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极紫外光刻随机效应的表现及产生原因
- 光刻机(46249)
- EUV(85558)
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450毫米晶圆2018年量产 极紫外光刻紧随其后
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2013-04-21 09:42:14
1285
1285光刻及资料分享—Optical Lithography
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光刻胶
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比
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紫外光线的原理
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Microchem SU-8光刻胶 2000系列
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浅析紫外光通信技术
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境
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电子元器件的紫外光老化试验
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紫外光通信系统关键技术研究
紫外光由于具有口盲特点而使其在通信方面有着特殊的的必要性及优越性，紫外光的调制与接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要区别点；介绍了，紫外光通信系统的构成原
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34紫外光通信系统中的视频传输研究
本文介绍了紫外通信系统中的视频传输领域，详细介绍了国内外紫外光通信的发展形势，以及紫外光视频传输中遇到的问题和解决方案。基于TI 生产的DM6437 开发板，使用H.264 作为
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光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用
新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光
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48长江存储喜迎第一台EUV极紫外光刻机：国产SSD固态硬盘将迎来重大突破
前些天，新闻曝光的中芯国际花了1．2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，而根据最新消息称，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
2018-06-29 11:24:008478
8478首款3nm测试芯片成功流片 采用极紫外光刻(EUV)技术
纳米电子与数字技术研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)技术。
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8347极紫外（EUV）光刻新挑战 光刻胶只是其一
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极紫外（EUV）光刻新挑战，除了光刻胶还有啥？
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更多的挑战
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5861台积电加速七纳米强化版极紫外光 独揽苹果处理器大单
台积电为防堵强敌三星在七纳米导入极紫外光（EUV）及后段先进封装，抢食苹果新一代处理器订单，已加速在七纳米强化版导入极紫外光时程。供应链透露，台积电可望年底建构七纳米强化版试产线，进度追平或超前三星，让三星无夺苹机会。
2018-04-08 11:22:00896
896深度解读紫外光通信技术
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2018-07-17 15:34:2813346
13346ASML表示2018年将出货20套光刻机，上半年业绩表现亮眼
荷兰半导体设备大厂ASML日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(EUV)光刻机，该数量预期在2019年将增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542
3542台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破
今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。
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4730全球首台用紫外光源实现的22纳米分辨率的光刻机
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2018-12-03 10:53:1212225
12225ASML正在着手开发新一代极紫外（EUV）光刻机
ASML副总裁Anthony Yen表示，ASML已开始开发极紫外（EUV）光刻机，其公司认为，一旦当今的系统达到它们的极限，就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142
7142探析紫外光通信技术原理及应用
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2019-02-21 15:40:375540
5540首次加入EVU极紫外光刻 台积电二代7nm+工艺开始量产
台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233
3233台积电 | 首次加入EUV极紫外光刻技术 7nm+工艺芯片已量产
台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401
3401三星宣布全球首座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂开始量产
三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214
2214ASML去年交付了26台极紫外光刻机，带来约31.43亿美元的营收
据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 10:50:591943
1943ASML去年交付26台极紫外光刻机，其中两款可用于生产7nm和5nm芯片
据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545045
5045ASML去年交付26台极紫外光刻机 其中约一半面向大客户台积电
