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电子发烧友网>制造/封装>今日看点丨TCL收购LGD广州厂;佳能首次出货纳米压印光刻机

今日看点丨TCL收购LGD广州厂;佳能首次出货纳米压印光刻机

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作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了7nm之下不可或缺的制造设备
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`现在处理一批MA-1200光刻机的零件,有需要的朋友请直接联系我:137-3532-3169`
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我国集成电路产业快速发展,但却仍被光刻机“掐脖子”?

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关于EUV光刻机的分析介绍

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EV集团和肖特携手证明300-MM光刻/纳米压印技术在玻璃制造中已就绪

,圣弗洛里安微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布,与特种玻璃和微晶玻璃领域的世界领先技术集团肖特携手合作,证明300-mm(12英寸)光刻/纳米压印(NIL)技术在下一代增强现实/混合现实(AR/MR)头戴显示设备的波导/光
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光刻机为何在我国是个难题

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2020-01-29 11:07:008027

光刻机公开全部图纸也模仿不了

众所周知,说起芯片,大家就会想到光刻机,说起光刻机,大家就会想到ASML。因为在芯片生产中,光刻机特别重要,而ASML又是高端光刻机的垄断者,占了85%以上的高端市场。
2020-02-20 20:30:455576

去年ASML光刻机出货26台,新一代极紫外光刻机研发中

在晶圆代工龙头台积电将于2020年正式量产5纳米制程,而竞争对手三星也在追赶的情况下,目前两家公司也在积极研发更先进的3纳米制程。这些先进半导体制程能研发成功,且让未来生产良率保持一定水准,光刻机绝对是关键。
2020-02-21 20:05:543646

中芯国际表示深圳工厂进口光刻机不是EUV光刻机

据中国证券报报道,3月6日下午从中芯国际获悉,日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型光刻机,但这是设备正常导入,用于产能扩充,并非外界所称的EUV光刻机
2020-03-07 10:55:144356

光刻机是干什么的

经常听说,高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的,那么什么是光刻机呢?上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程,今天我们就来聊聊什么是光刻
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ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右

在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货
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曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

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2020-03-17 09:21:194845

ASML凭什么称霸光刻机市场

近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程,预计2022年年初开始出货,2024年实现大规模生产。
2020-03-17 15:25:593247

光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机

,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米,正因如此,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1190464

光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用

光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0245402

埃眸科技纳米光刻机项目落户常熟高新区 总投资达10亿元

近日,埃眸科技与常熟高新区正式签署项目协议,打造纳米压印光刻机生产线。
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福建安芯半导体再次出货一台光刻机

集微网消息,近日,福建安芯半导体科技有限公司出货一台价值近千万元的光刻机,现已交付国内某研究所用于cmos领域研究。
2020-04-14 16:03:007750

音圈电机在光刻机掩模台系统中的应用

作为芯片制造的核心设备之一,光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉,光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中,生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:541188

佳能半导体光刻机新产品即将开售, 可满足高产能大型基板的封装需求

6月23日消息,佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。
2020-06-29 14:58:053193

开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞?

顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达10万个,比汽车零件精细数十倍!
2020-07-02 09:38:3911978

中国光刻机和荷兰光刻机有什么区别

芯片是半导体中的积分器,目前芯片的利用率很高,要想在技术领域有所突破,就必须在芯片领域发展。在芯片制造中,最受关注的是光刻机的发展。到目前为止,我国光刻机制造领域还比较缺乏机械。我们的光刻机技术相对
2020-08-02 10:32:3224814

提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机(Mask
2020-08-28 14:39:0412761

政策助力光刻机行业发展,我国光刻机行业研发进度仍待加快

光刻机又名:掩模对准曝光,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备,光刻工艺决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135595

1.2亿美元光刻机

荷兰阿斯麦(ASML)公司的光刻机作为世界上最贵最精密的仪器,相信大家都有耳闻,它是加工芯片的设备。其最先进的EUV(极紫外光)光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片,据说一套最先进的7纳米EUV
2020-10-15 09:20:054591

一文详解光刻机的工作原理

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光,曝光系统,光刻系统等。
2020-10-16 10:33:39312925

AMSL宣布:无须美国许可同意可向中国供货DUV光刻机,但EUV受限

光刻机,在整个芯片生产制造环节,是最最最核心的设备,技术难度极高。在全球光刻机市场,日本的尼康、佳能,和荷兰的ASML,就占据了市场90%以上份额。而最高级的EUV(极紫外光)技术,则更是只有荷兰的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:453617

如何制造一台光刻机到底多困难

近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。
2020-10-17 11:32:148486

一文详解光刻机技术

最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机,我为什么会这样说呢?
2020-10-19 11:42:5121661

EUV光刻机还能卖给中国吗?

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499912

ASML向中国出售EUV光刻机,没那么容易

中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机
2020-11-11 10:13:304443

光刻机巨头ASML为什么能成功?

