1. 英特尔将获美国35亿美元芯片补贴
美国国会助理表示,美国政府计划对英特尔补贴35亿美元,以生产军用先进半导体,该预算编列在当地时间3月6日通过的一项快速支出法案中。
这笔资金为期三年,用于支持所谓“安全飞地(secure enclave)”的计划。计划的资金来自总金额390亿美元的《芯片和科学法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓励芯片制造商在美国生产半导体,目前已有600多家公司表明希望获得补助。2023年11月有报道称,英特尔正协商就“安全飞地”的计划争取30亿至40亿美元的补贴。另有报道称,英特尔有望从芯片法案拿到超过100亿美元的现金和贷款补助。
2. 美光将首先采用佳能纳米压印光刻机,降低DRAM生产成本
美国存储厂商美光计划首先采用日本佳能的纳米压印(NIL)光刻机,希望借此进一步降低生产DRAM存储器的成本。美光日前举办演讲,介绍纳米压印技术用于DRAM生产的细节。美光阐述了DRAM制程和浸润式曝光解析度的问题,通过Chop层数不断增加,必须增加更多曝光步骤,以取出密集存储阵列周围的虚置结构。
由于光学系统特性,DRAM层图案很难用光学曝光图案,纳米压印可实现更精细的图案,且成本是浸润式光刻的20%,成为较佳的解决方案。但纳米压印并不能在存储器生产所有阶段取代传统光刻,两者并非纯粹竞争关系,但至少可以降低部分技术操作成本。佳能于2023年10月推出新型FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机,可将电路图案直接印在晶圆上,佳能强调了该设备的低成本和低功耗,其前景成为行业争论的话题。
3. 传三星与应用材料合作简化EUV光刻技术
消息称三星电子正在与应用材料公司合作,希望减少极紫外(EUV)工艺步骤的数量,如果成功,将有助于降低半导体生产成本。韩国业界表示,随着越来越多的公司采用EUV工艺,预计许多公司将开始投资减少EUV工艺步骤的技术。
业内消息人士称,三星正在尝试与应用材料公司合作,以减少4nm的工艺步骤数量。这将主要通过应用材料的“Centura Sculpta”图案化系统来实现,该系统于2023年开发,旨在减少EUV工艺步骤。Centura Sculpta是一种图案成型系统,可帮助客户减少光刻时间。应用材料在2023年2月表示,光刻技术正变得越来越复杂和昂贵,新技术方法可以简化芯片生产流程,同时减少浪费和环境影响。应用材料声称,Centura Sculpta可以将每片晶圆的生产成本降低50美元以上。
4. 高塔半导体回应工厂停工:仍将按计划履行晶圆交付承诺
近日媒体报道称,在行业放缓的情况下,高塔半导体计划对其美国纽波特海滩市(Newport Beach)的大部分业务进行为期三周的停工,此举将使近700名员工休假。高塔半导体确认将于4月1日至7日关闭其大部分业务,并计划在7月1日至7日和10月7日至13日关闭更多业务。
对此,高塔半导体发布声明指出,Tower Newport Beach工厂计划在 4 月 1 日至 4 月 7 日期间进行维护,晶圆上线计划和生产在此期间会受限制。因为这是一次计划中的正常维护,我们仍将按计划履行晶圆交付承诺。Tape out工作将继续进行,不会中断。
5. 传HBM良率仅为65%,存储大厂力争通过英伟达测试
HBM高带宽存储芯片被广泛应用于最先进的人工智能(AI)芯片,据业界消息,英伟达的质量测试对存储厂商提出挑战,因为相比传统DRAM产品,HBM的良率明显较低。
台积电、三星代工等公司,此前在加工单一硅晶圆时一直面临将良率维持在最佳水平的挑战,但当前这一问题蔓延到了HBM行业。消息称美光、SK海力士等存储厂商,在英伟达下一代AI GPU的资格测试中将进行竞争,似乎差距不大,而良率将是厂商们的阻碍。消息人市场称,目前HBM存储芯片的整体良率在65%左右,其中美光、SK海力士似乎在这场竞争中处于领先地位。据悉,美光已开始为英伟达当前最新的H200 AI GPU生产HBM3e存储芯片,因为其已通过Team Green设定的认证阶段。
6. 消息称特斯拉 FSD Beta 辅助驾驶功能 2025 年登陆欧洲,中国最快今年夏天开始测试
@Florian Minderop 表示,欧盟已经在刚刚举行的世界车辆法规协调论坛(WP.29)上通过了新规,确认特斯拉 FSD 欧洲版将于 2025 年登陆欧洲市场,这一消息还得到了 @Teslascope 的证实。
@Teslascope 还补充道,特斯拉 FSD Beta 测试版可能会从今年 10 月开始在欧盟部分地区进行测试。此外,特斯拉 FSD Beta 中国版也在快速推进中,目前暂定的发布目标是今年夏天。实际上,今年以来已经传出多次“特斯拉 FSD 入华”的消息,但特斯拉官方只表示“目前没有推出的准确时间”。不过早在去年 11 月,随着四部委联合印发通知部署开展智能网联汽车准入、上路通行试点工作,特斯拉 FSD 当时也被认为进入“倒计时”阶段。特斯拉中国曾回应称:“目前确实正在推进中”。
今日看点丨美光将首先采用佳能纳米压印光刻机;传三星与应用材料合作简化EUV光刻技术
- 美光(50950)
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EUV光刻机对半导体制程的重要性
晶圆产率方面还有很大发大空间。EUV光刻机对7nm及以下的工艺节点非常重要,台积电、三星两大代工巨头均已在最新产品中引入7纳米EUV技术。 EUV光刻机垄断者ASML 目前,光刻机领域的龙头老大是荷兰
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ASML正在着手开发新一代极紫外(EUV)光刻机
ASML副总裁Anthony Yen表示,ASML已开始开发极紫外(EUV)光刻机,其公司认为,一旦当今的系统达到它们的极限,就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
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台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台
由于三星去年就小规模投产了7nm EUV,同时ASML(荷兰阿斯麦)将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台,显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:037913
ASML发布2019年Q2季度财报 EUV光刻机最主要的问题还是产能不足
掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
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动态 | 阿斯麦发布Q2财报:EUV光刻机产能大增
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2019-07-23 10:47:213102
关于EUV光刻机的分析介绍
格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
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ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。
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半导体巨头为什么追捧EUV光刻机
近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13
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中芯国际表示深圳工厂进口光刻机不是EUV光刻机
据中国证券报报道,3月6日下午从中芯国际获悉,日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机,但这是设备正常导入,用于产能扩充,并非外界所称的EUV光刻机。
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ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
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曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194670
微光刻胶技术在全球范围内为纳米压印光刻量身定制了光刻胶配方
纳米压印光刻技术及其应用的需求正在不断变化。因此,此次合作的基本目标是了解市场最新需求,进而通过双方在工艺和材料方面的优势,合力开发出相应的解决方案,从而应对该行业不断出现的严峻挑战。
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【重磅】王毅到访荷兰,期待放行ASML EUV光刻机 来源:中国半导体论坛 彭博引述知情人士消息称,荷兰政府极有可能不会给予ASML向中国出货EUV光刻机的许可证。一年前的许可证到期后,在美国
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据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余台,台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,台积电与三星电子的竞争日益激烈。
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2020-10-15 09:20:054438
一文详解光刻机技术
最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机,我为什么会这样说呢?
