根据ASML财报显示, 2018年Q4季EUV光刻机设备完成5台交付,全年EUV光刻机设备总销量达到18台,并计划2019年将完成30台的交付量。 图1:ASML 2014~2018财年营收对照分析
2019-01-25 14:50:50
10824 ,相比上一代产品,新款EUV光刻机生产效率将提升18%,曝光速度为30mj/cm,每小时可处理160片晶圆。 有意思的是,在2019年的年报中,ASML便提到正在研发新一代EUV光刻机的计划,不过并未透露具体型号,只是披露将在2022年初计划出货,2024年后大规模生产。而此次所公布的EUV光刻机如
2020-10-17 05:02:00
3456 对于如今的半导体产业而言,EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在,为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势,台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而,当这些来自
2022-07-22 07:49:00
2403 半导体制造工艺是集成电路产业的核心,未来摩尔定律是否还能主宰产业发展就得看半导体工艺是否能在10nm以下的工艺继续突破了,而在这个问题上,荷兰ASML公司的EUV光刻机何时成熟就是个关键了。上周
2016-11-07 11:33:07
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EUV 作为现在最先进的光刻机,是唯一能够生产 7nm 以下制程的设备,因为它发射的光线波长仅为现有设备的十五分之一,能够蚀刻更加精细的半导体电路,所以 EUV 也被成为“突破摩尔定律的救星
2018-05-17 09:22:20
10936 根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
2021-01-03 00:28:00
4735 目前全球在光刻机制造领域比较领先的只有三家公司,分别为荷兰的ASML和日本的佳能和尼康。截止2011年,ASML已经占到了全球光刻机市场的70以上的市场份额。在7nm和5nm制程领域,ASML是全球唯一一家可以生产相应光刻机的公司。换句话说,在最先进的光刻机生产领域,ASML达到了绝对垄断的地步。
2021-01-04 11:30:52
3811 作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了7nm之下不可或缺的制造设备
2021-12-01 10:07:41
10988 尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商,凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘,主导着半数以上的市场份额,但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机厂商尼康和佳能为例,他们就仍在
2022-11-24 01:57:00
4865 电子发烧友网报道(文/周凯扬)到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 01:48:00
2199 ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机(EUV)的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24:44
就是研发NA 0.5的光学镜片,这是EUV光刻机未来进一步提升分辨率的关键,不过高NA的EUV光刻机至少是2025-2030年的事了,还早着呢,光学镜片的进步比电子产品难多了。 NA数值一时间不能提升
2020-07-07 14:22:55
的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢? 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点
2020-09-02 17:38:07
%,Lam Research为10亿美元,占台积电采购额的9%,迪恩士占5%,KLA占4%。ASML目前,全球仅有ASML一家公司掌握着EUV光刻机的核心技术,这也是5nm制程必需的设备,但EUV
2020-03-09 10:13:54
哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到,其
2020-02-27 10:42:16
用Java开发下一代嵌入式产品在我10年的Java布道师生涯里,没有哪次Java新版本发布能让我如此兴奋。Java 8的发布不仅在语言本身加入了些不错的新特性,还在嵌入式开发上加入了很棒的功能
2021-11-05 09:12:34
据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36:46
进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:59
3470 光刻机,是半导体芯片生产中最重要的设备之一,荷兰ASML公司已经成为全球光刻机市场的一哥,垄断了高端光科技生产,在EUV光刻机领域更是独一份。
2018-07-19 16:52:00
2940 台积电前不久试产了7nm EUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nm EUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:29
3306 半导体工艺水平,实现7nm及以下工艺。 但是改变波长之后再进一步提升EUV光刻机的分辨率就要从NA指标上下手了,目前的光刻机使用的还是NA=0.33的物镜系统,下一代的目标就是NA=0.5及以上
2018-11-02 10:14:19
834 ASML的副总裁Anthony Yen日前表示,他们已经开始研发下一代光刻机。他表示,在他们公司看来,一旦现有的系统到达了极限,他们有必要去继续推动新一代产品的发展,进而推动芯片的微缩。
2018-12-09 09:12:21
5632 ASML副总裁Anthony Yen表示,ASML已开始开发极紫外(EUV)光刻机,其公司认为,一旦当今的系统达到它们的极限,就将需要使用极紫外光刻机来继续缩小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:07
7142 ASML的副总裁Anthony Yen日前表示,他们已经开始研发下一代光刻机。他表示,在他们公司看来,一旦现有的系统到达了极限,他们有必要去继续推动新一代产品的发展,进而推动芯片的微缩。 据介绍
2018-12-11 17:27:01
157 就在日前,半导体设备大厂荷兰商艾司摩尔 (ASML) 在财报会议上表示,2019 年 ASML 将把极紫外光刻机 (EUV) 的年出货量从 18 台,提升到30 台之后,现有外国媒体报导,晶圆代工
2019-02-13 16:53:03
8511 由于三星去年就小规模投产了7nm EUV,同时ASML(荷兰阿斯麦)将EUV光刻机的年出货量从18台提升到今年的预计30台,显然促使台积电不得不加快脚步。
2019-04-30 17:30:03
7913 2016年,ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。
2019-07-13 09:40:16
5058 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
2019-07-18 16:02:00
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掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
2019-07-23 10:47:21
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格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:18
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据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。
2019-08-07 11:24:39
5849 在半导体工艺进入 10nm 节点之后,制造越来越困难,其中最复杂的一步——光刻需要用到 EUV 光刻机了,而后者目前只有荷兰 ASML 阿斯麦公司才能供应。
2019-12-10 16:04:28
7122 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:48
2863 在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:21:19
