1. 三星加速先进制程投资 明年Q1建成月产能7000片晶圆2nm产线
据业内人士透露,三星电子正在加快建立用于量产2nm工艺的生产设施。该公司已将各种设备引入其位于华城工厂的代工线“S3”,以建立2nm生产线,目标是到明年第一季度安装一条月产能为7000片晶圆的生产线。
从明年第二季度开始,三星还计划在平泽二厂的“S5”安装一条1.4nm生产线,产能约为每月2000~3000片晶圆。“S3”剩余的3nm生产线计划在明年年底前全面转换为2nm生产线。此举是三星推进其技术路线图的更广泛战略的一部分,该路线图旨在明年大规模生产2nm,到2027年大规模生产1.4nm,以赶上竞争对手台积电。
2. 英特尔酷睿 7 250H 处理器曝光:单核比 14500HX 高 2.63%,多核高 3.88%
科技媒体 pcgamesn 发布博文,报道称在 GeekBench 跑分库中发现了英特尔酷睿 7 250H 处理器的踪迹,6.3.0 版本单核成绩为 2415 分,多核成绩为 13201 分。根据页面显示,英特尔酷睿 7 250H 处理器为 14 核心处理器,共有 6 个 P 核和 8 个 E 核,基础时钟频率为 2.5 GHz,睿频为 5.187 GHz,并配备 24 MB 的 L3 缓存。
消息源表示这颗处理器和英特尔其它酷睿 Ultra 200 系列 CPU 不同,应该是基于英特尔第 13 代和第 14 代酷睿 CPU 中使用的 Raptor Lake 架构。在代号中没有采用英特尔新 CPU 架构,而是显示 Raptor Lake。
3. 英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装
ASML 新任 CEO 傅恪礼(Christophe Fouquet)出席 SPIE 大会并发表演讲,重点介绍了 High NA EUV 光刻机。他提到,High NA EUV 光刻机不太可能像最初的 EUV 光刻机那样出现延迟。紧随其后上台的是英特尔院士兼光刻总监 Mark Phillips,他表示英特尔已经在波特兰工厂完成了两台 High NA 光刻系统的安装,而且他还公布了一些资料,表明 High NA EUV 相对于标准 EUV 光刻机所带来的改进可能要比之前想象中还要多。
他表示,由于已经有了经验,第二套 High NA EUV 光刻系统的安装速度比第一个还要更快。据称,High NA 所需的所有基础设施已经到位并开始运行。用于 High NA 的光刻掩模检测工作已经按计划开始进行。因此,英特尔无需做太多辅助支持工作即可将其投入生产。
4. 6.98-9.88 万元,吉利星愿纯电小车正式发布
吉利全新 A0 级纯电小车 —— 吉利星愿正式发布上市,官方指导价 6.98~9.88 万元(含 12 月 31 日前 3000 元补贴),提供了香草米、罗勒青、冰莓粉、奶盖白、慕斯银、松露灰、海盐蓝七种车色,可选装双色车身、单目摄像头和原厂 ETC 等。
吉利星愿基于 GEA 架构,长宽高分别为 4135/1805/1570mm,轴距为 2650mm,驾驶方面,新车采用了前麦弗逊独立悬架和后多连杆独立悬架并 11 合 1 智能电驱等,极速可突破 120km/h;可选 30.12kWh 或 40.16kWh 的宁德时代电池,支持液冷散热、最大 1.66C 充电倍率,SOC 30-80% 仅需 24.2 分钟,还支持 3.3kW 的对外放电功能。
5. 10 月 16 日发布,荣耀 X60 系列手机官宣支持“行业旗舰级”卫星通信技术
荣耀终端有限公司中国区 CMO 姜海荣在微博发文宣布,即将登场的荣耀 X60 系列将“再一次打破不可能”,在品质、续航、屏幕、通信等方面全方位升级,考虑到 X 系列有不少在森林、沙漠、山脉等地区作业和生活的消费者,因此将“行业旗舰级”的卫星通信技术融入 X60 系列。
此前荣耀已经官宣,X60 系列手机将于 10 月 16 日 19:30 发布。在荣耀手机官方最新发布的微博预热活动海报里出现一款新机,外观延续荣耀 X50 的设计,结合活动内容来看,疑似 X60 系列新机。外观方面,该机后置“星环”相机模组,配色为青色,同时后盖还有些许纹理。
6. 微软宣布获得英伟达最新GB200 AI服务器
微软Azure在社交平台上宣布,公司已经拿到了搭载英伟达GB200超级芯片的AI服务器,成为全球云服务供应商中首个用上Blackwell体系的公司。
英伟达今年3月发布了全新的Blackwell 计算平台及GB200超级芯片。与前一代H100 GPU 相比,GB200超级芯片在大语言模型推理工作负载方面的性能提升了30倍。
今日看点丨英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装;荣耀 X60 系列手机官宣支持卫星通信技术
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毕竟,2019年ASML
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买台积电都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机
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2024-05-27 07:54:002346
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2021-07-29 09:36:46
芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?
