1. 武汉光谷实验室研发量子点光刻胶:蓝光激发红色转换率达 45.0%,有望应用于 micro-LED
武汉光谷实验室宣布与华中科技大学等研究团队合作研发出高性能量子点光刻胶(QD-PR),其蓝光转换效率达到 44.6%(绿色)和 45.0%(红色),光刻精度达到 1 μm,各项性能指标为行业领先水平。
据介绍,目前主流的 RGB 三色 micro-LED 全彩技术,存在巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂、不同颜色光衰不同等问题,并且由于 micro-LED 尺寸减小,红色 LED 的发光效率急剧下降。而使用单色蓝光 micro-LED 激发绿色和红色荧光材料实现全彩化显示可以规避上述问题。这些量子点色转换像素还表现出优异的稳定性,在空气中 75℃加热 120 小时后仍能保留原始发光性能的 92.5%(红色)和 93.4%(绿色)。
2. 夏普考虑将半导体、相机模组事业出售给鸿海,具体金额未透露
夏普宣布,正在考虑在本财年内将半导体业务和智能手机用相机模组业务出售给鸿海。对于出售金额,夏普社长冲津雅浩称由于谈判刚刚开始,更多细节目前不便透露。
早在 7 月 11 日便有报道称,富士康集团已进军先进封装领域,重点布局时下主流的面板级扇出封装(FOPLP)半导体方案。继旗下群创光电(Innolux)之后,富士康集团投资的夏普(Sharp)也宣布进军日本面板级扇出式封装领域,预计将于 2026 年投产。
3. 传禾赛科技将被美国国防部移出黑名单
据多位知情人士透露,美国五角大楼认为,全球最大的电动汽车激光传感器制造商禾赛科技不符合列入黑名单的法律标准,因此决定将其从黑名单中移除。此前美国国防部在今年1月份将禾赛科技列入“中国军工企业”名单。
2021年,美国国会通过立法,要求五角大楼编制这份名单。该法案旨在加强对在美国运营的中国团体的审查。总部位于上海的禾赛科技今年5月起诉五角大楼,称五角大楼没有证据表明其说法,并称此举“武断且反复无常”。
4. 英特尔向爱尔兰员工提供高达50万欧元的自愿离职补偿金
英特尔最近宣布将全球裁员15%,涉及1.75万人,以削减成本并扭转低迷的盈利局面。在爱尔兰,这家芯片制造商最近向其位于莱克斯利普的员工提供了高达50万欧元(约合人民币392.17万元)的自愿离职补偿金。
该提案于近期分发给员工,要求员工在8月23日之前申请自愿离职。根据提供的条款,服务超过两年的员工每服务一年可额外获得5周的工资。这是爱尔兰法定的每服务一年2周工资的补充,上限为每周600欧元。该提案为在英特尔工作不到两年的员工提供每服务一年5周工资。如果自愿离职获批,员工可以获得价值50万欧元的遣散费。申请该提案的员工将于9月6日获悉离职是否获批,获批的员工将于9月30日离开英特尔。
5. 英伟达车用域控AD1在联宝工厂成功下线,联想晋升Thor平台Tier 1
近日,“合肥经开发布”发文称,日前,面向L4级自动驾驶市场的车规级域控制器AD1在位于合肥经开区的联宝工厂首次成功下线,意味着联宝科技成为首批实现NVIDIA DRIVE Thor芯片产品生产落地的工厂,联想也凭此成为首批成功点亮NVIDIA DRIVE Thor平台的汽车一级供应商。
据介绍,联宝科技生产的AD1是针对L4级自动驾驶商业应用场景的需求而规划、设计的车规级域控制器产品。根据天眼查,联宝(合肥)电子科技有限公司成立于2011年,位于安徽省合肥市,由联想与仁宝两家公司合资建立,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业,注册资本26500万美元。2017年,联宝营收突破500亿元,成为了联想最大的PC研发和制造基地。
6. 苹果取消推出 Micro-LED 面板 Apple Watch,消息称 LG 公司遭“背刺”正寻求赔偿
据韩媒报道,由于苹果公司决定放慢新型面板的应用速度,目前该公司已取消推出搭载 Micro-LED 屏幕的 Apple Watch 手表。虽然苹果公司并未向 LG 公司下达任何 Micro-LED 订单,但外媒提到 LG 公司实际上已经根据行业风声对 Micro-LED 技术进行了数百亿韩元的投资,同时还成立了一个特别工作组为苹果 Apple Watch 所用的 Micro-LED 面板确保工艺空间。
虽然苹果公司与 LG 公司之间并未就此事构成任何严格意义上的法律责任,但外媒报告表明,一个可能的结果是,苹果将提高向 LG 支付的 iPhone 和 iPad OLED 面板价格作为“LG 特意提前为苹果 Micro-LED Apple Watch 做准备”的“补偿形式”,从而保证供应链间的伙伴关系。
今日看点丨英特尔提供高达50万欧元的自愿离职补偿金;武汉光谷实验室研发量子点光刻胶
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2022-11-25 17:03:371696
「前沿技术」英特尔以硅基技术成功制造量子芯片
来源:《半导体芯科技》杂志10/11期 在2022年硅量子电子研讨会上,英特尔实验室宣布以现有硅基半导体技术成功生产自旋量子计算芯片,这为未来量产量子计算机打下基础。英特尔表示,最新研究结果是目前
2022-11-28 17:22:331032
高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺
此前该公司指出,公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线,具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力,目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。
2023-04-11 09:25:321069
英特尔量子芯片,重磅公布
目前,学术机构没有像英特尔这样的大批量制造制造设备。有了 Tunnel Falls,研究人员可以立即开始进行实验和研究,而不是尝试制造自己的设备。因此,更广泛的实验成为可能,包括更多地了解量子位和量子点的基础知识,以及开发用于使用具有多个量子位的设备的新技术。
2023-06-20 15:38:56610
半导体制造领域光刻胶的作用和意义
光刻是半导体加工中最重要的工艺之一,决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%,占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材,其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24633
光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?
