16日，三星电子宣布在基于EUV的高级节点方面取得了重大进展，包括7nm批量生产和6nm客户流片，以及成功完成5nm FinFET工艺的开发。 三星电子宣布其5纳米（nm）FinFET工艺技术的开发
2019-04-18 15:48:47
6010 对于如今的半导体产业而言，EUV光刻机是打造下一代逻辑和DRAM工艺技术的关键所在，为了在未来的工艺军备竞赛中保持优势，台积电、三星和英特尔等厂商纷纷花重金购置EUV光刻机。 然而，当这些来自
2022-07-22 07:49:002403 TSMC在FinFET工艺量产上落后于Intel、三星，不过他们在10nm及之后的工艺上很自信，2020年就会量产5nm工艺，还会用上EUV光刻工艺。
2016-07-18 10:47:09989 传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的，普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭（见下表）。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑，可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
在之前的文章里，我们介绍了晶圆制造、氧化过程和集成电路的部分发展史。现在，让我们继续了解光刻工艺，通过该过程将电子电路图形转移到晶圆上。光刻过程与使用胶片相机拍照非常相似。但是具体是怎么实现的呢？
2023-06-28 10:07:472428 
光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241339 
在7nm及以下节点上，台积电的进展是最快的，今年量产7nm不说，最快明年4月份就要试产5nm EUV工艺了，不过这个节点的投资花费也是惊人的，台积电投资250亿美元建厂，5nm芯片设计费用也要比7nm工艺提升50%。
2018-10-08 09:52:333674 中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多，7nm节点一共发展了三种工艺，分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7＋，前两代工艺也没用EUV光刻机，只有N7＋工艺上才开始用EUV工艺，不过光罩层数也比较少，5nm节点寸是充分利用EUV光刻工艺的，达到了14层EUV光罩。
2020-02-28 09:49:163525 作为近乎垄断的光刻机巨头，ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星，EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔，也成了7nm之下不可或缺的制造设备
2021-12-01 10:07:4110988 电子发烧友网报道（文/周凯扬）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002200 翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
有参考价值的信息。 英特尔路线图 从7nm到1.4nm 首先将目光放到最远，英特尔预计其工艺制程节点将以2年一个阶段的速度向前推进。从2019年推出10nm工艺开始（实际产品在市场上非常少见
2020-07-07 11:38:14
ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机（EUV）的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24:44
的耐蚀刻薄膜材料，经曝光和显影而使溶解度增加的是正性光刻胶，反之为负性光刻胶。光刻胶的分类及其特点见表1。 随着IC特征尺寸亚微米、深亚微米方向快速发展，现有的光刻机和光刻胶已无法适应新的光刻工艺要求
2018-08-23 11:56:31
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17:47
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
%，Lam Research为10亿美元，占台积电采购额的9%，迪恩士占5%，KLA占4%。ASML目前，全球仅有ASML一家公司掌握着EUV光刻机的核心技术，这也是5nm制程必需的设备，但EUV
2020-03-09 10:13:54
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻机，一台设备的单价就可以达到1.2亿美元，可见半导体
2020-02-27 10:42:16
卡巴KEY，可用到０９年６月１７日各版本通用 发个卡巴的KEY，可用到０９年６月１７日，而且卡巴７.０、８.０都能用
2008-07-31 16:50:25
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
Intel 22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52:581085 在SEMICON West上另一个热点是光刻技术能否达到15nm的经济制造?半导体业是有希望未来采用EUV技术。
2011-03-08 10:09:572516 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 进入10nm工艺节点之后，EUV光刻机越来越重要，全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了，他们总共卖出18台EUV光刻机，总价值超过20亿欧元，折合每套系统售价超过1亿欧元，可谓价值连城。
2017-01-19 18:22:593470 本周在火奴鲁鲁举行的VLSI（超大规模集成电路）研讨会上，三星首次分享了基于EUV技术的7nm工艺细节。
2018-06-22 15:16:00967 EUV光刻工艺加成，但是7nm EUV工艺在性能上不会有多大的提升，AMD CTO Mark Pappermaster也在采访中证实7nm EUV工艺主要是改善能效，性能提升只是适度的。
2018-11-27 16:35:243852 。 GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望将EUV光刻技术加入到7nm和5nm生产中。但就像以前一样，EUV由几部分组件组成，在芯片制造商能够引入之前，它们必须整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861 非关键层面上首次尝试使用EVU极紫外光刻系统，工艺节点从CLN7FF升级为CLN7FF+，号称晶体管密度可因此增加20%，而在同样密度和频率下功耗可降低10%。 台积电5nm(CLN5)将继续使用荷兰
2018-05-15 14:35:133793 
今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺，第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺，二代7nm才会上EUV光刻工艺，预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 美光CEO Sanjay Mehrotra日前在参加伯恩斯坦年度战略决策会上回答了有关的工艺问题，在EUV光刻工艺上，他认为EUV光刻机在DRAM芯片制造上不是必须的，直到1α及1β工艺上都也不会用到它。
