在不断发展的无线互联世界里,RF SOI(Silicon-on-Insulator)工艺技术以其独特的技术和成本优势,成为智能手机射频前端模块的首选技术之一。尤其在射频开关领域,SOI技术以低功耗、高隔离以及高线性度等方面特性赢得众多设计者的青睐。
2015年年初,华虹宏力的0.2微米射频SOI第二代工艺平台正式发布推向市场,并首次采用了PSP-SOI模型,为设计者提供精准的各种器件特性描述。相较于BSIM-SOI模型,PSP-SOI能够更精准地描述模拟特性以及电流高阶导数的连续性。此外,最重要的一点,在射频大信号的谐波仿真预测上,PSP-SOI模型也能准确地描述各谐波的趋势。
PSP-SOI(PD)模型是在PSP模型的基础上,加入了对SOI器件各种特殊效应的描述。如浮体效应,价带隧道效应电流等。并且包含了对一些特殊寄生效应的详细描述。如源漏结二极管,采用JUNCAP2模型对漏电的非线性进行了详尽的描述,该模型除了包括源漏理想的偏移电流及扩散电流,还考虑了带间隧道效应及陷阱辅助穿隧因素。另外,自热效应在SOI工艺中是众所周知的,本模型采用了标准的辅助热电路方式,通过直流能量的转化来检测温度的升高。模型还对寄生三极管效应、非线性体电阻、高低频噪声、电压电流等高阶倒数等效应进行了详尽的描述。除此之外,模型还对衬底网络进行了一定的描述。
该模型经过与实测数据的对比验证,从直流,到交流,从射频小信号到射频大信号的谐波验证,都得到了较好的吻合。基于PSP-SOI模型的这套工艺设计工具(PDK)极大的方便了设计者针对射频性能和芯片面积同时进行优化,减少了设计反复,设计并制造出高性能、低功耗的射频开关。
值得一提的是,模型团队最近又建立了大信号测试负载牵引系统,建立了晶圆级别的大信号测试能力,从而为将来进一步验证器件及电路特性,以及进行更精准的模型验证,提供更有力的支持。
通过研发团队的不断努力,同时与客户保持紧密沟通从而清晰地理解设计需求,我们将工艺技术持续优化提升。华虹宏力第三代射频SOI工艺平台预计将在今年第四季度推出。随着模型的不断成熟,随着PDK后端抽取的更精准优化,华虹宏力将为客户提供更加完善的射频解决方案,帮助客户抢占市场先机,让我们拭目以待。
张 昊 研发部器件模型科 张昊 在上海一个研讨会上介绍PSP-SOI 模型的优势
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