引言 光刻胶又称“光致抗蚀剂”或“光阻剂”,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微纳制造技术的关键性材料。 光刻胶是光刻工艺最重要的耗材,其性能决定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:229350 关键词:氧气、微气泡、光刻胶、高剂量离子注入、气水界面 介绍 微气泡是一种很有前途的环保光刻胶去除方法的候选方法。已经证明,臭氧微气泡可以去除硅片上的光刻剂,即使被高剂量的离子注入破坏
2022-01-10 11:37:131396 光刻胶为何要谋求国产替代?中国国产光刻胶企业的市场发展机会和挑战如何?光刻胶企业发展要具备哪些核心竞争力?在南京半导体大会期间,徐州博康公司董事长傅志伟和研发总监潘新刚给我们带来前沿观点和独家分析。
2022-08-29 15:02:235918 ,增幅11.11%。 截图自企查查 光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料,目前主要被日美把控,国内在光刻胶方面投入研制的厂商主要晶瑞股份、南大光电、上海新阳、徐州博康、北京科华等,那么华为投资的徐州博康在光刻胶方面有何优势,国内厂商在光
2021-08-12 07:49:005380 电子发烧友原创 章鹰 近日,全球半导体市场规模增长带动了上游半导体材料旺盛需求,“光刻胶”的突破也成为国内关注焦点。正当日本光刻胶企业JSR、东京应化和美国Lam Research在EUV光刻胶
2022-08-31 07:45:002718 一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17:47
:1倍的在硅片上直接分步重复曝光系统。 光致抗蚀剂 简称光刻胶或抗蚀剂,指光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。光蚀剂分为两大类。①正性光致抗蚀剂:受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的非
2012-01-12 10:51:59
关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩大负性胶,可以形成台阶等结构复杂的图形;在电镀时可以直接作为绝缘体使用。 SU-8光刻胶的优点:1
2018-07-12 11:57:08
在集成电路制造中的应用,对其反应机理及应用性能指标进行阐述,重点从工艺的角度去提出新的研究方向。关键词:光刻胶;应用性能;反应机理;集成电路;光刻 中图分类号:TN305.7 文献标识码: A
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分,然后生成了图案是这样的: 感觉间距小的地方全都有残留,间距大的地方没有残留;工艺参数:s9920光刻胶, evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆,前烘:100摄氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年,位总部设在美国新泽西州,富兰克林市。 公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史,尤其是其光刻胶
2010-04-21 10:57:46
环境湿度太大,使胶与玻璃表面粘附不良。因此,得注意做好玻璃表面清洁处理和操作的环境的温,湿度及清洁工作。2)光刻胶配制有误或胶陈旧不纯,胶的光化学反应性能不好,使胶与ITO层成健能力差,或者胶膜不均匀
2018-11-22 16:04:49
的杂质和油污洗净,然后把水除去并干燥,保证下道工艺的加工质量。C. 涂光刻胶:在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶,涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理。D. 前烘:在一定的温度下将涂有
2019-07-16 17:46:15
SU 8光刻胶系列产品简介:新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
lithography是一种平板印刷技术,在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下:首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面,淀积一层光刻胶;使用掩模版对光刻胶曝光固化,并在
2018-08-24 16:39:21
的,并且在光刻胶显影步骤后验证了附着力。没有参考文献提到在湿蚀刻过程中使用预涂层处理来提高附着力,也没有观察到对湿蚀刻轮廓的影响,这通常归因于蚀刻剂的 GaAs 晶体结构和特性。 背景: 流程变更 对我们
2021-07-06 09:39:22
区别在于材料的化学结构和光刻胶对光的反应方式。对于正性光刻胶,暴露在紫外线下的区域会改变结构,变得更容易溶解从而为刻蚀和沉积做好准备。负性光刻胶则正好相反,受光照射的区域会聚合,这会使其变得更难溶解
2022-04-08 15:12:41
光刻技术中,涂有光刻胶的硅片与掩膜版直接接触.由于光刻胶和掩膜版之间紧密接触,因此可以得到比较高的分辨率.接触式暴光的主要问题是容易损伤掩膜版和光刻胶.当掩膜版与硅片接触和对准时,硅片上很小的灰尘
2012-01-12 10:56:23
半导体材料市场构成:在半导体材料市场构成方面,大硅片占比最大,占比为32.9%。其次为气体,占比为14.1%,光掩膜排名第三,占比 为12.6%,其后:分别为抛光液和抛光垫、光刻胶配套试剂、光刻胶、湿化学品、建设靶材,比分别为7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00:57
了优化的制作倒台面结构的光刻胶图形的工艺参数:匀胶转速4 000 r / min,前烘温度100 ℃,时间60 s,曝光时间0?3 s,反转烘温度110 ℃,时间90 s,泛曝光时间2 s,显影时间
2009-10-06 10:05:30
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
一.工艺流程简述: 前段工位: ITO 玻璃的投入(grading)—— 玻璃清洗与干燥(CLEANING)——涂光刻胶(PR COAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP
2016-06-30 09:03:48
涂敷光刻胶 光刻制造过程中,往往需采用20-30道光刻工序,现在技术主要采有紫外线(包括远紫外线)为光源的光刻技术。光刻工序包括翻版图形掩膜制造,硅基片表面光刻胶的涂敷、预烘、曝光、显影、后烘、腐蚀
2019-08-16 11:11:34
胶的曝光部分结构被破坏,被溶剂洗掉,使得光刻胶上的图形与掩模版上图形相同。相反地,在负性光刻中,负胶的曝光部分会因硬化变得不可溶解,掩模部分则会被溶剂洗掉,使得光刻胶上的图形与掩模版上图
