不同的蚀刻剂(氯化铁和氯化铜)进行化学蚀刻。研究了选择的蚀刻剂和加工条件对蚀刻深度和表面粗糙度的影响。实验研究表明，氯化铁产生的化学腐蚀速率最快，但氯化铜产生的化学腐蚀速率最快最光滑的表面质量。 关键词:化学蚀刻；铜
2021-12-29 13:21:46
2088 
摘要 在印刷和蚀刻生产厚金属膜中的精密图案时，需要对化学蚀刻剂有基本的了解，以实现工艺优化和工艺控制。 为了蚀刻纯铝电路，研究了正磷酸、多磷酸和氯化铁的配方。 研究的目的是确定蚀刻速率和图案定义对正
2022-01-07 15:07:481129 
摘要 我们华林科纳研究了正磷酸、聚磷酸、和铁(III)氯化物蚀刻剂对工艺条件变化的敏感性，以确定该蚀刻剂系统在纯铝电路光刻制造中的潜在生产应用。温度变化、正磷酸浓度、多磷酸浓度的影响。检测了酸浓度
2022-01-07 15:40:121194 
蚀刻机理 诸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的强含水碱性介质蚀刻晶体硅通孔 硅+ 2 OH- + 2 H O 硅(OH) + H 二氧化硅(OH) 2- + 2 H 因为不同晶面的Si原子
2022-07-11 16:07:221344 
、氢氟酸系、硫酸盐系、硫酸系、碱性氯化铜和酸性氯化铜系。蚀刻开始时，金属板表面被图形保护，其余金属面均和蚀刻液接触，此时蚀刻垂直向深度进行。当金属表面被蚀刻到一定深度后，裸露的两侧出现新的金属面，这时蚀刻液
2017-02-21 17:44:26
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料在下文中，我们将简要讨论最流行的湿法和干法蚀刻技术。
2021-01-09 10:17:20
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 编辑
各位大侠：有谁知道哪家有供应蚀刻钛的药水，请告知或提供联系方法。谢谢！！！本人的QQ号码是：414615292
2012-08-08 14:51:57
使用。用过的显像液请稀释20倍后再排放到城市下水系统中！此时的板子应该是很漂亮的了，嘿嘿。5开始蚀刻！称出适量三氯化铁块，再按三氯化铁块：水为3:1左右的比例配置蚀刻液。注意：三氯化铁有腐蚀性，严禁直接用手
2016-01-05 17:14:50
PCB碱性蚀刻常见问题原因及解决方法
2012-08-03 10:14:05
的规定或适当降低抽风量执行。 （3）按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。 3.问题：印制电路中金属抗蚀镀层被浸蚀 原因： （1
2018-09-19 16:00:15
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
PCB制作工艺中的碱性氯化铜蚀刻液1.特性1)适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 2)蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。 3)蚀刻液可以
2018-02-09 09:26:59
。 ②仅在孔和图形上覆盖干膜，以干膜作抗蚀层。 ③在酸性蚀刻液中蚀去多余的铜，从而得到所需要的导线图形。 (3) 特点 ①工序较图形电镀蚀刻法简单，但工艺控制会困难些。日本不少企业用此工艺
2018-09-21 16:45:08
的保护膜，使用贴膜机把感光胶膜贴在覆铜板上。(3)化学蚀刻 它是利用化学方法除去板上不需要的铜箔，留下组成图形的焊盘、印制导线及符号等。常用的蚀刻溶液有酸性氯化铜、碱性氯化铜、三氯化铁等PCB制作
2018-08-30 10:07:20
液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常是&；碱性氯化铜蚀刻液系数可达3.5-4。而正处在开发阶段的以硝酸为主的蚀刻液可以达到几乎没有侧
2018-09-11 15:19:38
类型，通过试验方法确定蚀刻液的浓度，它应有较大的选择余地，也就是指工艺范围较宽。 2）蚀刻液的化学成分的组成：蚀刻液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液
