NumeriTech在收购私营软件公司后做了哪些调整

SAN JOSE - Numerical Technologies Inc.宣布收购私营转让企业有限公司广泛使用的软件将IC设计数据文件转换为生产光掩模的格式。

NumeriTech表示，位于加利福尼亚州Los Gatos的Transcription Enterprises将继续销售其计算机辅助转录系统（CATS）。独立供应商，但这两项业务现在将用于亚波长光刻的高度集成和优化的解决方案。没有关于此次收购的财务细节。

私有企业NumeriTech一直在扩展其复杂光掩模设计软件产品，这些复杂光掩模用于打印小于光波长的设备特征尺寸。这些亚波长技术包括相移和光学邻近校正（OPC）。许多主要的IC制造商已经开始使用NumeriTech的技术，使用现有的248纳米光刻工具将特征尺寸推向0.13微米以下。

但是由于“切换之间的”切换，亚波段光罩的推进将变得更加困难。设计和制造步骤，“YC警告说（Bruno）NumeriTech总裁Pati。 “除非妥善处理，否则它将成为一个不断增长的瓶颈。”

最初，NumeriTech开始与Transcription Enterprises合作探索亚波长光掩模的创新解决方案，但很快管理人员意识到“非常适合”合并，帕蒂说。 “在与客户讨论OPC和相移解决方案的同时，我们也被要求整合大部分的面罩准备任务，”他回忆道。 “事实证明，提供最佳解决方案的整合水平是合并两家公司。”

十四岁的转录企业现在声称提供超过90％的转换工具GDS II数据文件将芯片设计操作转移到掩模制作步骤。 “我们开始专注于面具店，并且也进入了专卖店，”成为NumeriTech转录子公司副总裁兼总经理的Kevin MacLean说。 “我们的目标始终是将设计和面具店联系在一起。过去这些操作已脱节，因为人们相信他们设计的东西几乎会出现在晶圆上。

”过去十年来，我们不得不将这些过程与设计数据文件和光掩模生产软件紧密结合在一起，以实现更好的通信和更少的错误，“MacLean解释道。

CATS软件已从面具书写工具的数据准备扩展到其他他表示，客户正在寻求进一步扩展先进的分辨率技术，例如选择性尺寸，顶点处理和其他元素，“MacLean解释说，他们指的是制作高产亚波长的棘手任务。掩模。