2020-07-07 11:36:10
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留,找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
为满足电磁型平面微电机对定子绕组线圈的高深宽比及厚度要求,提出一种利用AZ4903光刻胶制作电磁平面微电机定子绕组的方法。通过反复摸索,得到了该光刻胶的较理想_的转速一
2009-06-29 14:20:2853 PMT-2离线光刻胶微粒子计数器是一款新型液体颗粒监测仪器。采用激光光散或光阻原理的颗粒检测传感器,可以对超纯水、自来水、饮用水、去离子水、矿泉水、蒸馏水、无机化学品、有机化学品、有机溶剂、清洗剂
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在线光刻胶液体粒子计数器,采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器,双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统,可以对清洗剂、半导体、超纯水
2023-01-03 15:54:49
光刻胶(光敏胶)进行光刻,将图形信息转移到基片上,从而实现微细结构的制造。光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻胶上,通过掩膜版(也称为光刻掩膜)上的图形
2023-07-07 11:46:07
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210 这是一种老式的旋转涂胶机,将芯片上涂上光刻胶然后将芯片放到上边,可以通过机器的旋转的力度将光刻胶均匀分布到芯片表面,光刻胶只有均匀涂抹在芯片表面,才能保证光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498 干膜光刻胶是由预先配制好的液态光刻胶(Photoresist)在精密的涂布机上和高清洁度的条件下均匀涂布在载体聚酯薄膜(PET膜)上,经烘干、冷却后,再覆上聚乙烯薄膜(PE膜),收卷而成卷状的薄膜型光刻胶。
2019-01-30 16:49:1410707 在国家政策与市场的双重驱动下,近年来,国内企业逐步向面板、半导体光刻胶发力……
2019-04-23 16:15:3612831 近日,日本对韩国进行出口限制,光刻胶材料赫然在列。
2019-07-15 09:28:493498 7月17日,南大光电在互动平台透露,公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中,预计2019年底建成一条光刻胶生产线,项目产业化基地建设顺利。
2019-07-18 16:14:594862 预计2019年底建成一条光刻胶生产线,项目产业化基地建设顺利。
2019-07-19 14:08:305317 从经开区企业北京欣奕华科技有限公司(以下简称“欣奕华”)了解到,经过多年的行业累积和技术迭代,欣奕华在平板显示用负性光刻胶领域实现了量产,预计今年将有1000吨的光刻胶交付用户,约占国内市场的8%。
2019-10-28 16:38:493761 近日,上海新阳在投资者互动平台上表示,公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试,ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。
2019-12-04 15:24:457942 今年7月17日,南大光电在互动平台透露,公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中,预计2019年底建成一条光刻胶生产线,项目产业化基地建设顺利。
2019-12-16 13:58:527318 随着电子信息产业发展的突飞猛进,光刻胶市场总需求不断提升。2019年全球光刻胶市场规模预计接近90亿美元,自2010年至今CAGR约5.4%,预计未来3年仍以年均5%的速度增长,预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。
2020-03-01 19:02:484098 在国际半导体领域,我国虽已成为半导体生产大国,但整个半导体产业链仍比较落后。特别是由于国内光刻胶厂布局较晚,半导体光刻胶技术相较于海外先进技术差距较大,国产化不足5%。在这种条件下,国内半导体厂商积极开展研究,如晶瑞股份的KrF光刻胶,南大光电的ArF光刻胶均取得较好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 光刻胶按应用领域分类,大致分为LCD光刻胶、PCB光刻胶(感光油墨)与半导体光刻胶等。按照下游应用来看,目前LCD光刻胶占比26.6%,刻胶占比24.5%,半导体光刻胶占比24.1%,PCB光其他类光刻胶占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395380 等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。 据第三方机构智研咨询统计,2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元,
2020-09-15 14:00:1416535 全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元,年复合增长率达6.3%;应用方面,光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域,各占约25%市场份额。
2020-09-21 11:28:043290 全球光刻胶市场规模从2016 年的15 亿美元增长至2019年的18亿美元,年复合增长率达6.3%;应用方面,光刻胶主要应用在PCB、半导体及LCD显示等领域,各占约25%市场份额。 国内光刻胶整体
2020-10-10 17:40:252957 、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射,从而使光刻胶的溶解度发生变化。 按照应用领域分类,光刻胶主要包括印制电路板(PCB)光刻胶专用化学品(光引发剂和树脂)、液晶显示器(LCD)光刻胶光引发剂、半导
2022-12-06 14:53:541238 文|Lee 集微网消息,近期,晶瑞股份因购买ASML光刻机设备受到了资本市场的热捧,也收到了深交所下发的关注函。深交所重点关注了晶瑞股份本次购买光刻机设备的具体用途、资金来源以及本次购买光刻机事项
2020-10-21 10:32:104139 光刻胶是微纳加工过程中非常关键的材料。有专家表示,中国要制造芯片,光有光刻机还不够,还得打破国外对“光刻胶”的垄断。
2020-12-08 10:53:564168 导 读 日前,南大光电公告称,由旗下控股子公司宁波南大光电材料自主研发的 ArF 光刻胶产品成功通过客户使用认证,线制程工艺可以满足 45nm-90nm光刻需求。 图:南大光电公告 公告
