0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

关于EUV机台的性能分析和应用介绍

lC49_半导体 来源:djl 2019-09-04 16:56 次阅读

三星有意一口气买下10台单价为1.76亿美元的EUV。三星如果真的这样做,那就会提升其在7nm等先进工艺上的领先优势。这一方面是由于EUV设备是未来集成电路发展的关键,另一方面则在于三星如果真能买下10台,那么台积电、Intel和格芯等厂商则会面临几乎未来一年内无EUV设备可买的风险。

因为根据EUV设备唯一供应商——荷兰ASML的消息显示,他们每年大概能生产12台EUV设备。考虑到三星之前已经快对手一步购入了一些EUV设备,使得韩媒做出了这样的猜测。但三星的计划真的得逞吗?

关于EUV机台的性能分析和应用介绍

巨头们的EUV布局,未来胜负的关键

在摩尔定律的指导下,经历数十年发展的集成电路开始面临瓶颈:工艺制程进入10nm之后,过往的可见光光刻技术似乎不能应对如此小的沟通,因此业界将目光投向了EUV(极紫外光)光刻。

利用这种波长为13.4nm的光源打造的EUV光刻设备能够在晶圆上刻上先进工艺所需的电路。于是包括台积电、三星、Intel和格芯在内的几大先进晶圆代工厂都将目光投向了这个设备,并说出了他们在EUV光刻机上的布局和规划:

首先在台积电方面,虽然台积电他们透露已经在7nm研发上使用了7nm工艺,并实现了EUV扫描机、光罩和印刷的集成。但根据台积电联席CEO 刘德银在2016年的某会议上的演讲透露,台积电方面认为EUV光刻工艺直到2020年才能有效量产。按照台积电的路线图,也就就是说,台积电会在5nm上采用EUV工艺取代现在的传统光刻。已达到在新工艺上提高密度,简化工艺并降低成本的目的。

来到三星这边似乎则更为激进。在之前的报道中我们看到,三星计划在7nm制程中采用EUV光刻。在ASML与今年7月的半导体设备站上宣布突破了250瓦EUV光源的瓶颈后(光源功率(source power)──也就是传送到扫描机以实现晶圆曝光的EUV光子(photon)数量之量测值──直接等同于生产力,芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时125片晶圆(WPH)生产量的必要条件,即production-ready。),三星宣布将会在2018年推出使用EUV等先进制造技术的7nm新工艺。

来到Intel方面,作为制造巨头,英特尔在先进制程方面的引进相当克制。在早前的制程大会上,在问到EUV的布局上面,英特尔方面表示,从他们方面看来,EUV光刻的产能和配套服务,目前还不能符合量产需求,因此他们会保持对新设备的关注,在适合的时候会进行公布。

来到格芯方面,在今年六月份,格芯公布了他们的7nm进度,根据他们的Roadmap,他们将会在2018年进入7nm,但是这时候用的是DUV技术,根据他们的布局,会在2019年引入EUV技术。

三星真能垄断EUV光刻机?

BusinessKorea的报道显示,ASML从2000年开始就投入了EUV光刻的研究。在研发早期,三星和Intel就对ASML提供了极大的支持。

在2012年8月,三星宣布加入了ASML的客户联合投资计划。根据协议规定,三星承诺在未来五年内(从2012年算起),向ASML的次时代微影技术投入2.76亿欧元,占整个项目13.8亿欧元筹款目标的15%。与此同时三星向ASML投资了5.03亿欧元,取得ASML约3%股权。

但到了2016年,三星宣布出售价值约6.06亿欧元的ASML股权,这占了当时ASML整体股权的1.45%。也就是说三星手上的ASML股权大约剩下1.55%。

英特尔方面也加入了三星的客户联合投资计划,根据当时的报道,Intel参与ASML的计划分为两期,第一期目标为Intel投资5.53亿欧元(6.8亿美元)协助ASML开发18英寸晶圆制造工具,同时Intel将以17亿欧元(21亿美元)的代价收购ASML公司大约10%的盘前交易已发行股票。