进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593652
这笔钱花的值!单价1.2亿刀,中芯国际拿下EUV光刻机
芯国际(SMIC)已经向ASML公司订购了一台EUV光刻机,单价1.2亿美元,预计在2019年初交付。
此前英特尔、三星、台积电以及GF都向ASML下了EUV订单,其中台积电订购了大约10台
2018-05-20 10:32:3713870
ASML将于明年出货30台EUV光刻机
台积电前不久试产了7nm EUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nm EUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293448
台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台
由于三星去年就小规模投产了7nm EUV,同时ASML(荷兰阿斯麦)将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台,显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:038066
关于EUV光刻机的分析介绍
格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1813497
ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。
2019-08-07 11:24:396151
ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:483016
曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:194851
EUV光刻机全球出货量达57台
与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
2020-08-14 11:20:552282
EUV光刻机的数量有望成为三星半导体成长的关键
据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余台,台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,台积电与三星电子的竞争日益激烈。
2020-10-13 13:51:522058
EUV光刻机还能卖给中国吗?
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499926
三星副会长跑ASML总部去催货光刻机
作为半导体生产中的重要设备,光刻机不可或缺,尤其是7nm以下先进工艺生产离不开的EUV光刻机,目前全球只有荷兰ASML公司能够生产,而台积电、三星、英特尔等晶圆生产大厂,都有迫切需求,因此这个市场
2020-10-27 11:30:142034
ASML EUV光刻机被美国限制 中国企业出多少钱都买不回
ASML在光刻机领域几乎是巨无霸的存在,而他们对于与中国企业合作也是非常欢迎,无奈一些关键细节上被美国卡死。 中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机,特别是 EUV (极紫外光源)光刻机
2020-11-10 10:08:043281
光刻机巨头ASML为什么能成功?
龙头。 而在上世纪80年代,ASML只是飞利浦和ASM合资的一家小公司。但伴随着半导体行业风云变化,短短二十年时间,ASML就将昔日光刻机大国美国和日本拉下神坛。如今,全球7nm及以下工艺的EUV光刻机,只有它能提供。那么,ASML在光刻机领域快
2020-11-13 09:28:515448
台积电为保持业界领先地位大规模购买EUV光刻机
订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,将会在2021年全年交付,不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。 同时,明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机
2020-11-17 16:03:381933
ASML完成制造1nm芯片EUV光刻机
本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。 论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 至少就目前而言,ASML对于3m、2nm
2020-11-30 15:47:402661
ASML表示将向国内市场出售更多的DUV光刻机
而由其所研发生产的EUV光刻机更是在高端市场之中处于一家独大的位置。台积电作为ASML的股东很轻松就能够获得ASML的EUV光刻机,所以这边导致台积电一直以来在技术上领先于三星。当然能够在5纳米等工艺方面保持领先的地位,也是因为这个原因。
2020-12-01 12:03:152461
台积电现采购 35 台 EUV 光刻机,占 ASML 过半产量
据中国台湾经济日报报道,EUV 光刻机制造商 ASML 首席执行官 Peter Wennink 带领高管拜访三星,双方寻求技术与投资合作。三星希望能抢在台积电之前,取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:571672
全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计
想想几年前的全球半导体芯片市场,真的可谓哀嚎一片,一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天,我们不仅看到5nm工艺如期而至,台积电宣布2nm获得重大进展,就连光刻机的老大ASML也传来捷报,全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计。
2020-12-02 16:55:4110106
为何只有荷兰ASML才能制造顶尖EUV光刻机设备?