2013-10-31 10:52:34
PCB印制电路中影响蚀刻液特性的因素有哪些
2021-04-25 06:45:00
用权贴胶粘度加强，由于所用的贴胶具很好的粘性，而且胶纸又薄，故采用这种贴胶进行制板，效果较好，一般是不须再作加热处理。 4.腐蚀一般采用三氯化铁作腐蚀液，腐蚀速度与腐蚀液的浓度，温度及腐蚀过程中采取
2018-11-22 17:13:19
工艺，可以参阅内层制作工艺中的蚀刻。目前，锡或铅锡是最常用的抗蚀层,用在氨性蚀刻剂的蚀刻工艺中.氨性蚀刻剂是普遍使用的化工药液，与锡或铅锡不发生任何化学反应。氨性蚀刻剂主要是指氨水/氯化氨蚀刻液。此外
2018-11-26 16:58:50
，还可以根据所采用蚀刻药水的不同，而区分出不同的药水体系……（关于蚀刻药水，目前行业内主要有6种：氯化铁、酸性氯化铜、碱性氯化铜、过硫酸铵、硫酸/铬酸、硫酸/双氧水蚀刻液）本文之所以相对简单，并不是
2023-02-17 11:46:54
的涂树脂铜箔所形成的层压板，其表面通过擦板或粗化处理后的铜箔表面、烘干、贴压感光抗蚀干膜，接着进行曝光、显影而显露出要蚀刻去的铜箔。然后进行酸性蚀刻(酸性氯化铜蚀刻液或硫酸加双氧水蚀刻液)形成可采用
2017-12-18 17:58:30
使用的化工药液，与锡或铅锡不发生任何化学反应。氨性蚀刻剂主要是指氨水/氯化氨蚀刻液。此外，在市场上还可以买到氨水/硫酸氨蚀刻药液。 以硫酸盐为基的蚀刻药液，使用后，其中的铜可以用电解的方法分离出来
2018-09-13 15:46:18
工艺中的蚀刻。目前，锡或铅锡是最常用的抗蚀层,用在氨性蚀刻剂的蚀刻工艺中.氨性蚀刻剂是普遍使用的化工药液，与锡或铅锡不发生任何化学反应。氨性蚀刻剂主要是指氨水/氯化氨蚀刻液。此外，在市场上还可以买到氨水
2018-04-05 19:27:39
锂铁电池是近几年才兴起的新一代干电池，其具有容量大、体积小、重量轻、大电流放电、低温性能优异的特点。相较于碱性电池而言，锂铁电池不易漏液，因为电解液完全吸附在隔膜上，电池内部不存在流动性液体，不会
2018-11-27 13:21:49
关于这个酸碱性蚀刻废液再生跟提铜设备的实用性以及优缺点有没有人知道呢?还有就是想自己提铜，又怎么过环保局这一关呢
2014-10-15 10:15:52
射流的理论获得了底部的各个部位的蚀刻液离子的扩散速率，并搞清楚了侧壁上出现的主要原因。针对酸性氯化铜溶液，扩散速度与蚀刻反应速度是成比例关系的。所以，凹槽内底部各个部位蚀刻的速度相对中央最大速率区也是
2018-09-10 15:56:56
导线及符号等。蚀刻剂有许多种类，常用的蚀刻溶液有酸性氯化铜、碱性氯化铜、三氯化铁等。 三氯化铁（FeCl3）在电子学、印制电路、照相制版、金属精饰等加工和生产中，被广泛用作铜、铜合金、Ni-Fe合金
2023-04-20 15:25:28
轴的转动，叶片设计如图3 所示。泼溅蚀刻或叶片蚀刻比滋泡蚀刻要好，因为它蚀刻均匀且侧蚀小，但是每一次只能蚀刻有限的几块板子。这种蚀刻方法通常使用氯化铁和硫酸铭榕液作蚀刻剂。大容量的容器用在槽的底部以
2018-09-11 15:27:47
两种，一是酸性氯化铜(CaCl2)、 蚀刻液，一种是碱性氨水蚀刻液。 Ａ．两种化学药液的比较，见表氨水蚀刻液& 氯化铜蚀刻液比较 两种药液的选择，视影像转移制程中，Resist是抗
2018-11-23 16:59:25
适用范围 印制线路板制造业发达地区集中开展含铜蚀刻废液综合利用。 主要技术内容 一、基本原理 将印制线路板碱性蚀刻废液与酸性氯化铜蚀刻废液进行中和沉淀，生成的碱式氯化铜沉淀用于生产工业级硫酸铜；沉淀
2018-11-26 16:49:52
。蚀刻工艺对设备状态的依赖性极大,故必需时刻使设备保持在良好的状态。【解密专家+V信：icpojie】 目前﹐无论使用何种蚀刻液﹐都必须使用高压喷淋﹐而为了获得较整齐的侧边线条和高质量的蚀刻效果
2017-06-23 16:01:38
`镀镍抗氧化铜排绝缘套管工艺绝缘铜排图片：常见截面范围：30--3000mm²，常见厚度范围3mm-12mm.常见宽度范围10mm-125mm. 镀镍抗氧化铜排绝缘套管工艺绝缘铜排图片：产品
2020-06-19 21:30:42
`一体化铜编织带软连接是一种常用的软连接产品，除了要对其材质、制作工艺和特点有所了解之外，关于一体化铜编织带软连接的金属镀边工艺也必须有一定的掌握，以便于更好的加以运用。 一体化铜编织带软连接的主要