第二期目标还要等ASML股东批准,它包括额外的2.76亿欧元(3.4亿美元)的有关EUV技术的R&D研发资金,以及价值8.38亿欧元(10亿美元)的5%盘后交易已发行股票。届时Intel将持有ASML 15%股份,整个产权交易价值约为25亿欧元(31亿美元)。

作为协议的一部分,Intel需要提前购买ASML的450mm晶圆及EUV开发、生产工具。

台积电方面也同时参与。当时消息显示,台积电将以8.38亿欧元购买ASML的5%股权,并同意在下一代光刻技术如超紫外技术和450毫米光刻设备的研发上向ASML投资2.76亿欧元。不过台积电在2015年全部处理了ASML 股权,获利6.95 亿美元。

至于格芯方面,从公开信息查找,似乎他们并没有参与这个计划。

如果光从股权上看,则是Intel、三星、台积电三者按照从先到后,如果这些股份占有董事会的决策权的话,那么Intel在ASML中的话事权似乎更大,三星想一下子包揽所有的EUV设备,是否会获得来自Intel等的阻挠,这未能尽知。

这些基于股权话事的说法是来自作者的猜测,不过按照常理,Intel和三星等投入到ASML的计划和股份中,除了推动EUV的进展,共同受益外,在未来竞购中处于领先地位,应该也是他们前赴后继投入的一个重要原因。

当然,至于隐藏在后面的具体细则,作者未能得知,希望有知情者透露。

我们不妨从EUV之前的购买状况来分析一下。

根据ASML的公开信息显示, 2016年第四季度卖掉了6台EUV光刻机,而根据分析师透露,当中的五台都是卖给了台积电。

三星方面无疑是最大买主,据相关消息透露,他们已经购入了超过十台的EUV设备,并将其装设于韩国华城市的18号生产线(Line 18)全力抢占晶圆代工版图。

至于英特尔方面,和他们的EUV规划一样,没有消息透露他们买了多少台设备,但在2015年,有消息泄露有美商一口气买了好几台EUV光刻机。有人就猜测那是Intel。

至于格芯方面的具体布局依然是没有消息源可寻。

正如开头所说,ASML今年的EUV产能是12台,全部销售一空,但他们在明年会将产能提升到24台。但根据ASML在7月发布的报告显示,他们挤压的EUV订单已经达到了21台。考虑到现在晶圆厂的竞争情况,未来的竞争肯定会加剧的。

综上所述,三星想一口气买下所有的EUV光刻机,也许只是一个大胆的设想。不过考虑三星之前斥巨资垄断了OLED生产关键设备供应商CanonTokki多年的产能,可以看出三星再次做出这种事也有很大可能。通过内存疯长挣得盘满钵满的韩国巨头现在真可谓是财大气粗,况且对ASML来说,Business is business,和谁不是做生意呢?

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 台积电
    +关注

    关注

    43

    文章

    5595

    浏览量

    165956
  • 晶圆
    +关注

    关注

    52

    文章

    4813

    浏览量

    127664
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    603

    浏览量

    85937
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延机台

    全新推出的PE2O8碳化硅外延机台是对行业领先的ASM单晶片碳化硅外延机台产品组合(包含适用于6英寸晶圆的 PE1O6 和适用于8英寸晶圆的 PE1O8)的进一步增强。该机台采用独立双腔设计,兼容6
    发表于 10-17 14:21 110次阅读
    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延<b class='flag-5'>机台</b>

    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延机台

    全新推出的PE2O8碳化硅外延机台是对行业领先的ASM单晶片碳化硅外延机台产品组合(包含适用于6英寸晶圆的 PE1O6 和适用于8英寸晶圆的 PE1O8)的进一步增强。该机台采用独立双腔设计,兼容6
    发表于 10-17 14:11 311次阅读
    ASM推出全新PE2O8碳化硅外延<b class='flag-5'>机台</b>