2020-10-19 11:42:5120305
EUV光刻机还能卖给中国吗?
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2020-10-19 12:02:499647
三星急需EUV光刻机赶产量_2022年或将再购买60部EUV设备
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目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻机
11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
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为何EUV光刻机会这么耗电呢
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2021-02-25 11:39:091844
中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?
5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别? EUV光刻机产能如何? 大飞_6g(听友) 请问谢博士,EUV光刻机的产能是怎样的?比如用最先进的光刻机,满负荷生产手机芯片麒麟990,每天能产多少片?中芯国际有多少台投入生产的光刻机?是1台、5台还是10台呢?谢谢 谢志
2021-03-14 09:46:3023476
光刻机原理介绍
光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772
EUV光刻机何以造出5nm芯片
7nm之下不可或缺的制造设备,我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力,还有蔡司和TRUMPF(通快)两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742
光刻胶和光刻机的关系
光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281
光刻机干啥用的
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813
俄罗斯签署合同欲研发顶尖X射线光刻机
在半导体的制造中,光刻机作为其中重要的组成部分,其技术非常复杂,价格也十分昂贵。 由于近期冲突,俄罗斯芯片进口遭严重限制,在其国内没有光刻机的情况下,俄罗斯贸工部选择了与俄罗斯莫斯科电子技术学院签署
2022-04-06 10:35:337960
三星董事李在镕亲自拜访ASML,只为争取到EUV光刻机
媒体称三星的目的是为了抢到ASML的EUV光刻机。 目前芯片短缺的现状大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻机才能打造,而本来EUV光刻机就稀少,因此先进芯片发展频频受限,并且前段时间三星才刚刚和Intel洽谈完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:041176
台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究
年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机,并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道:台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去,将首先与合作伙伴进行相关的研究。 据了解,High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径,相比于现在的光刻技术,
2022-06-17 16:33:276499
新EUV光刻机售价超26亿,Intel成为首位买家,将于2025年首次交付
在芯片研发的过程中,光刻机是必不可少的部分,而随着芯片制程工艺的不断发展,普通的光刻机已经不能满足先进制程了,必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程,而目前台积电和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676
三星可生产euv光刻机吗 euv光刻机每小时产能
随着芯片制程工艺的更新迭代,芯片已进入纳米时代,指甲盖大小的芯片上集成的晶体管数量高达百亿。然而芯片制造最大的困难是光刻机。
2022-07-05 10:57:265743
三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634
euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机
EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523
euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗
大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766
euv光刻机是哪个国家的
是哪个国家的呢? euv光刻机许多国家都有,理论上来说,芯片强国的光刻机也应该很强,但是最强的光刻机制造强国,不是美国、韩国等芯片强国,而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:276977
euv光刻机是干什么的
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066173
duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
euv光刻机原理是什么
euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099
euv光刻机用途是什么
光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116
EUV光刻技术相关的材料
与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010
Microlight3D双光子聚合3D纳米光刻机新突破
MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件.
2022-08-08 13:54:185884
佳能发售半导体光刻机解决方案Lithography Plus
来源:佳能集团 通过技术与数据优势,提升光刻机的生产效率 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”),该系
2022-09-06 17:01:491195
除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?
厂商尼康和佳能为例,他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机,基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
2022-11-24 07:10:033222
密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机
电子发烧友网报道(文/ 周凯扬 )到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02952
纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?
日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391837
佳能推出5nm芯片制造设备,纳米压印技术重塑半导体竞争格局
佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,但由于制程简化,耗电仅为EUV的十分之一,且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:18551
佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机
Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同,纳米压印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270
押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!
了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004635
绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围
电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下,摩尔定律
2023-07-16 01:50:153009
纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?
压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。 今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:002917
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