2018-09-13 18:44:35
，还可以根据所采用蚀刻药水的不同，而区分出不同的药水体系……（关于蚀刻药水，目前行业内主要有6种：氯化铁、酸性氯化铜、碱性氯化铜、过硫酸铵、硫酸/铬酸、硫酸/双氧水蚀刻液）本文之所以相对简单，并不是
2023-02-17 11:54:22
面和蚀刻液导入装置之间，并使晶片正面朝向工作台面，晶片背面朝向蚀刻液导入装置。 气体喷出凹槽用以喷出气体，而使晶片正面与工作台面维持一既定距离。 夹持销用以脱放松、夹持上述晶片的边缘，而使晶片正面
2018-03-16 11:53:10
用于各种液位的测量，如油、水、污水、酸性液体、碱性液体。采用隔爆接线盒和本安放大电路，导杆和浮球不锈钢材料。浮球式液位变送器广泛使用于炼油、化工、造纸、食品、及污水处理等行业。`
2013-07-10 16:24:10
是半导体制造，微机械和微流控设备中的重要过程，需要微尺度的特征来优化性能或创建层流态，这在宏观上几乎是不可能获得的。由于能够通过改变蚀刻剂浓度和蚀刻时间来轻松控制z轴蚀刻，因此常用于分层应用。缺点包括许多化学废物，其中许多是高酸性和多步过程。
2021-01-08 10:15:01
我司是做湿法蚀刻药水的，所以在湿法这块有很多年的研究。所以有遇到湿法蚀刻问题欢迎提问，很愿意为大家解答。谢谢！QQ：278116740
2017-05-08 09:58:09
盆两个，这两个塑胶盆一大一小。大的装的是热水，之后在蚀刻时会做隔水加热用，而小的是装蚀 刻液。在蚀刻液方面请各位注意，范例中使用的是环保蚀刻液，这是由於以前的氯化铁含有剧毒，且回 收也不易，因此
2012-12-06 09:41:20
电阻式湿度传感器应当最适用于湿度控制领域，其代表产品氯化锂湿度传感器具有稳定性、耐温性和使用寿命长多项重要的优点，氯化锂湿敏传感器已有了五十年以上的生产和研究的历史，有着多种多样的产品型式和制作方法，都应用了氯化锂感湿液具备的各种优点尤其是稳定性最强。
2019-10-17 09:01:04
。 2·蚀刻液的种类﹕ 不同的蚀刻液,其化学组分不相同﹐蚀刻速率就不一样﹐蚀刻系数也不一样。 例如﹕酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3﹐而碱性氯化铜蚀刻系数可达到4。 3·蚀刻速率： 蚀刻
2017-06-24 11:56:41
液可以选用碱性三氯化铁、酸性氯化铜和氨水。蚀刻时不同铜箔厚度要使用不同的蚀刻速度，蚀刻速度还要与蚀刻液的温度、浓度匹配，经常维护蚀刻机的喷嘴，保持压力和喷液分布均匀，不然最后造成蚀可不均和边缘起铜丝
2018-08-29 10:20:48
100%完成！ 注意：用过的显像液严禁再次使用。用过的显像液请稀释20倍后再排放到城市下水系统中！ 此时的板子应该是很漂亮的了，嘿嘿。 5开始蚀刻！ 称出适量三氯化铁块，再按三氯化铁块：水为3
2018-09-12 15:02:45
步骤。它利用化学方法去除板上不需要的铜箔，留下焊盘、印制导线及符号等。常用的蚀刻溶液有三氯化铁、酸性氯化铜、碱性氯化铜、硫酸一过氧化氢等。 5．孔金属化 孔金属化是双面板和多层板的孔与孔间、孔
2018-09-04 16:04:19
工艺中.氨性蚀刻剂是普遍使用的化工药液，与锡或铅锡不发生任何化学反应。氨性蚀刻剂主要是指氨水/氯化氨蚀刻液。 此外，在市场上还可以买到氨水/硫酸氨蚀刻药液。以硫酸盐为基的蚀刻药液,使用后,其中的铜
2018-09-19 15:39:21
水中氯化物快速测量仪深芬仪器厂家生产的水中氯化物快速测量仪能够快速检测水质中氯化物的含量，水中氯化物快速测量仪具有可扩展检测项目多、检测速度快、检测精度高、预制试剂一步法操作、简单易学等特点，广泛
2022-05-16 14:14:47
氯化聚乙烯(简称CPE)是由聚乙烯(一般为高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、线型低密度聚乙烯)经氯化改性而制得的高分子合成材料，按含氯量不同，可分为塑性CPE(含氯量15%)、弹性CPE(16%-
2010-06-09 08:28:26
29 一、 三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中广泛采用三氯化铁蚀刻铜、铜合金及铁、锌、铝等。这是由于它的工艺稳定，操作方便，价格便宜。但是，近些年来，