2018-06-08 14:29:075468 
随着技术的发展，今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺，下一代将在2020年进入5nm工艺，2022年进入3nm工艺。目前第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺，预计到5nm工艺将会上EUV光刻工艺。
2018-08-20 17:41:491149 台积电前不久试产了7nm EUV工艺，预计明年大规模量产，三星今天宣布量产7nm EUV工艺，这意味着EUV工艺就要正式商业化了，而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光，而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。
2018-11-01 09:44:264269 晶圆产率方面还有很大发大空间。EUV光刻机对7nm及以下的工艺节点非常重要，台积电、三星两大代工巨头均已在最新产品中引入7纳米EUV技术。 EUV光刻机垄断者ASML 目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰
2018-11-02 10:14:19834 作为全球头号代工厂，台积电的新工艺正在一路狂奔，7nm EUV极紫外光刻工艺已经完成首次流片，5nm工艺也将在2019年4月开始试产。
2018-12-19 15:01:021550 所以，台积电要想保持优势，就必须要加快7nm EUV的进程。而7nm EUV工艺的关键在于EUV光刻机，今年ASML（荷兰阿斯麦）也计划提高EUV光刻机的产能，以及将年出货量由之前的18台提升到今年的30台。
2019-02-14 16:04:593230 彭博报道称，台积电已于4月份就开始了苹果A13芯片的早期测试生产阶段，并且计划在本月进行量产。预计A13芯片将采用台积电的第二代7nm工艺，并且率先采用EUV光刻技术。
2019-05-13 16:39:514527 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 在半导体制造过程中，最重要的一个过程就是光刻工艺，需要用到光刻机，7nm及以下节点工艺则需要EUV光刻机，目前只有荷兰ASML公司能生产，每台售价超过1亿欧元，可以说是半导体行业的明珠了，是门槛非常高的先进技术。
2019-07-12 10:38:434279 格芯首席技术官Gary Patton表示，如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机，那么光刻的步骤将会超过100步，这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具，未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845 
芯片行业从20世纪90年代开始就考虑使用13.5nm的EUV光刻（紫外线波长范围是10~400nm）用以取代现在的193nm。EUV本身也有局限，比如容易被空气和镜片材料吸收、生成高强度的EUV也很困难。
2019-10-01 17:12:007709 7nm+ EUV节点之后，台积电5nm工艺将更深入地应用EUV极紫外光刻技术，综合表现全面提升，官方宣称相比第一代7nm EDV工艺可以带来最多80%的晶体管密度提升，15%左右的性能提升或者30%左右的功耗降低。
2019-09-26 14:49:114797 7nm是Intel下一代工艺的重要节点，而且是高性能工艺，其地位堪比现在的14nm工艺，而且它还是Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，意义重大。
2019-10-12 14:44:542701 在半导体工艺进入 10nm 节点之后，制造越来越困难，其中最复杂的一步——光刻需要用到 EUV 光刻机了，而后者目前只有荷兰 ASML 阿斯麦公司才能供应。
2019-12-10 16:04:287122 截至目前，华为麒麟990 5G是唯一应用了EUV极紫外光刻的商用芯片，台积电7nm EUV工艺制造，而高通刚发布的骁龙765/骁龙765G则使用了三星的7nm EUV工艺。
2019-12-18 09:20:0315995 由于在7nm节点激进地采用了EUV工艺，三星的7nm工艺量产时间比台积电要晚了一年，目前采用高通的骁龙765系列芯片使用三星7nm EUV工艺量产。在这之后，三星已经加快了新工艺的进度，日前6nm工艺也已经量产出货，今年还会完成3nm GAE工艺的开发。
2020-01-06 16:13:073254 由于在7nm节点激进地采用了EUV工艺，三星的7nm工艺量产时间比台积电要晚了一年，目前采用高通的骁龙765系列芯片使用三星7nm EUV工艺量产。
2020-01-06 16:31:033215 三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545045 台积电上周发布了3月及Q1季度财报，营收同比大涨了42%，淡季不淡。不过接下来的日子半导体行业可能不太好过了，ASML的EUV光刻机已经断货，要延期交付，好在台积电今年已经在5nm工艺上抢先三星了。
2020-04-15 08:55:173192 CFan曾在《芯希望来自新工艺！EUV和GAAFET技术是个什么鬼？》一文中解读过EUV（极紫外光刻），它原本是用于生产7nm或更先进制程工艺的技术，特别是在5nm3nm这个关键制程节点上，没有
2020-09-01 14:00:292234 工艺制程走入10nm以下后，台积电的优势开始显现出来。在7nm节点，台积电优先确保产能，以DUV（深紫外光刻）打头阵，结果进度领先三星的7nm EUV，吃掉大量订单，奠定了巨大优势。
2020-09-02 16:00:292684 了公司研究概况，他强调通过与ASML公司紧密合作，将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调，将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化，声称摩尔定律已经走到了尽头，或者说成本太高，无利可图。
2020-12-02 16:28:53806 在制造芯片的过程中，光刻工艺无疑最关键、最复杂和占用时间比最大的步骤。光刻定义了晶体管的尺寸，是芯片生产中最核心的工艺，占晶圆制造耗时的40％到50％。光刻机在晶圆制造设备投资额中约占23
2020-10-09 15:40:112189 ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499648 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 EUV工艺的，这是台积电三种7nm工艺版本之一，与其他两种工艺相比，它会使用EUV光刻机，光刻处理效率更高。 在Zen3是否会上EUV工艺的问题上，AMD官方的态度一直很模糊，只强调是改良版的7nm工艺，官方路线图中直接去掉了EUV的痕迹。 不过台湾媒体日前提到，AMD的Zen3这次使用的7nm工
2020-10-26 17:49:532077 ASML公司的EUV光刻机全球独一份，现在主要是用在7nm及以下的逻辑工艺上，台积电、三星用它生产CPU、GPU等芯片。马上内存芯片也要跟进了，SK海力士宣布明年底量产EUV工艺内存。
2020-10-30 10:54:211646 制造工艺EUV（极紫外光刻）。Exynos 1080 所采用的 5nm EUV 工艺与 8nm LPP（成熟低功耗）相比，性能提升 14%，功耗降低 30%；与 7nm DUV（深紫外光刻）相比，
