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电子发烧友网>制造/封装>半导体技术>工艺/制造>功率半导体材料GaN和SiC使用新趋势

功率半导体材料GaN和SiC使用新趋势

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2022-07-06 16:00:211643

SiCGaN功率电子器件的优势和应用

  随着硅接近其物理极限,电子制造商正在转向非常规半导体材料,特别是宽带隙(WBG)半导体,如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。由于宽带隙材料具有相对较宽的带隙(与常用的硅相比),宽带隙器件可以在高压、高温和高频下工作。宽带隙器件可以提高能效并延长电池寿命,这有助于推动宽带隙半导体的市场。
2023-02-05 14:25:15677

氮化镓(GaN)功率半导体之预测

氮化镓(GaN)是一种非常坚硬且在机械方面非常稳定的宽带隙半导体材料。由于具有更高的击穿强度、更快的开关速度,更高的热导率和更低的导通电 阻,氮化镓基功率器件明显比硅基器件更优越。 氮化镓晶体
2023-02-15 16:19:060

使用多个电流探头研究SiCGaN功率半导体器件的电极间电容

本文介绍了使用多个电流探头研究SiCGaN功率半导体器件的电极间电容。它分为四部分:双电流探头法原理、测量结果、三电流探头法原理和测量结果。
2023-02-19 17:06:18350

什么是氮化镓半导体GaN如何改造5G网络?

氮化镓 (GaN) 是一种半导体材料,因其卓越的性能而越来越受欢迎。与传统的硅基半导体不同,GaN 具有更宽的带隙,这使其成为高频和大功率应用的理想选择。
2023-03-03 10:14:39718

氧化镓有望成为超越SiCGaN性能的材料

氧化镓有望成为超越SiCGaN性能的材料,有望成为下一代功率半导体,日本和海外正在进行研究和开发。
2023-04-14 15:42:06363

半导体工艺装备现状及发展趋势

第三代半导体设备 第三代半导体设备主要为SiCGaN材料生长、外延所需的特种设备,如SiC PVT单晶生长炉、CVD外延设备以及GaN HVPE单晶生长炉、MOCVD外延设备等。
2023-06-03 09:57:01787

GaNSiC功率器件的特点 GaNSiC的技术挑战

 SiCGaN被称为“宽带隙半导体”(WBG),因为将这些材料的电子从价带炸毁到导带所需的能量:而在硅的情况下,该能量为1.1eV,SiC(碳化硅)为3.3eV,GaN(氮化镓)为3.4eV。这导致了更高的适用击穿电压,在某些应用中可以达到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431

sic功率半导体上市公司 sic功率半导体技术如何实现成果转化

sic功率半导体上市公司 sic功率半导体上市公司有三安光电、露笑科技、楚江新材、天通股份、东尼电子、华润微、扬杰科技、捷捷微电、华微电子、斯达半导、闻泰科技等公司,注意以上信息仅供参考,如果想了
2023-10-18 16:14:30586

三安宣布进军美洲市场,为市场提供SiCGaN功率半导体产品

1月8日,Luminus Devices宣布,湖南三安半导体与其签署了一项合作协议,Luminus将成为湖南三安SiCGaN产品在美洲的独家销售渠道,面向功率半导体应用市场。
2024-01-13 17:17:561042

全球高性能功率半导体市场呈现新趋势

Resonac(原昭和电工)是全球SiC外延片市场的佼佼者,该公司除了与罗姆半导体、英飞凌等建立长期供货关系之外,还获得了日本企业的大量投资,以扩大其SiC功率半导体业务生产规模。如今,他们已成功签订了多份SiC材料长期供给协议。
2024-01-15 10:30:02264

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