2010-08-19 17:25:220 中温氯化焙烧工艺流程
2009-03-30 20:06:371281 
什么是氯化锌电池？
高能氯化锌电池是简单锌碳电池的一个改良版，用来提供更长的使用寿命以及更稳定的电压输出。与普通锌碳电池相比，氯化
2009-10-24 09:11:021646 电池材料之氯化锌中文名称：氯化锌 英文名称： Zinc Chloride CAS号：7646-85-7 分子式：ZnCl2 氯化锌是无机盐工业的重要产品之一，它应用
2009-11-19 10:47:431473 氯化锂湿敏电阻器的结构及特性
氧化锂湿敏电阻器属电解质类湿敏元件。氯化钮( LiCl) 是一种吸湿盐类，将它涂在有机绝缘基体上，或用多孔性合成树脂漫透氯化锂
2009-11-30 09:01:572784 PCB蚀刻技术通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用。
2017-04-21 17:08:275086 本文首先介绍了蚀刻机的分类及用途，其次阐述了蚀刻机的配件清单，最后介绍了蚀刻机的技术参数及应用。
2018-04-10 14:38:324724 蚀刻液的种类：不同的蚀刻液化学组分不同，其蚀刻速率就不同，蚀刻系数也不同。例如：酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。
2018-10-12 11:27:366336 按工艺要求进行检查及调整温度、喷淋压力、溶液比重、PH值和氯化铵的含量等工艺参数到工艺规定值。
2018-11-05 14:24:568995 工艺中.氨性蚀刻剂是普遍使用的化工药液，与锡或铅锡不发生任何化学反应。氨性蚀刻剂主要是指氨水/氯化氨蚀刻液。此外，在市场上还可以买到氨水/硫酸氨蚀刻药液。
2019-07-10 15:11:352710 
通常所指蚀刻也称腐蚀或光化学蚀刻（photochemicaletching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
2019-04-25 15:41:3614173 按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2019-06-10 16:31:111817 蚀刻指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。
2019-06-26 16:02:4820207 酸性蚀刻是指用酸性溶液蚀去非线路铜层，露出线路部分，完成最后线路成形。
2019-10-03 15:05:0013392 在PCB生产全流程中，有多道工序均会产生大量的重金属废水，比较典型的有酸性蚀刻废液、碱性蚀刻废液、微
2019-08-20 09:21:022523 侧蚀问题是蚀刻参数中经常被提出来讨论的一项，它被定义为侧蚀宽度与蚀刻深度之比， 称为蚀刻因子。
2019-09-02 10:17:391755 1.问题：印制电路中蚀刻速率降低
原因：
由于工艺参数控制不当引起的
解决方法：
按工艺要求进行检查及调整温度、喷淋压力、溶液比重、PH值和氯化铵的含量等工艺参数到工艺规定值。
2020-01-15 15:10:533130 PCB，电路板，基板上面如何出现电路呢？这就要蚀刻来实现。所谓蚀刻，先在板子外层需保留的铜箔部分，也就是电路的图形部分，在上面预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉。铜有两层，一层需要
2020-03-08 14:45:214248 ，锡铅为抗蚀剂。 二、蚀刻反应基本原理 1．酸性氯化铜蚀刻液 ①．特性 -蚀刻速度容易控制，蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量 -蚀铜量大 -蚀刻液易再生和回收 ②．主要反应原理 蚀刻过程中，Cu2+有氧化性，将板面铜氧化成Cu+：Cu+CuCl2→2CuC
2020-12-11 11:40:587463 1、 PCB蚀刻介绍 蚀刻是使用化学反应而移除多余材料的技术。PCB线路板生产加工对蚀刻质量的基本要求就是能够将除抗蚀层下面以外的所有铜层完全去除干净，仅此而已。在PCB制造过程中，如果要精确地