在芯片制造环节中,光刻机是核心设备。没有光刻机,半导体或遭断链危机,摩尔定律将停止,人类也就无法设计、制造和封装硅芯片。放眼全球,一家叫做ASML(阿斯麦)的荷兰公司市场占有率达80%,是行业的绝对
2020-11-13 09:28:515441

什么是纳米压印光刻技术

1995年,华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授首次提出纳米压印概念,从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一,很可能成为未来微纳电子与光电子
2021-01-03 09:36:0025078

ASML今年将出货交付40台EUV光刻机

在四季度财报会议上,荷兰ASML(阿斯麦)表示,预计今年将出货交付40台EUV光刻机,比去年多9台。
2021-01-21 15:16:431535

ASML 2020 年财报数据显示,去年向中国市场共交付约140台光刻机

%,净利润为36亿欧元。 光刻机方面,2020年累计出货交付258台光刻机系统,其中EUV光刻机31台、ArFi光刻机68台,ArFdry光刻机22台,KrF光刻机103台,I-Line光刻机34台
2021-01-21 15:42:555477

ASML垄断第五代光刻机EUV光刻机:一台利润近6亿

%,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164955

ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年

ASML公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元,EUV光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼,但是ASML也有隐忧,实际上EUV光刻机
2021-01-22 17:55:242828

日本光刻机巨头尼康为何会走向没落?

中银证券最新报告中的数据显示,2020年全球光刻机销量达到413台,同比增长15%,其中荷兰ASML公司占比62%,出货量达到258台,销售额占比达到91%。
2021-02-18 17:16:437737

解析全球光刻机行业发展情况

根据芯思想研究院(ChipInsights)的数据表明,2020年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约58台,较2019年增加3台。其中集成电路制造用光刻机出货约410台;面板、LED用光刻机出货约170台。
2021-02-24 16:56:1211262

TCL华星首次超越LGD出货排名全球第一

2020年第四季度,TCL华星(CSOT)首次超越LGD出货排名全球第一,领跑了行业发展。3月1日,TCL华星官方再次宣布,全球知名第三方检测认证机构SGS通标标准技术服务有限公司,向TCL华星颁发了全球首款SGS低拖影面板认证证书。
2021-03-02 10:48:582062

12亿美元,中芯国际订购光刻机

中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm,若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程,EUV光刻机设备就必不可少。那么,中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些类型的光刻机,包含EUV光刻机吗?
2021-03-10 14:36:559778

中科院5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别?

以下内容由对话音频整理 本期话题 ● EUV光刻机产能如何? ● 晶圆为什么是圆的? ● 不同制程的芯片之间有何区别? ● 什么是逻辑芯片,逻辑芯片又包括哪些? ● 专用芯片与通用芯片 ● 中科院
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探究光刻机微影技术是通过什么实现的?

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关于光刻技术浅述

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探究光刻机微影技术是通过什么实现的

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光刻机无法被取代?华为芯片技术曝光

众所周知,想要在芯片领域打破由欧美国家所垄断的市场,必须要解决光刻机的问题,这是传统硅基芯片制造过程中最为重要的一环。而在光刻机领域,荷兰的ASML则是光刻机领域金字塔最顶尖的企业,尤其是在极紫外光领域
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光刻机原理介绍

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18127662

光刻机原理怎么做芯片

光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺,光刻机是制造芯片的核心装备,在芯片的制作中,几乎每个工艺的实施,都需要用到光刻技术。可以说,光刻机是半导体界的一颗明珠。那么光刻机原理怎么做芯片呢
2021-08-07 14:54:5413441

光刻机需要哪些技术?

没有任何一个国家的人比中国人更想造出顶级光刻机。网友甚至表示,只要造出光刻机,无论一个人做错了什么都可以原谅。
2021-08-26 17:32:3761145

EUV光刻机何以造出5nm芯片

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2021-12-07 14:01:1011068

光刻机哪个国家能造

光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢?
2022-01-03 17:30:0088996

光刻机作用及寿命

光刻机作为芯片的核心制造设备,也是当前最复杂的精密仪器之一。其实光刻机不仅可以用于芯片生产,还可以用于封装和用于LED制造领域。
2022-01-03 16:43:0017021

光刻机的核心部件是什么

一台高端的光刻机由上万个零部件构成,光刻机的主要核心部件主要分为两个部分:分别是对准系统和紫外光源。
2022-01-03 17:09:0017889

光刻机制作芯片过程

光刻机制作芯片过程非常复杂,而光刻机是制造芯片最重要的设备之一,由于先进光刻机的技术封锁,中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后,也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术。
2021-12-30 11:23:2111831

光刻机的曝光方式

光刻机的曝光方式主要有三种,分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。
2022-01-03 17:31:007654

