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***需要采用全反射光学元件，掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性技术。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战，包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
小组分工：
周治道：文献查阅汇报
何洁：文献查阅
孟鑫昊：文献整合
梁译丹：文献整合PPT制作
编辑：黄飞
一文解析EUV掩模版缺陷分类、检测、补偿
- 光刻机(46249)
- 光刻技术(15631)
- EUV(85558)
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光刻可制造性检查如何检测掩模版质量
随着工艺节点不断变小，掩模版制造难度日益增加，耗费的资金成本从数十万到上亿，呈指数级增长，同时生产掩模版的时间成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保证其设计有足够高的品质，重新优化设计并再次制造一批掩模版将增加巨大的资金成本和时间成本。
2023-11-02 14:25:59284
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一文带你了解蔡司工业CT中的自动缺陷检测
蔡司自动缺陷检测 适用于您的应用领域的AI软件 蔡司自动化缺陷检测机器学习软件将人工智能应用于3D CT和2D X射线系统，树立了新的标杆，可对缺陷或异常（不规则）进行检测、定位与分类，同时通过读取
2023-11-14 11:27:27212
212分析蔡司工业CT中的自动缺陷检测
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2023-11-15 11:14:24221
221龙图光罩科创板IPO获批，募投项目技术和经济可行性是关键
龙图光罩拥有130nm及以上节点的半导体掩模版制备顶尖技术，覆盖 CAM、光刻、检测全流程。在功率半导体掩模版领域，其工艺节点已能充分满足全球主流制程的需求。
2023-12-18 09:41:15273
273机器视觉之玻璃产品缺陷检测
数字化处理后的图像传输至计算机中，依靠视觉检测软件系统完成缺陷图像的滤波、边缘检测、特征提取以及分类的功能，最终达到玻璃智能检测的目的。
2023-12-22 16:09:09188
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龙图光罩：致力于高端半导体掩模版国产化的先锋
2020年-2023年上半年，应用于功率半导体领域的掩模版是龙图光罩最主要的收入来源，且营收和营收占比呈现逐年递增的趋势。龙图光罩指出，在功率半导体掩模版领域，公司的工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。
2024-01-12 10:18:06325
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良品学习在高良率制造业中缺陷检测的应用
缺陷形态多变，还可能出现各种无法预测的异常情况，传统的缺陷模拟方法往往难以应对，这无疑增加了检测的成本和难度。良品学习阿丘科技的良品学习模式，拥有非监督分类与非监
2024-01-26 08:25:10157
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视觉检测设备的分类
、质量控制、医疗影像、安防监控、无人驾驶等。视觉检测设备的主要功能包括图像采集、图像处理、目标检测、特征提取、分类识别、缺陷检测、测量计量等，通过这些功能实现对目标物体的自动化检测和分析。常见的视觉检测设备包
2024-02-21 09:41:11166
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工商网监
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