2020-11-12 16:48:291670 在半导体工艺进入7nm之后，EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了，全球也只有ASML公司能生产，单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上，ASML还真不一定就是第一，专利比三星还少。
2020-11-17 10:25:182211 、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划，且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 据称在当前台积电、三星的7nm、5nm制造中已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备，2nm之后需要
2020-11-30 15:47:402520 想想几年前的全球半导体芯片市场，真的可谓哀嚎一片，一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天，我们不仅看到5nm工艺如期而至，台积电宣布2nm获得重大进展，就连光刻机的老大ASML也传来捷报，全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计。
2020-12-02 16:55:419682 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品，但就在近日，又有外媒豪言：这种顶尖的EUV极紫外光刻机，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 更多诀窍，领先对手1到2年。 据悉，三星的1z nm DRAM第三代内存已经用上了一层EUV，第四代1a nm将增加到4层。EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而可以减少生产时间、降低成本，并提高性能。 尽管SK海力士、美光等也在尝试EUV，但层数过少对
2020-12-04 18:26:542201 据日媒近日消息，IMEC公司（比利时的一家微电子研究机构，总部在比利时鲁汶，是一个专注于纳米科技的世界级研究中心）在ITF Japan 2020大会上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下
2020-12-07 17:07:108923 导 读 日前，南大光电公告称，由旗下控股子公司宁波南大光电材料自主研发的 ArF 光刻胶产品成功通过客户使用认证，线制程工艺可以满足 45nm-90nm光刻需求。 图：南大光电公告 公告
2020-12-25 18:24:096227 Luc Van den hove表示，IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻
2021-02-25 09:30:232047 随着半导体工艺进入10nm节点以下，EUV光刻机成为制高点，之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机，率先量产7nm、5nm工艺，现在内存厂商也要入场了，SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 11:39:091844 从中芯国际官网的介绍来看，该公司提到的最先进工艺还是14nm，接下来的是N+1、N+2工艺，但没有指明具体的工艺节点。
2021-05-14 09:46:013193 7nm之下不可或缺的制造设备，我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力，还有蔡司和TRUMPF（通快）两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分别为EUV光刻机的镜头和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
先进光刻工艺EUV相关知识，适合对半导体工艺有兴趣的人员，或者是从事光刻工艺的工程师
2022-06-13 14:48:231 HVM中的EUV光刻
•背景和历史
•使用NXE的EUV光刻：3400B
•EUV生成原理
•EUV来源：架构
•现场EUV源
•电源展望
•总结
2022-06-13 14:45:450 在芯片研发的过程中，光刻机是必不可少的部分，而随着芯片制程工艺的不断发展，普通的光刻机已经不能满足先进制程了，必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程，而目前台积电和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响。
2022-06-29 15:59:111297 1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机，意味着2nm工艺对EUV光刻机拥有更高的依赖性。
2022-07-05 17:26:497169 光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053181 来源：云天半导体 厦门云天半导体继九月初812吋 “晶圆级封装与无源器件生产线”正式通线后，经过团队的不懈努力， 8英寸晶圆Fine Pitch光刻工艺开发终破2/2um L/S大关； 以下为部分工艺
2022-11-30 17:07:07854 电子发烧友网报道（文/ 周凯扬 ）到了3nm这个工艺节点之后，单靠现有的0.33NA EUV光刻机就很难维系下去了。 为了实现2nm乃至未来的埃米级工艺，将晶体管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234 光掩模可以被认为是芯片的模板。光掩模用电子束图案化并放置在光刻工具内。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允许它们穿过晶圆。这就是在晶圆上创建图案的原因。
2023-03-03 10:10:321129 日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠 (KIOXIA）、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391837 新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589 
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541223 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
了。 芯片制造离不开光刻机，特别是在先进制程上，EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时，尽管目前市面上，EUV光刻机客户仅有三家，但需求不断增加的情况底下，EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺，High-NA（高数值孔径）EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004635
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