2020-12-25 18:24:096227 近期,专注于电子材料市场研究的TECHCET发布最新统计和预测数据:2021年,半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%,达到19亿美元。
2021-03-22 10:51:125081 按照应用领域分类,光刻胶主要包括印制电路板(PCB)光刻胶专用化学品(光引发剂和树脂)、液晶显示器(LCD)光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂和其他用途光刻胶四大类。本文主要讨论半导体光刻胶。
2021-05-17 14:15:524011 由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等,占据全球光刻胶市场份额超两成的日本供应商信越化学已经向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶,且已通知更小规模晶圆厂停止供货KrF光刻胶
2021-06-25 16:12:28784 大涨9.72%,雅克科技大涨9.93%,强力新材、上海新阳、彤程新材等跟涨。 光刻胶板块的大涨吸引了产业注意 ,国产光刻胶再遇发展良机? KrF光刻胶海外供应告急 据了解,光刻胶板块本轮异动的背后,是KrF光刻胶海外供应告急。自日本福岛2月份发生强震后,光刻胶市场一度传
2021-05-28 10:34:152623 光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 来源: 果壳硬科技 1、光刻胶究竟是怎样一个行业? 光刻胶,又称“光致抗蚀剂”,是光刻成像的承载介质,可利用光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量,从而把微细图形从掩模版转移到
2022-01-20 21:02:461208 摘要 我们华林科纳提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂,选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量的影响。实验表明,低粘度正光刻胶
2022-01-26 11:43:22687 什么是光刻?光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗;阻挡层的形成;光刻胶应用;软烤;掩模对准;曝光和显影;和硬烤。
2022-03-15 11:38:02850 本文提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂,选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量的影响。实验表明,低粘度正光刻胶AZ703
2022-03-24 16:04:23756 本发明涉及一种去除光刻胶的方法,更详细地说,是一种半导体制造用光刻胶去除方法,该方法适合于在半导体装置的制造过程中进行吹扫以去除光刻胶。在半导体装置的制造工艺中,将残留在晶片上的光刻胶,在H2O
2022-04-13 13:56:42872 这项研究首先集中于去除直接沉积在硅衬底上的193纳米厚的光刻胶和BARC层,使用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和椭圆偏振光谱(SE)来评估去除效率,在第二部分中,研究了金属硬掩模/多孔低k镶嵌结构
2022-05-30 17:25:241115 灰化,简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉,光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。
2022-07-21 11:20:174871 光刻胶产品说明英文版资料分享。
2022-08-12 16:17:252 南大光电最新消息显示,国产193nm(ArF)光刻胶研发成功,这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体;徐州博康宣布,该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列,包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent
2022-10-21 16:40:0415831 半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品,海外进口依赖较重,不同品质之间价 格差异大。以国内 PAG 对应的化学放大型光刻胶(主要是 KrF、ArF 光刻胶)来看,树脂在 光刻胶中的固含量
2022-11-18 10:07:432574 光刻胶是IC制造的核心耗材,技术壁垒极高。根据TECHCET数据,预计2022年全球半导体光刻胶市场规模达到23亿美元,同比增长7.5%,2025年超过25亿美元。
2023-03-21 14:00:492095 新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571 20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用途的光刻胶配套。
2023-11-21 14:54:57315 为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,导致上万片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48550 KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50284 光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36409 匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:56442 所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多,此次涨价涉及的KrF 光刻胶则属高级别光刻胶,将成为各厂商关注的焦点。
2023-12-28 11:14:34381 光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升,中国有望承接半导体
2024-01-19 08:31:24340 据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43208 光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
2024-03-04 10:49:16132 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200
评论
查看更多