刻蚀机能替代光刻机

刻蚀不能代替光刻机光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀高出很多,在需要光刻机加工的时候刻蚀有些不能办到,并且刻蚀的精度十分笼统,而光刻机对精度的要求十分细致,所以刻蚀不能代替光刻机
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光刻胶和光刻机的关系

光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0012702

光刻机干啥用的

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0087727

中国光刻机现在多少纳米 光刻机的基本原理

众所周知,光刻机一直处于垄断地位,在光刻机领域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15291743

euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机

中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3517382

三星可生产euv光刻机吗 euv光刻机每小时产能

随着芯片制程工艺的更新迭代,芯片已进入纳米时代,指甲盖大小的芯片上集成的晶体管数量高达百亿。然而芯片制造最大的困难是光刻机
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三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息

三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
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euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机
2022-07-06 11:03:077373

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4244923

euv光刻机是哪个国家的

说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻机
2022-07-10 11:42:277467

euv光刻机是干什么的

可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066693

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1082085

euv光刻机原理是什么

euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1016127

euv光刻机用途是什么

光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等
2022-07-10 16:34:403591

光刻机为什么这么难呢

芯片想必大家都很熟悉,光刻机是是制造芯片的核心装备,并且光刻机只有一小部分国家拥有,那么光刻机为什么这么难呢? 据说越小的东西,建造起来就越困难。 这句话不是没有道理的。 尽管手机中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:229008

Microlight3D双光子聚合3D纳米光刻机新突破

MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术,兼容多种高分子材料,包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以百纳米级的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件.
2022-08-08 13:54:186448

佳能发售半导体光刻机解决方案Lithography Plus

来源:佳能集团 通过技术与数据优势,提升光刻机的生产效率 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”),该系
2022-09-06 17:01:491422

​焦点芯闻ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货

热点新闻 1、 ASML 阿斯麦 CEO 透露高数值孔径极紫外光刻机 2024 年开始出货 据国外媒体报道,光刻机制造商阿斯麦的 CEO 兼总裁彼得・维尼克 (Peter Wennink),在本周
2022-11-18 19:00:034167

佳能光刻机现在是什么水平?佳能如何看待显示行业寒冬?

相较于半导体光刻机,显示面板设备其实更能算作佳能主场。尤其OLED蒸镀——从市场份额来看,应当还没有敌手;而曝光市场,则基本与尼康长期保持对半分。
2022-11-23 10:44:501701

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

厂商尼康和佳能为例,他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机,基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
2022-11-24 07:10:033748

纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?

日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:392471

日本佳能发布新型***

来源:中国半导体论坛 编辑:感知芯视界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻设备:FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备! 受此消息影响,纳米压印概念股午后走高,汇创达午后
2023-10-17 11:07:23361

什么是纳米压印技术?能否取代***?

纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺,是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近,海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机,进行了大规模生产,并取得了不错的效果。
2023-11-08 14:34:021100

佳能押注纳米压印技术 挑战***老大ASML

据DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备,正在进行测试与研发,目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。有业内人士表示:“与EUV相比,纳米压印技术形成图案
2023-11-10 16:25:06842

可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国!

虽然目前在光刻机市场,还有尼康和佳能这两大供应商,但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市场份额仅有10%左右,ASML一家占据了90%的市场份额,并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。
2023-11-23 16:14:45982

传三星电子计划通过TCL华星收购LGD广州LCD面板

广州lgd 8.5代生产线于2012年5月开工,2014年9月1日投入生产,是lgd海外第一家面板工厂。lgd广州开发区 (广州凯得科技发展有限公司) 及创维以70:20:10的股权比例来投资建设,项目总投资达 40 亿美元(约 292 亿元人民币);
2023-11-29 11:02:341143

韩媒:三星计划通过TCL华星收购LGD广州8.5代线

据悉,LGD广州8.5代线是LGD首座海外面板工厂,2012年5月动工,2014 年9月1日投产;由LGD广州开发区 (广州凯得科技发展有限公司) 及创维以7010 的股权比例来投资建设,项目总投资达40亿美元(约292亿元人民币);满产时,每月玻璃基板产能可达12万片。
2023-11-29 16:33:34902

佳能推出5nm芯片制造设备,纳米压印技术重塑半导体竞争格局 

佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,但由于制程简化,耗电仅为EUV的十分之一,且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:181041

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

来源:DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05768

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机
2024-03-21 11:31:415066

TCL华星拟收购LGD广州,中国电视面板市场格局或将重塑

近日,TCL科技集团宣布正式成为LG Display(LGD广州股权的优先竞买者,这一举动在业界引起了广泛关注。若华星光电能够顺利完成后续程序,将成功获取LGD(中国)有限公司70%股权及LGD广州)有限公司100%股权,此举无疑将对中国乃至全球的电视面板市场产生深远影响。
2024-08-06 11:10:13498

纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。   今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:003812

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