    晶闸管与IGBT的性能分析

    晶闸管(Thyristor)与绝缘栅双极型晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor, IGBT)作为电力电子领域中的关键器件,各自具有独特的性能特点和应用场景。以下是对两者性能的详细分析,内容涵
    的头像 发表于 08-27 14:09 948次阅读

    日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术

    近日,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)发布了一项重大研究报告,宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外(EUV)光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体制造业的标准界限,其设计的光刻设备能够采用更小巧的EUV光源,并且功耗仅为传统EUV
    的头像 发表于 08-03 12:45 820次阅读

    加速科技ST2500EX测试机台再获封测厂超千万订单

    近日,加速科技自主研发的ST2500EX测试机台再次斩获测试厂超千万订单! ST2500EX测试机台以其卓越的性能和可靠的稳定性备受市场认可与青睐。作为加速科技的核心产品之一,性能成熟
    的头像 发表于 07-23 09:48 242次阅读
    加速科技ST2500EX测试<b class='flag-5'>机台</b>再获封测厂超千万订单

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
    的头像 发表于 05-17 17:21 866次阅读

    Bladed软件介绍

    、气候条件、涡轮机设计参数等因素,以预测风力涡轮机在各种工作条件下的性能表现。通过分析这些参数,Bladed能够提供关于涡轮机性能、结构强度和可靠性的定量和定性评估,帮助设计师和工程师
    发表于 03-03 21:36

    SAGE算法的性能分析

    电子发烧友网站提供《SAGE算法的性能分析.pdf》资料免费下载
    发表于 02-28 10:38 0次下载

    安达发|APS生产排程的多机台产线详解

    在生产管理中,APS(高级计划与排程)系统它可以帮助企业实现生产过程的优化和效率提升。特别是在多机台产线的生产环境中,APS系统的作用更加明显。本文将详细解析APS生产排程的多机台产线,包括允许
    的头像 发表于 02-21 16:07 399次阅读
    安达发|APS生产排程的多<b class='flag-5'>机台</b>产线详解

    如何获得高纯度的EUV光源?EUVL光源滤波系统的主流技术方案分析

    目前,商用EUV光刻机采用激光等离子体型-极紫外(LPP-EUV)光源系统,主要由驱动激光器、液滴锡靶、收集镜组成。
    的头像 发表于 02-21 10:18 1019次阅读
    如何获得高纯度的<b class='flag-5'>EUV</b>光源?EUVL光源滤波系统的主流技术方案<b class='flag-5'>分析</b>

    ASML为什么能在EUV领域获胜?

    在讨论ASML以及为何复制其技术如此具有挑战性时,分析通常集中在EUV机器的极端复杂性上,这归因于竞争对手复制它的难度。
    发表于 01-17 10:46 320次阅读
    ASML为什么能在<b class='flag-5'>EUV</b>领域获胜?

    带阻滤波器:原理、应用及性能分析

    带阻滤波器:原理、应用及性能分析?|深圳比创达电子EMC
    的头像 发表于 12-11 10:43 1217次阅读
    带阻滤波器:原理、应用及<b class='flag-5'>性能</b><b class='flag-5'>分析</b>?

    高数值孔径 EUV技术路线图

    高数值孔径EUV 今年的大部分讨论都集中在EUV的下一步发展以及高数值孔径EUV的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lercel表示,其目标是提高EUV的能源
    发表于 11-23 16:10 660次阅读
    高数值孔径 <b class='flag-5'>EUV</b>技术路线图

    三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台

    EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前,AMSL约有70%的
    的头像 发表于 11-22 16:46 693次阅读

    GPRS的性能分析及优化

    电子发烧友网站提供《GPRS的性能分析及优化.pdf》资料免费下载
    发表于 11-17 16:31 0次下载
    GPRS的<b class='flag-5'>性能</b><b class='flag-5'>分析</b>及优化