据国外媒体报道，半导体行业光刻系统供应商ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机（EUV），调查公司Omdia表示，其中约一半面向大客户台积电。ASML此前公布，2019年，共向客户交付了26
2020-04-09 11:20:062310
2310两家极紫外光刻机公司3月份营收同比环比均上涨
对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364093
4093ASML今年一季度营收仅上一季度六成 极紫外光刻机仅两台能确认收入
4月17日消息，据国外媒体报道，在智能手机等高端设备芯片的工艺提升到5nm之后，能生产5nm芯片的极紫外光刻机就显得异常重要，而作为目前全球唯一能生产极紫外光刻机的厂商，阿斯麦的供应量直接决定了各大芯片制造商5nm芯片的产能。
2020-04-18 09:09:433544
3544开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞？
顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达10万个，比汽车零件精细数十倍！
2020-07-02 09:38:3911513
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1.2亿美元光刻机
光刻机价格高达1.2亿美元，比一架波音737都贵。 下面是最近ASML公布的极紫外光光刻机内部加工时的镜头，十分震撼： 在这台光刻机中，每秒在真空环境中，从底部容器流出5万滴融化的锡液，一对激光束照射每一滴液体产生等离子体，释放出更短的波长，
2020-10-15 09:20:054438
4438ASML答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）？
日前三星电子副董事长李在镕前往荷兰拜访光刻机大厂ASML，其目的就是希望ASML 的高层能答应提早交付三星已经同意购买的极紫外光光刻设备（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509
1509ASML承诺对向中国出口集成电路光刻机持开放态度
11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:552396
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目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻机
11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517
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台积电已向阿斯麦预订2021年所需极紫外光刻机
在5nm、6nm工艺大规模投产、第二代5nm工艺即将投产的情况下，芯片代工商台积电对极紫外光刻机的需求也明显增加。而外媒最新援引产业链消息人士的透露报道称，台积电已向阿斯麦下达了2021的极紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640
1640紫外光在缺陷检测中的应用
员广泛应用，但是市场对于塑料、油漆、印刷油墨和染料等产品的检测需求日益增加，而这些产品检测更适合采用紫外（UV）照明。过去，这些产品的检测受到了紫外光源成本过高的限制。然而，随着低成本紫外LED照明的出现，这些应用正变得越来越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:192887
2887三星电子正在寻求与极紫外光刻机供应商ASML合作
近日，据外媒报道，在芯片制程工艺方面一直落后于台积电的三星电子，目前正在寻求加强与极紫外光刻机供应商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研发。
2020-11-24 14:54:522073
2073台积电能够获大量芯片代工订单,离不开阿斯麦的光刻机
12月2日消息，据国外媒体报道，全球第一大芯片代工商台积电，能够获得大量的芯片代工订单，除了领先的制程工艺，还得益于阿斯麦所供应的大量先进的光刻机，在第二代7nm和5nm所需要的极紫外光刻机方面，尤其如此，他们获得的极紫外光刻机的数量，远多于三星。
2020-12-02 10:21:09835
835韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距
特别是，韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年，韩国本土提出的专利申请数量为40件，超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请首次超过国外。2020年，韩国提交的申请数量也是国外的两倍多。
2020-12-11 13:40:541386
1386关于紫外线探测器在紫外光刻机中的应用
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095
2095ASML研发更先进光刻机 高数值孔径极紫外光刻设计基本完成
对于阿斯麦（ASML）来说，他们正在研发更先进的光刻机，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。 ASML是全球目前唯一能制造极紫外光刻机的厂商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287
2287ASML新一代极紫外光刻机设计基本完成
12月29日消息，据国外媒体报道，ASML正在研发更先进、效率更高的高数值孔径极紫外光刻机：NXE:5000系列，设计已经基本完成，预计在2022年开始商用。
2020-12-30 10:29:302159
2159为何EUV光刻机会这么耗电呢
呢？OFweek君根据公开资料整理出了一些原因，供读者参考。 与DUV（深紫外光）光刻机相比，EUV光刻机的吞吐量相对较低，每小时可曝光处理的晶圆数量约在120片－175片之间，技术改进后，速度可以提升至275片每小时。但相对而言，EUV生产效率还是更高，
2021-02-14 14:05:003915
3915报道称台积电今年预计可获得18台极紫外光刻机
据国外媒体报道，台积电和三星电子的芯片制程工艺，均已提升到了 5nm，更先进的工艺研发也在推进，并在谋划量产事宜。 在制程工艺提升到 5nm 之后，也就意味着台积电、三星等厂商，对极紫外光刻机的需求
2021-01-25 17:10:181352
1352台积电今年将获得 18 台极紫外光刻机，三星、英特尔也有
，对极紫外光刻机的需求会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:543321
3321台积电向ASML下达18台极紫外光刻机需求
如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之大的需求令可以说是史上的天量，三星英特尔急了。
2021-01-26 09:22:051158
11585nm光刻机抢破头：台积电下达18台光刻机需求
如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重营销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。 为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之
2021-01-27 09:56:082956
2956未来极紫外光刻技术将如何发展?产业格局如何演变?