2021-04-12 13:48:0031020 
蚀刻机的基础原理一、蚀刻的目的蚀刻的目的即是将前工序所做出有图形的线路板上的未受保护的非导体部分铜蚀刻去，形成线路。蚀刻有内层蚀刻和外层蚀刻，内层采用酸性蚀刻，湿膜或干膜为抗蚀剂；外层采用碱性蚀刻，锡铅为抗蚀剂
2020-12-24 12:59:384838 引言 了解形成MEMS制造所需的三维结构，需要SILICON的各向异性蚀刻，此时使用的湿式蚀刻工艺考虑的事项包括蚀刻率、长宽比、成本、环境污染等[1]。用于硅各向异性湿式蚀刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484 
引言 氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇，IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化，以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢氧化钾和异丙醇的水平，以消除锯损伤，并获得完全
2022-01-04 17:13:20764 
摘要 本文对本克斯使用的铝蚀刻剂进行调查，以长期提高蚀刻部件的质量。非常薄的铝箔图案在磷酸、氯化铁和水锈溶液中精确蚀刻的铝箔图案符合尺寸和一致性标准。蚀刻剂的主要问题是，由蒸发和耗尽引起的成分变化
2022-01-07 16:47:46840 
摘要 我们华林科纳用同步光电发射光谱法研究了无氧化物砷化镓表面与酸性(盐酸+2-丙醇)和碱性(氨水）溶液的相互作用。结果表明，两种溶液主要处理表面镓原子，分别形成弱可溶性氯化镓和可溶性氢化镓。因此
2022-01-24 15:07:301071 
时 1–5 M KOH 溶液的碱浓度无关 ◦C。仅在碱性浓度越低，蚀刻速率越低。添加异丙醇会略微降低绝对蚀刻速率。在标准 KOH 溶液中蚀刻反应的活化能为 0.61 ± 0.03 eV 和0.62 ± 0.03 eV
2022-03-04 15:07:09845 
Gravity: 氯化氢传感器(出厂校准) - I2C&UART是著名开源硬件商DFRobot新推出的一款检测氯化氢浓度的传感器，支持模拟量、I2C和UART三种输出方式。探头已经过出厂标定，可以快速、准确的测量环境中氯化氢的浓度。可广泛应用于合工业、矿下及环保领域氯化氢的检测。
2022-03-04 15:28:212677 在本文中，我们首次报道了实现硅111和100晶片的晶体蚀刻的酸性溶液。通过使用六氟硅酸(也称为氟硅酸)和硝酸的混合物，获得暴露出各种面外111平面的硅111的晶体蚀刻。本文描述了用于该研究的溶液的化学组成，随后是使用电子和光学显微镜获得的结果。蚀刻的机理，虽然没有完全理解，将在下面的章节中讨论。
2022-03-09 14:35:42460 
了解形成MEMS制造所需的三维结构，需要SILICON的各向异性蚀刻，此时使用的湿式蚀刻工艺考虑的事项包括蚀刻率、长宽比、成本、环境污染等[1]。用于硅各向异性湿式蚀刻。
2022-03-11 13:57:43337 
本文研究了用金刚石线锯切和标准浆料锯切制成的180微米厚5英寸半宽直拉单晶硅片与蚀刻时间的关系，目的是确定FAS晶片损伤蚀刻期间蚀刻速率降低的根本原因，无论是与表面结构相关，缺陷相关，由于表面存在的氧化层，还是由于有机残差。
2022-03-16 13:08:09619 
微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指的是在制造时从晶片表面去除层。这是一个非常重要的过程，每个晶片都要经历许多蚀刻过程。用于保护晶片免受蚀刻剂影响的材料被称为掩模
2022-03-16 16:31:581136 
用氟化氢-氯化氢-氯气混合物进行各向异性酸性蚀刻是一种有效的方法 单晶硅晶片纹理化的替代方法 在晶片表面形成倒金字塔结构[1，2]形貌取决于以下成分 蚀刻混合物[3]硅在HF-HCl[1]Cl2
2022-04-12 14:10:22362 
氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻优先侵蚀衬底。也就是说，它们在某些方向上的蚀刻速度比在其他方向上的蚀刻
