨率，视觉系统的照相机分辨率每个像素达到0.038 mm。随着精密制造技术的发展，这些指标还会进一步提高，从而保证贴片机向更高精度的发展。 :
2018-09-05 10:49:01
本帖最后由 348081236 于 2016-1-11 15:46 编辑
每次树莓派连接显示器、换线的时候，总是因为坑爹的分辨率而无语，每次都因为这点小破事浪费不少时间。所以，楼主为大家提供一
2016-01-11 15:38:44
高分辨率示波器 全带宽下12-bit高分辨率，体验豪华的小信号分析能力· 12-bit高分辨率ADC采样，更好地呈现波形细节。相比于普通的8-bit示波器256级量化等级
2022-03-08 12:53:22
PMT-2离线光刻胶微粒子计数器是一款新型液体颗粒监测仪器。采用激光光散或光阻原理的颗粒检测传感器，可以对超纯水、自来水、饮用水、去离子水、矿泉水、蒸馏水、无机化学品、有机化学品、有机溶剂、清洗剂
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在线光刻胶液体粒子计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水
2023-01-03 15:54:49
默克与中电彩虹的创新合作项目光刻胶国产化项目于 7 月 17 日在陕西咸阳正式竣工。
2018-07-19 09:09:387064 从经开区企业北京欣奕华科技有限公司（以下简称“欣奕华”）了解到，经过多年的行业累积和技术迭代，欣奕华在平板显示用负性光刻胶领域实现了量产，预计今年将有1000吨的光刻胶交付用户，约占国内市场的8%。
2019-10-28 16:38:493761 随着电子信息产业发展的突飞猛进，光刻胶市场总需求不断提升。2019年全球光刻胶市场规模预计接近90亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%，预计未来3年仍以年均5%的速度增长，预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。
2020-03-01 19:02:484098 与ASML一台售价媲美一架F35 战斗机，达到1亿以上欧元的NXE3400B EVU设备比较起来，全球市场规模只有90亿美元的光刻胶就要不显眼许多。
2020-03-29 17:04:003758 光刻胶按应用领域分类，大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶（感光油墨）与半导体光刻胶等。按照下游应用来看，目前LCD光刻胶占比26．6%，刻胶占比24．5%，半导体光刻胶占比24．1%，PCB光其他类光刻胶占比24．8%。
2020-06-12 17:13:395380 此外，由于光刻加工分辨率直接关系到芯片特征尺寸大小，而光刻胶的性能关系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效应。光刻分辨率与曝光波长、数值孔径和工艺系数相关。
2020-10-15 15:09:186447 对公司光刻胶业务的具体影响等问题。 10月12日，晶瑞股份发布关于深圳证券交易所关注函的回复公告称，本次拟购买的光刻机设备将用于公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实
2020-10-21 10:32:104139 称，“ArF 光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF 光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产 ArF 光刻胶。 此举意味着国产193nm ArF 光刻胶产
2020-12-25 18:24:096227 调试。此外，这款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻机可用于研发最高分辨率达 28nm 的高端光刻胶。 IT之家了解到，晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚发布公告
2021-01-20 16:34:006083 1月19日晚，国内半导体材料公司晶瑞股份发表公告，宣称购得ASML公司光刻机一台，将用于高端光刻胶项目。
2021-01-21 09:35:512886 由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等，占据全球光刻胶市场份额超两成的日本供应商信越化学已经向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货KrF光刻胶
2021-06-25 16:12:28784 大涨9.72%，雅克科技大涨9.93%，强力新材、上海新阳、彤程新材等跟涨。 光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ，国产光刻胶再遇发展良机？ KrF光刻胶海外供应告急 据了解，光刻胶板块本轮异动的背后，是KrF光刻胶海外供应告急。自日本福岛2月份发生强震后，光刻胶市场一度传
2021-05-28 10:34:152623 光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50284 
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 
据吴中发布的最新消息，签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目，该项投资高达15亿元，旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43208 与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200 
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