近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻（EUV）系统的出货，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588
2588SK海力士M16工厂已安装极紫外光刻机 开始试生产1anm DRAM
，也购进了极紫外光刻机，用于生产相关的芯片。 SK海力士已购入极紫外光刻机的消息，源自外媒中提到的M16工厂。外媒在报道中表示，SK海力士M16工厂的建设已经完成，极紫外光刻机也已经安装到位，将用于生产DRAM（动态随机存取存储器）。
2021-02-02 18:08:482632
2632SK海力士将大量购买极紫外光刻机
2月25日消息，据国外媒体报道，芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星，已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:011530
1530关于紫外光耐气候试验箱的介绍
UV4000紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用;材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样
2021-06-02 15:22:05624
624UV4000紫外光耐气候试验箱的符合标准有哪些
UV4000紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用;材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。 紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样
2021-06-17 15:34:56452
452紫外光通信技术：紫外光通信的基本原理
紫外光通信是以大气分子和子溶胶粒子的散射和吸收为基础的。紫外光通信基于两个相互关联的物理现象：一是大气层中的臭氧对波长在200nm到280nm之间的紫外光有强烈的吸收作用，这个区域被叫做日盲区
2022-03-18 10:11:034253
425390nm光刻机能生产什么的芯片
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺，如上海微电子装备公司（CMEE）制程90nm工艺的光刻机，那么90nm光刻机能生产什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257
31257三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634
5634duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
78127紫外光表面清洗技术与UV光清洗机
低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后，与有机污染物发生光敏氧化作用,不仅能去除污染物而且能改善表面的性能，从而提高物体表面的浸润性和粘合强度，或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据
2022-08-18 16:16:301080
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看一下EUV光刻的整个过程
EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367
4367UV紫外光导电银浆固化不彻底的主要原因有哪些
UV紫外光导电银浆固化不彻底的主要原因有哪些 SHAREX在导电银浆领域已经有十多年的开发经验，特别是最近开发的AS5100系列UV紫外光固化导电银浆获得客户的广泛认可，由于光固化银浆是个新生的品类
2022-10-15 15:05:501206
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焦点芯闻丨ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货
热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道，光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971
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紫外光刻机（桌面型掩膜对准）
MODEL：XT-01-UVlitho-手动版一、产品简介光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，是集成电路最重要的加工工艺。光刻胶在紫外光的照射下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程
2022-12-20 09:24:261211
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霍尔效应产生误差的原因
霍尔效应实验是一个受系统误差影响较大的实验，特别是在霍尔效应产生的同时，伴随产生的其他效应引起的附加电场对实验影响较大。霍尔效应产生误差的原因主要有以下几点：
2023-07-03 17:17:042566
2566虹科案例 | 用于低成本改造光刻设备的UV紫外光源
，半导体制造领域使用 传统大功率汞灯技术 用于光刻设备的紫外光源。这种光源虽然输出功率高，但输出光谱范围宽，制造和生产过程中会产生对环境有害的物质，并且工作寿命短，更换周期频繁。 UVLED 具有独特的技术优势和成本优势，能够输
2023-07-05 10:11:241026
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深紫外光刻复杂照明光学系统设计
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592
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紫外光固化系统在制造和生产中的优势有哪些
在uvitron，我们直接了解紫外光固化设备如何成为许多行业的关键技术，紫外光固化系统的好处很多，该技术对许多工业过程的效率、质量和可持续性产生了重大影响。
2023-07-21 11:42:17286
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考虑光刻中厚掩模效应的边界层模型
短波长透明光学元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波长，而晶片上所需的最小特征继续向更深的亚波长尺度收缩。这对用入射场代替掩模开口上的场的基尔霍夫边界条件造成了严重的限制，因为这种近似无法考虑光刻图像
2023-08-25 17:21:43279
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深紫外μLED作为日盲紫外光通信光源的研究现状和综合分析
实现深紫外光通信的一个关键器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高压汞灯实现，但汞灯的调制带宽非常小，这严重影响了深紫光通信的传输速率。
2023-09-05 11:13:00484
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极紫外 (EUVL) 光刻设备技术应用分析
欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264
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深紫外光子灭活技术
厦门大学康俊勇教授、尹君副教授课题组根据致病菌中遗传物质、蛋白质的紫外光吸收特性，开发了一种由275-nm氮化物LED组成的大功率（3.2 W）且辐照均匀的平面光源，能够在1秒内完成对新冠病毒
2023-10-17 15:22:23878
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简仪科技紫外光子成像技术应用
在面对紫外光子成像技术时，面临着诸多挑战。光子密度大、需要高频触发采集，以及实时计算光子位置进行谱图绘制，这些都对采集设备的性能提出了极高的要求。
2024-03-20 09:56:0777
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工商网监
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