4670 近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程,预计2022年年初开始出货,2024年实现大规模生产。
2020-03-17 15:25:59
3120 大家都知道,目前我国光刻机技术至少落后荷兰ASML15年,目前荷兰ASML的顶级光刻机可以达到7nm工艺,目前他们正大研发5nm工艺光刻机。
2020-04-19 23:43:26
10223 与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
2020-08-14 11:20:55
2048 
了公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,声称摩尔定律已经走到了尽头,或者说成本太高,无利可图。
2020-12-02 16:28:53
806 ,当季ASML共获得60台光刻机的销售收入,总额31亿欧元,其中EUV光刻机14台,但收入占比达到了66%。 地区方面
2020-10-16 14:27:46
3951 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:49
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11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:55
2396 
11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:46
5517 作为半导体制造中的核心设备,光刻机无疑是芯片产业皇冠上的明珠,特别是先进工艺的光刻机,7nm以下的都要依赖ASML公司,EUV光刻机他们还是独一份。
2020-11-09 17:11:38
2195 ,不过ASML对这个机器是不放行的,主要是美国强制要求。 EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品,由于采用了极紫外线,它的最小工业节点到了 22nm-7nm,可以说是世界上最先进的光刻机设备而这种设备,只有ASML能造出来。 2018年4月,中芯国际向
2020-11-10 10:08:04
3056 中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机。
2020-11-11 10:13:30
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龙头。 而在上世纪80年代,ASML只是飞利浦和ASM合资的一家小公司。但伴随着半导体行业风云变化,短短二十年时间,ASML就将昔日光刻机大国美国和日本拉下神坛。如今,全球7nm及以下工艺的EUV光刻机,只有它能提供。那么,ASML在光刻机领域快
2020-11-13 09:28:51
5165 本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。 论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 至少就目前而言,ASML对于3m、2nm
2020-11-30 15:47:40
2520 本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。
2020-11-30 15:52:21
1821 IMEC公司首席执行官兼总裁Luc Van den hove首先发表了主题演讲,介绍了公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术——高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-01 09:28:42
1159 了公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,声称摩尔定律已经走到了尽头,或者说成本太高,无利可图。
2020-12-01 09:54:33
1508 而由其所研发生产的EUV光刻机更是在高端市场之中处于一家独大的位置。台积电作为ASML的股东很轻松就能够获得ASML的EUV光刻机,所以这边导致台积电一直以来在技术上领先于三星。当然能够在5纳米等工艺方面保持领先的地位,也是因为这个原因。
2020-12-01 12:03:15
2339 据中国台湾经济日报报道,EUV 光刻机制造商 ASML 首席执行官 Peter Wennink 带领高管拜访三星,双方寻求技术与投资合作。三星希望能抢在台积电之前,取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:57
1536 想想几年前的全球半导体芯片市场,真的可谓哀嚎一片,一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天,我们不仅看到5nm工艺如期而至,台积电宣布2nm获得重大进展,就连光刻机的老大ASML也传来捷报,全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计。
2020-12-02 16:55:41
9682 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后,需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备,才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品,但就在近日,又有外媒豪言:这种顶尖的EUV极紫外光刻机,目前全球
2020-12-03 13:46:22
6379 的逻辑器件小型化路线图。 根据IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove透露,IMEC公司与ASML紧密合作,将推进下一代高分辨率EUV光刻技术商用。目前,ASML已完成作为NXE
2020-12-07 17:07:10
8923 11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解,先进制程的光刻机对于曝光设备
2020-12-09 09:35:59
4107 之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。
2020-12-29 09:22:48
2192 Luc Van den hove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:48
1673 半导体晶圆代工成为全球科技竞争的焦点,先进制程的角逐竞争日趋激烈,ASML的EUV光刻机供应成为产业界关心的话题。2021年台积电和三星将需要ASML供应多少台EUV光刻机?台湾和日本产
2020-12-30 17:53:35
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而2018年中芯与ASML签订了一项EUV光刻机购买协议,以1.2亿美元购买一台光刻机,但直到现在都没有交货,因为没有拿到出口许可证。
2021-01-08 11:37:51
2368 近日,在日本东京举办的ITF论坛上,与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程在微缩层面技术细节。
2021-01-13 16:43:11
2816 调试。此外,这款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻机可用于研发最高分辨率达 28nm 的高端光刻胶。 IT之家了解到,晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚发布公告
2021-01-20 16:34:00
6083 据etnews报道,SK海力士已开始在其位于韩国利川的M16工厂安装EUV光刻机,以量产10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布将在今年年内在M16厂建设产线以生产下一代DRAM,不过并未透露
2021-01-20 18:19:20
2146 目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:18
4078 在四季度财报会议上,荷兰ASML(阿斯麦)表示,预计今年将出货交付40台EUV光刻机,比去年多9台。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻机系统的销售收入在58亿欧元左右。四季度
2021-01-21 15:30:22
1874 在四季度财报会议上,荷兰ASML(阿斯麦)表示,预计今年将出货交付40台EUV光刻机,比去年多9台。
2021-01-21 15:16:43
