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电子发烧友网>制造/封装>今日看点丨英特尔提供高达50万欧元的自愿离职补偿金;武汉光谷实验室研发量子点光刻胶

今日看点丨英特尔提供高达50万欧元的自愿离职补偿金;武汉光谷实验室研发量子点光刻胶

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光刻胶国产化刻不容缓

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国产光刻胶市场前景 国内厂商迎来发展良机

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「前沿技术」英特尔以硅基技术成功制造量子芯片

在2022年硅量子电子研讨会上,英特尔实验室宣布以现有硅基半导体技术成功生产自旋量子计算芯片,这为未来量产量子计算机打下基础。英特尔表示,最新研究结果是目前业界最大的硅基自旋量子运算芯片,量产芯片
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「前沿技术」英特尔以硅基技术成功制造量子芯片

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高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

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英特尔量子芯片,重磅公布

目前,学术机构没有像英特尔这样的大批量制造制造设备。有了 Tunnel Falls,研究人员可以立即开始进行实验和研究,而不是尝试制造自己的设备。因此,更广泛的实验成为可能,包括更多地了解量子位和量子的基础知识,以及开发用于使用具有多个量子位的设备的新技术。
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半导体制造领域光刻胶的作用和意义

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2023-10-26 15:10:24633

光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095

不仅需要***,更需要光刻胶

为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,导致上片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48842

阿里达摩院裁撤量子实验室证实!

据阿里达摩院证实,他们已经决定裁撤量子实验室,并将实验室及仪器设备捐赠给浙江大学。这一举措的目的是为了促进量子科技的协同发展,并将捐赠的实验室和设备开放给浙江大学及其他高校和科研机构使用。
2023-11-28 18:20:28932

润股份在半导体制造材料领域稳步推进,涉足光刻胶单体、PI等业务

近期,润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58599

速度影响光刻胶的哪些性质?

光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:561190

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21861

瑞红集成电路高端光刻胶总部落户吴中

据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43383

如何在芯片中减少光刻胶的使用量

光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
2024-03-04 10:49:16381

光刻胶光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:182313

光谷实验室研发短波红外成像胶体量子芯片

近日,首个胶体量子成像芯片在光谷实验室研发成功,其具备优异性能。该芯片已能实现短波红外成像,面阵规模达到30,盲元率低于每十万个像素中只有6个因素导致信号丢失,图像波长范围为0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297

要让量子计算走出实验室

转自环球时报环球时报记者张蔚蓝陈子帅原稿标题:中国科学院量子信息重点实验室副主任郭国平:要让量子计算走出实验室原文链接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198

武汉光谷实验室短波红外芯片完成中试,年内预计销售千万元

一颗黄豆大小的芯片,利用新技术胶体量子红外探测成像做成“视觉芯片”,装到手机、检测器上,可以“穿透”介质,看到肉眼看不到的“真相”。 光谷实验室近日宣布,其联合科研团队(华中科技大学实验室、温州
2024-03-12 08:43:40254

光谷实验室研发胶体量子成像芯片,有望颠覆短波红外市场

湖北光谷实验室近日宣布,其科研团队研发的胶体量子成像芯片已实现短波红外成像,面阵规模30、盲元率低于6‰、波长范围0.4-1.7微米、暗电流密度小于50 nA/cm²、外量子效率高于60%,号称“性能优越”。
2024-03-12 14:46:59616

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:501437

英特尔推出Hala Point全球最大仿神经形态系统,解决AI效率问题

英特尔实验室神经形态运算总监Mike Davies指出,“当前AI模型训练及部署成本增长迅速,行业亟需创新方法。因此,英特尔实验室研发了Hala Point,融合深度学习效率、类人脑持续学习和优化功能。
2024-04-23 10:00:55329

一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛

共读好书 前烘对正显影的影响 前烘对负显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】6 月 28-30 日北京“电子化学品行业分析检测与安全管理培训班”。 审核编辑 黄宇
2024-06-23 08:38:02244

光刻胶的保存和老化失效

我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在光刻过程中如果发现有异常情况发生,我们
2024-07-08 14:57:08251

光刻胶的图形反转工艺

图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负工艺。 应用领域 在反转工艺下,通过适当的工艺参数,可以获得底切的侧壁
2024-07-09 16:06:00162

光刻胶后烘技术

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
2024-07-09 16:08:43252

光刻胶的一般特性介绍

评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量
2024-07-10 13:43:49161

光刻胶的硬烘烤技术

根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
2024-07-10 13:46:59127

光刻胶涂覆工艺—旋涂

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求,有许多工艺可用于涂覆光刻胶。 旋涂是用光刻胶涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201

导致光刻胶变色的原因有哪些?

存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
2024-07-11 16:07:49204

破纪录!芯片巨头裁员,遣散费400元/人!

莱克斯利普(Leixlip)的员工提供自愿离职方案, 补偿金额可能高达50欧元(约393元人民币,接近400元人民币)。 该提案规定,员工需在8月23日前申请自愿离职。根据提出的条件,服务超过两年的员工每年可额外获得五周工资的补偿。这还不包
2024-08-14 09:17:14199

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