光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095
不仅需要***,更需要光刻胶
为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,导致上万片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48842
阿里达摩院裁撤量子实验室证实!
据阿里达摩院证实,他们已经决定裁撤量子实验室,并将实验室及仪器设备捐赠给浙江大学。这一举措的目的是为了促进量子科技的协同发展,并将捐赠的实验室和设备开放给浙江大学及其他高校和科研机构使用。
2023-11-28 18:20:28932
万润股份在半导体制造材料领域稳步推进,涉足光刻胶单体、PI等业务
近期,万润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58599
匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?
匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:561190
光刻胶分类与市场结构
光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21861
瑞红集成电路高端光刻胶总部落户吴中
据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43383
光谷实验室研发短波红外成像胶体量子点芯片
近日,首个胶体量子点成像芯片在光谷实验室研发成功,其具备优异性能。该芯片已能实现短波红外成像,面阵规模达到30万,盲元率低于每十万个像素中只有6个因素导致信号丢失,图像波长范围为0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297
要让量子计算走出实验室
转自环球时报环球时报记者张蔚蓝陈子帅原稿标题:中国科学院量子信息重点实验室副主任郭国平:要让量子计算走出实验室原文链接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198
武汉光谷实验室短波红外芯片完成中试,年内预计销售千万元
一颗黄豆大小的芯片,利用新技术胶体量子点红外探测成像做成“视觉芯片”,装到手机、检测器上,可以“穿透”介质,看到肉眼看不到的“真相”。 光谷实验室近日宣布,其联合科研团队(华中科技大学实验室、温州
2024-03-12 08:43:40254
光谷实验室研发胶体量子点成像芯片,有望颠覆短波红外市场
湖北光谷实验室近日宣布,其科研团队研发的胶体量子点成像芯片已实现短波红外成像,面阵规模30万、盲元率低于6‰、波长范围0.4-1.7微米、暗电流密度小于50 nA/cm²、外量子效率高于60%,号称“性能优越”。
2024-03-12 14:46:59616
关于光刻胶的关键参数介绍
与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:501437
英特尔推出Hala Point全球最大仿神经形态系统,解决AI效率问题
英特尔实验室神经形态运算总监Mike Davies指出,“当前AI模型训练及部署成本增长迅速,行业亟需创新方法。因此,英特尔实验室研发了Hala Point,融合深度学习效率、类人脑持续学习和优化功能。
2024-04-23 10:00:55329
一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点
共读好书 前烘对正胶显影的影响 前烘对负胶胶显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】6 月 28-30 日北京“电子化学品行业分析检测与安全管理培训班”。 审核编辑 黄宇
2024-06-23 08:38:02244
光刻胶的保存和老化失效
我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在光刻过程中如果发现有异常情况发生,我们
2024-07-08 14:57:08251
光刻胶的图形反转工艺
图形反转胶是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正胶使用又可以作为负胶使用。相比而言,负胶工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负胶工艺。 应用领域 在反转工艺下,通过适当的工艺参数,可以获得底切的侧壁
2024-07-09 16:06:00162
光刻胶后烘技术
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
2024-07-09 16:08:43252
光刻胶的一般特性介绍
评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量
2024-07-10 13:43:49161
光刻胶的硬烘烤技术
根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
2024-07-10 13:46:59127
光刻胶涂覆工艺—旋涂
为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求,有许多工艺可用于涂覆光刻胶。 旋涂是用光刻胶涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201
导致光刻胶变色的原因有哪些?
存储时间 正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
2024-07-11 16:07:49204
破纪录!芯片巨头裁员,遣散费400万元/人!
莱克斯利普(Leixlip)的员工提供了自愿离职方案, 补偿金额可能高达50万欧元(约393万元人民币,接近400万元人民币)。 该提案规定,员工需在8月23日前申请自愿离职。根据提出的条件,服务超过两年的员工每年可额外获得五周工资的补偿。这还不包
2024-08-14 09:17:14199
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