Mulith将激进光学技术扩展到原位计量

NASHUA，NH - Mulith Inc.，声称已经开发出突破性的光刻技术用于图案化目前已推出的0.10微米以下的特征尺寸已将该技术扩展到晶圆计量。

新的光学技术被称为参考分布航空图像形成（见4月25日的故事）。 Mulith说它也可以用于原位关键尺寸测量，质量控制，缺陷检查和失效分析

Mulith声称其基于激光的计量工具提供的分辨率优于扫描电子显微镜（SEM），同时不需要昂贵的发射源，静电透镜，磁物镜，复杂的热传导方法和真空系统。最重要的是，它不会损坏晶圆并首次提供原位功能。

该工具可以对光罩和晶圆进行缺陷测量和检查，无需任何Mulith表示，硬件或软件转换的分辨率高于KLA-Tencor，应用材料公司，Horiba公司，Lasertec公司，Inspex公司和日立公司提供的分辨率，但这些产品都没有提供原位功能。它可以集成到用于缺陷检测的化学机械平面化（CMP）工具中，以补充来自Nanometrics和Nova Measuring Systems等公司的原位CMP薄膜厚度工具。

“该工具还可以结合到现有的步进器，步进扫描光刻或用于晶圆对准的Mulith RIF光刻工具中，”Mulith公司总裁Greyson Gilson说道。“通过RIF获得的图像可以转换为电子图像信号并用于反馈回路，以便于实现高精度的光刻过程。“

Mulith不打算自己构建RIF光刻或计量设备。相反，它正在寻求许可其技术，参与合资企业或出售给资本设备公司。