1369 %,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻机EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:16
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的出货不及预期的35台,而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用,意味着要延期了。 此前信息显示,ASML下一代EUV光刻机最早是2022年开始出样,大规模
2021-01-22 17:55:24
2639 随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:55
1644 。 据报道,SK海力士与ASML公司签订了一个超级大单,未来5年内将斥资4.8万亿韩元,约合43.4亿美元购买EUV光刻机。 SK海力士在一份监管文件中称,这笔交易是为了实现下一代工艺芯片量产的目标。 ASML及SK海力士都没有透露这么多资金到底购买了多少台EUV光刻机,不过从之
2021-02-25 09:30:23
2047 随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 11:39:09
1844 一提起ASML这家公司,就少不了对光刻机问题的讨论,因为截至目前,ASML仍然是全球最领先的光刻机厂商。普通的DUV光刻机就不多说了,ASML每年都能卖出去很多台,而在更先进的EUV光刻机方面,ASML更是占据了绝对垄断的地位。
2021-02-27 09:59:42
14073 三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单,另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:41
1757 5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别? EUV光刻机产能如何? 大飞_6g(听友) 请问谢博士,EUV光刻机的产能是怎样的?比如用最先进的光刻机,满负荷生产手机芯片麒麟990,每天能产多少片?中芯国际有多少台投入生产的光刻机?是1台、5台还是10台呢?谢谢 谢志
2021-03-14 09:46:30
23476 日前,ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV(极紫外)光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:40
4630 的。台积电、三星、Intel的7nm、5nm,以及未来的3nm、2nm都要依赖EUV光刻机,单台售价超过1亿美元,成本极高。 目前,ASML的EUV光刻机使用的还是第一代,EUV光源波长在13.5nm
2021-06-26 16:55:28
1203 7nm之下不可或缺的制造设备,我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力,还有蔡司和TRUMPF(通快)两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:10
10742 一份6.7亿卢布的合同来研发光刻机,并且宣称要研发比EUV光刻机光刻分辨率更高、不需要光掩膜版从而降低费用的无掩模X射线光刻机。 X射线光刻机不同于EUV光刻机,它使用了波长为0.01nm~10nm的X射线,所以X射线光刻机的光刻分辨率要
2022-04-06 10:35:33
7960 具有13.5nm波长源的高数值孔径系统将提高亚13nm半间距曝光所需的分辨率,以及更大的图像对比度以实现更好的印刷线均匀性。High-NA EUV光刻的分辨率通常被称为“13nm到8nm半间距”。
2022-06-02 15:03:56
1098 媒体称三星的目的是为了抢到ASML的EUV光刻机。 目前芯片短缺的现状大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻机才能打造,而本来EUV光刻机就稀少,因此先进芯片发展频频受限,并且前段时间三星才刚刚和Intel洽谈完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:04
1176 日前,在台积电召开的会议上,有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。 会议中,该高管称:为了满足客户所需的相关基础设施的开发等,台积电将于2024
2022-06-17 16:33:27
6499 2nm制程的量产。 目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。 ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够
2022-06-22 14:44:16
1183 3nm制程,据了解,更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。 光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机,这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高,达到了0.55口径,也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:12
6676 中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:35
16742 三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:15
5634 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:07
7000 如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:38
50686 EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:44
4523 大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:42
42766 可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:06
6173 光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,内部必须是真空操作。 以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了,现在基本都是euv光刻机
2022-07-10 14:53:10
78127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:10
15099 与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:08
2010 对于3nm后的节点,ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。
2022-08-17 15:44:04
1910 电子发烧友网报道(文/周凯扬)尽管ASML作为目前占据主导地位的光刻机厂商,凭借独有的EUV光刻机一骑绝尘,主导着半数以上的市场份额,但这并不代表着其他光刻机厂商也就“听天由命”了。以两大国外光刻机
2022-11-24 07:10:03
3222 电子发烧友网报道(文/ 周凯扬 )到了3nm这个工艺节点之后,单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺,将晶体管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02
952 asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:55
3202 ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径
2024-03-14 08:42:34
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了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:00
4635 电子发烧友网报道(文/梁浩斌)最近,一家名为Zyvex Labs的美国公司宣布推出亚纳米分辨率的光刻系统Zyvex Litho 1,据称分辨率可以达到0.768nm,这大约是两个硅原子的宽度
2022-09-27 08:19:00
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