2022-05-09 15:09:201420 本文讲述了我们华林科纳研究了M111N蚀刻速率最小值的高度，以及决定它的蚀刻机制，在涉及掩模的情况下，M111N最小值的高度可以受到硅/掩模结处的成核的影响，以这种方式影响蚀刻或生长速率的结可以
2022-05-20 17:12:59853 
引言 我们华林科纳讨论了一种高速率各向异性蚀刻工艺，适用于等离子体一次蚀刻一个晶片。结果表明，蚀刻速率主要取决于Cl浓度，而与用于驱动放电的rf功率无关。几种添加剂用于控制蚀刻过程。加入BCl以开始
2022-06-13 14:33:14904 
蚀刻工艺 蚀刻过程分类
2022-08-08 16:35:34736 
反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果：其具有一定的各向异性，而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。
2022-09-19 15:17:553390 CuACs/PCN通过两步热聚合过程制备，如图1a所示。首先，将氯化铜、三聚氰胺和次磷酸钠的混合物在氮气气氛下500°C煅烧；接着用熔融盐研磨，在N2下550°C煅烧，最后用H2SO4处理。
2022-12-01 15:20:021182 PTFE管用途：可用于蚀刻摇摆机的摇摆架，PTFE也称：可溶性聚四氟乙烯、特氟龙、Teflon 蚀刻机的简单介绍： 1、采用传动装置，雾化喷淋，结构合理；加工尺寸长度不限制，速度快、精度高
2022-12-19 17:05:50408 蚀刻不是像沉积或键合那样的“加”过程，而是“减”过程。另外，根据刮削方式的不同，分为两大类，分别称为“湿法蚀刻”和“干法蚀刻”。简单来说，前者是熔法，后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850 金属蚀刻是一种通过化学反应或物理冲击去除金属材料的技术。金属蚀刻技术可分为湿蚀刻和干蚀刻。金属蚀刻由一系列化学过程组成。不同的蚀刻剂对不同的金属材料具有不同的腐蚀特性和强度。
2023-03-20 12:23:433172 干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331005 盐雾耐久循环试验机中的腐蚀溶液的腐蚀溶液通常是5%浓度的氯化钠溶液或者在氯化浓溶液中添加0.26克氯化铜作为盐雾腐蚀溶液。此外，盐雾耐久循环试验机可独立调节盐雾的沉降和喷洒量，确保实验温度稳定
2022-11-11 11:40:23691 
关键词：氢能源技术材料，耐高温耐酸碱耐湿胶带，高分子材料，高端胶粘剂引言：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻
2023-03-16 10:30:163506 
刻蚀和蚀刻实质上是同一过程的不同称呼，常常用来描述在材料表面上进行化学或物理腐蚀以去除或改变材料的特定部分的过程。在半导体制造中，这个过程常常用于雕刻芯片上的细微结构。
2023-07-28 15:16:594141 腐蚀pcb板的溶液按抗蚀层类型与生产条件而选择：有酸性氯化铜、碱性氯化铜、三氯化铁、硫酸与过氧化氢、过硫酸盐等多种。下面捷多邦小编和大家介绍一下腐蚀pcb板的溶液的一些知识。 三氯化铁的蚀刻液是铜箔
2023-10-08 09:50:22744 蚀刻液的化学成分的组成：蚀刻液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常是&；碱性氯化铜蚀刻液系数可达3.5-4。而正处在开发阶段的以硝酸为主的蚀刻液可以达到几乎没有侧蚀问题，蚀刻后的导线侧壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 英思特研究了在低温下用乙酸去除氧化铜。乙酸去除各种氧化铜，包括氧化亚铜、氧化铜和氢氧化铜，而不会侵蚀下面的铜膜。
2023-11-06 17:59:44240 
按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2023-12-06 15:01:46287 基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
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