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电子发烧友网>制造/封装>今日看点丨英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装;荣耀 X60 系列手机官宣支持卫星通信技术

今日看点丨英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装;荣耀 X60 系列手机官宣支持卫星通信技术

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关于EUV光刻机的分析介绍

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ASML研发第二EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%

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ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右

EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:483016

ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

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与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平EUV生产平台)。
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EUV光刻机的数量有望成为三星半导体成长的关键

据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,积电与三星电子的竞争日益激烈。
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EUV光刻机还能卖给中国吗?

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ASML向中国出售EUV光刻机,没那么容易

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2020-11-13 09:28:515448

积电为保持业界领先地位大规模购买EUV光刻机

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2020-11-17 16:03:381933

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中国euv光刻机三大突破 光刻机的三个系统

如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3851353

euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机

EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444728

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

ASML的极紫外光刻机EUV),这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候,光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段,通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制等多项先
2022-07-10 11:17:4245118

euv光刻机是哪个国家的

是哪个国家的呢? euv光刻机许多国家都有,理论上来说,芯片强国的光刻机也应该很强,但是最强的光刻机制造强国,不是美国、韩国等芯片强国,而是荷兰。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作系统三大核心技术。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:277481

euv光刻机是干什么的

可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066720

duv光刻机euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术EUV使用的是深紫外光刻技术EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1082220

euv光刻机原理是什么

光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作或透镜扫描实现任意图形处理。投影光刻是集成电路的主流光刻技术,具有效率高、无损伤等优点。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工
2022-07-10 15:28:1016169

ASML下一代EUV光刻机High-NA来了!

对于3nm后的节点,ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。
2022-08-17 15:44:042211

ASML光刻机扩产计划公布:EUV 90/年 DUV 600/年

沿,正是由于设备的先进性同样受到美国管制,不允许最先进的光刻机卖给我国半导体厂商,但是ASML为了支持中国业务的增长,顶住了很大的压力,已经明确表示会继续深耕中国市场,ASML的产能就备受关注。 同时在5月份的时候,ASML首席执行兼总裁 Peter Wennink
2022-11-12 17:58:121943

ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

电子发烧友网报道(文/周凯扬)尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商,凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘,主导着半数以上的市场份额,但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 07:10:033759

密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机

投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解,一NA EUV光刻机成本就可能达到3.2亿美元,这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势,又存在哪些挑战呢? 规模和密度的平衡,我们为什么需要高NA光刻机? 从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片
2022-12-07 07:25:021185

日本与荷兰签署半导体合作备忘录:采购 ASML ***,加强技术合作

报道称,ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴,采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到,EUV 光刻机在全球范围内较为短缺,面临着积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出,如果 Rapidus 和 ASML 展开合作,有望强化供应链。
2023-06-27 16:08:05619

ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后

热点新闻 1、ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元 ASML 首席执行 Peter Wennink 近日在接受采访时表示,尽管
2023-09-06 16:50:06896

三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50

EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60,而全球5家芯片制造商都依赖ASMLEUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、积电。目前,AMSL约有70%的EUV光刻机积电购买。
2023-11-22 16:46:56648

英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39765

荣耀Magic6系列搭载鸿燕卫星通信技术

从官方一同公布的海报来看,荣耀鸿燕卫星通信拥有更小体积、更快连接、更低功耗,其将支持卫星通话和卫星短信。
2023-12-29 11:36:09946

三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔入股ASML获得15%股权,并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59892

英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造

 根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22449

英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01382

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASMLX 平台上的相关动态
2024-03-14 08:42:34452

阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

)光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两高数值孔径EUV
2024-04-18 11:50:47687

英特尔完成高数值孔径EUV光刻机,将用于14A制程

半导体设备制造商阿斯麦(ASML)于去年底在社交媒体上发布照片,揭示已向英特尔提供第一套高数值孔径EUV系统的关键部件。如今英特尔宣布已完成组装,这无疑展示了其在行业中的领先地位。
2024-04-19 10:07:37476

英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52:56792

英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统

来源:Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径(高NA)极紫外(EUV光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展,使英特尔代工厂能够继续超越英特尔 18A
2024-04-26 11:25:56398

ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
2024-04-29 10:44:34706

英特尔完成首台高数值孔径EUV光刻机安装,助力代工业务发展

 知情人士透露,由于ASML高数值孔径EUV设备产能有限,每年仅能产出5至6,因此英特尔将独享初始库存,而竞争对手三星和SK海力士预计需等到明年下半年才能获得此设备。
2024-05-08 10:44:04682

积电未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机

尽管High NA EUV光刻机有望使芯片设计尺寸缩减达三分之,但芯片制造商需要权衡利弊,考虑其高昂的成本及ASML老款设备的可靠性问题。
2024-05-15 09:34:27328

积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
2024-05-15 14:42:38522

积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

据台湾业内人士透露,积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NAEUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机
2024-05-17 17:21:47776

Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

在全球四大先进制程代工巨头(包括积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37:22521

ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小

,约在2030年将提供新的Hyper-NA EUV技术。目前仍处于开发初期阶段的Hyper-NA将遵循High-NA系统,ASML今年初在英特尔奥勒冈厂首度安装High-NA系统。 报导,van
2024-06-18 09:57:53355

押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机积电三星决战2025!

了。   芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。   针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004923

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