自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后,需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备,才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品,但就在近日,又有外媒豪言:这种顶尖的EUV极紫外光刻机,目前全球
2020-12-03 13:46:226647
台积电已经向ASML下定了至少13台EUV光刻机
需要明白的是,EUV光刻机不是有钱就能买,因为ASML每年的产能非常有限,2019年全年才出货了26台,今年上半年出货了13台,截至三季度结束累计才出货23台。
2020-12-11 13:56:202306
ASML官宣:光刻机技术迎来新突破
向前进步,不然芯片的制程工艺也不会提升得这么快。据了解,近日ASML正式官宣,***技术再上一层楼,新一代的NA EUV***已经完成了设计过程,预计2022年就会投入使用!
据ASML方面表示
2020-12-16 16:32:133259
vivo正式官宣X60系列发布会信息海报和一段外观视频
今天,vivo官方微博正式宣布,vivo X60系列手机新品发布会将于2020年12月29日晚19:30正式举办。届时,搭载第二代防抖微云台技术的vivo X60系列手机将正式与大家见面。根据曝光
2020-12-22 09:23:281724
vivo预热X60系列:采用第二代微云台
1080 芯片和 OriginOS 操作系统。 vivo X60 系列相机镜头由 vivo、蔡司联合研发,主打蔡司光学镜头,微云台黑光夜视 2.0,采用 vivo 第二代微云台。vivo方面今日为该系列
2020-12-22 10:53:581707
vivo X60系列曝光 搭载第二代微云台技术
今天,一段关于X60系列夜景拍摄效果的预热视频在vivo官方微博放出。视频通过地垫上的狗和黑暗环境中的人物两个场景,强调了搭载了第二代微云台技术的X60系列强大的夜景拍摄能力,即便是在非常黑暗的环境下,X60系列依然可以正确曝光,并保留视频暗部细节,这一出色能力可以让“夜色更精彩”。
2020-12-23 14:36:461323
台积电向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机
1nm及以下。
目前ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,至于设备的商业化。要等到至少2022年,而等到台积电和三星拿到设备,之前要在2023年。
与此同时
2020-12-30 09:23:481790
vivo X60 系列手机的影像系统详细介绍:蔡司光学镜头,第二代微云台
在 vivo X60 系列发布会上,vivo 详细介绍了该系列手机的影像系统。 据介绍,vivo X60 系列采用蔡司光学镜头,最大那一颗的是第二代微云台主摄,48MP,25mm 等效焦距;第二排
2020-12-30 09:25:165850
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最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV***的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV***产能将达到45~50台的规模。
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2020年12月29日,vivo专业影像旗舰手机X60系列正式发布。作为一台影像旗舰手机,为了避免在拍照时因为抖动而造成的模糊,vivo X60全系标配第二代微云台,防抖效果更加出色,在任意场景想拍就拍;同时,X60系列最大进光量提升16.8%,夜色更精彩。
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ASML累计卖出100台EUV光刻机
越来越多。
据预测,2021年台积电需要新EUV***54台,三星则计划2021年后每年引入20台EUV。而在2021年,ASML的EUV曝光机产能预计为45-50台。
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今天,vivo官方微博发布一张海报,宣布vivo X60 Pro+新品发布会将于1月21日晚19:30正式举办,这意味着传说中的X60系列“超大杯”正式官宣。
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目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
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%,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
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ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年
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5nm光刻机抢破头:台积电下达18台光刻机需求
大的需求令可以说是史上的天量,三星英特尔急了。 因为目前全球能够提供最先进极紫外光刻机的只有荷兰ASML一家,在刚刚过去的2020年当中,ASML面向全球客户一共才交付了31台极紫外光刻机,也就是说台积电如果一口气吞掉了18台的话,就占尽了全球
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光刻机设备(极紫外光刻机),中方希望将这款价值1.5亿美元的机器用于大陆芯片制造。 这款180吨重、售价1.5亿美元的设备是艾司摩尔招牌产品,称为「极紫外光(EUV)微影系统」,是制造最先进微处理器必需。英特尔、三星电子、台积电等公司都使用EUV设备,生
2021-07-25 17:35:153111
iPhone13搭载定制版X60基带 或支持低轨卫星通信
轨卫星(LEO)通信,在没有其他手机信号的情况下,使用卫星信号来完成通话和传讯。 定制版X60,提前支持低轨卫星通信 今年高通已经宣布其X65基带将支持到Globalstar全球星的n53频段,据了解,iPhone13可能会搭载定制的X60基带,提前支持到低轨卫星通信。不过
2021-09-02 11:33:176679
EUV光刻机何以造出5nm芯片
电子发烧友网报道(文/周凯扬)作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了
2021-12-07 14:01:1011080
ASML正致力于新一代High-NA光刻机制造,每台预计售价4亿美元
近日,据外媒路透社报道称,全球最先进的光刻机生产厂商ASML正致力于进行新一代光刻机的制造,预计第一台会在明年完工,将在2025能够正式投入使用,每台新光刻机售价预计在4亿美元左右。 新光刻机采用
2022-05-22 14:40:593394
台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究
引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机,并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道:台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去,将首先与合作伙伴进行相关的研究。 据了解,High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径,相比于现在的光刻技术,
2022-06-17 16:33:276873
ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台,大多芯片厂商不为所动
2nm制程的量产。 目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。 ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够
2022-06-22 14:44:161377
新EUV光刻机售价超26亿,Intel成为首位买家,将于2025年首次交付
3nm制程,据了解,更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。 光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机,这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高,达到了0.55口径,也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126973
三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155944
euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机
EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444728
euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗
ASML的极紫外光刻机(EUV),这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候,光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段,通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
2022-07-10 11:17:4245118
euv光刻机是哪个国家的
是哪个国家的呢? euv光刻机许多国家都有,理论上来说,芯片强国的光刻机也应该很强,但是最强的光刻机制造强国,不是美国、韩国等芯片强国,而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:277481
euv光刻机是干什么的
可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066720
duv光刻机和euv光刻机区别是什么
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1082220
euv光刻机原理是什么
光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术,具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:1016169
ASML下一代EUV光刻机High-NA来了!
对于3nm后的节点,ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。
2022-08-17 15:44:042211
ASML光刻机扩产计划公布:EUV 90台/年 DUV 600台/年
沿,正是由于设备的先进性同样受到美国管制,不允许最先进的光刻机卖给我国半导体厂商,但是ASML为了支持中国业务的增长,顶住了很大的压力,已经明确表示会继续深耕中国市场,ASML的产能就备受关注。 同时在5月份的时候,ASML首席执行官兼总裁 Peter Wennink
2022-11-12 17:58:121943
除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?
电子发烧友网报道(文/周凯扬)尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商,凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘,主导着半数以上的市场份额,但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 07:10:033759
密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机
投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解,一台高NA EUV的光刻机成本就可能达到3.2亿美元,这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势,又存在哪些挑战呢? 规模和密度的平衡,我们为什么需要高NA光刻机? 从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片
2022-12-07 07:25:021185
日本与荷兰签署半导体合作备忘录:采购 ASML ***,加强技术合作
报道称,ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴,采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到,EUV 光刻机在全球范围内较为短缺,面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出,如果 Rapidus 和 ASML 展开合作,有望强化供应链。
2023-06-27 16:08:05619
ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后
热点新闻 1、ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受采访时表示,尽管
2023-09-06 16:50:06896
三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台
EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前,AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56648
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39765
三星清空ASML股份,11年盈利超16倍
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔入股ASML获得15%股权,并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59892
英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造
根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22449
英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01382
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
2024-03-14 08:42:34452
阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
)光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两台高数值孔径EUV
2024-04-18 11:50:47687
英特尔完成高数值孔径EUV光刻机,将用于14A制程
半导体设备制造商阿斯麦(ASML)于去年底在社交媒体上发布照片,揭示已向英特尔提供第一套高数值孔径EUV系统的关键部件。如今英特尔宣布已完成组装,这无疑展示了其在行业中的领先地位。
2024-04-19 10:07:37476
英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52:56792
英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统
来源:Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展,使英特尔代工厂能够继续超越英特尔 18A
2024-04-26 11:25:56398
ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
2024-04-29 10:44:34706
英特尔完成首台高数值孔径EUV光刻机安装,助力代工业务发展
知情人士透露,由于ASML高数值孔径EUV设备产能有限,每年仅能产出5至6台,因此英特尔将独享初始库存,而竞争对手三星和SK海力士预计需等到明年下半年才能获得此设备。
2024-05-08 10:44:04682
台积电未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机
尽管High NA EUV光刻机有望使芯片设计尺寸缩减达三分之二,但芯片制造商需要权衡利弊,考虑其高昂的成本及ASML老款设备的可靠性问题。
2024-05-15 09:34:27328
台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
2024-05-15 14:42:38522
台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
2024-05-17 17:21:47776
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37:22521
ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小
,约在2030年将提供新的Hyper-NA EUV技术。目前仍处于开发初期阶段的Hyper-NA将遵循High-NA系统,ASML今年初在英特尔奥勒冈厂首度安装High-NA系统。 报导,van
2024-06-18 09:57:53355
押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!
了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004923
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