0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

厦企携手中科院双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化

倩倩 来源:lq 作者:厦门日报 2019-10-12 14:50 次阅读

昨日,厦门恒坤新材料科技股份有限公司与中科院微电子研究所产业化平台南京诚芯集成电路技术研究院进行合作签约,双方将共同推进半导体光刻胶的研发和项目产业化。

当前,厦门将集成电路设计列入十大未来产业培育工程之一,努力突破一批关键核心技术,并实现转化和批量应用,力争到2021年产值突破百亿元。业内人士指出,目前国内集成电路产业正迎来发展的窗口期,光刻胶是集成电路半导体制造的重要材料,长期依靠进口,是“卡脖子”产品之一,当前还面临上游关键原材料短缺、先进工艺和专业人才不足等问题。

恒坤新材料是国内率先实现量供集成电路超高纯前驱体和高端光刻胶的企业,已成为国内多家高端芯片企业的材料供应商。前驱体和高端光刻胶是企业目前的两大拳头产品,填补了国内半导体先进电子材料的空白。今年恒坤新材料加大产业布局力度,相继投资建成两个半导体先进材料工厂,业务方面也取得了突破性发展。

恒坤新材料相关负责人表示,恒坤新材料希望借助中科院微电子所在全球半导体产业的技术优势,加强研发力量,促进高端光刻胶及相关原材料的技术拓展并实现产业化。恒坤新材料将以厦门为总部,规划建立半导体先进材料研发中心,推动光刻胶和先进半导体材料的发展。

作为中国半导体产业发展的重镇之一,厦门正通过“三高”企业系列扶持政策,推动自主研发项目攻关、加大科技成果转化奖励力度、支持企业建设实验室等,提升企业的研发创新能力。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    457

    文章

    51345

    浏览量

    428254
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5396

    文章

    11643

    浏览量

    363716
  • 半导体
    +关注

    关注

    335

    文章

    27826

    浏览量

    223865
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻胶成为半导体产业的关键材料

    光刻胶半导体制造等领域的一种重要材料,在整个电子元器件加工产业有着举足轻重的地位。 它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。其中,感光树脂决定了光刻胶的感光度和分辨率等关键性能,增
    的头像 发表于 12-19 13:57 345次阅读

    一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望

    光刻技术是现代微电子和纳米技术的研发中的关键一环,而光刻胶,又是光刻技术中的关键组成部分。随着技术的发展,对微小、精密的结构的需求日益增强,光刻胶
    的头像 发表于 11-11 10:08 761次阅读
    一文解读<b class='flag-5'>光刻胶</b>的原理、应用及市场前景展望

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 1300次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 590次阅读

    国产光刻胶通过半导体工艺量产验证

    设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。   众所周知,光刻胶半导体芯片制造过程中所必须的关键材料,其研发和生产过程复杂且严格。
    的头像 发表于 10-17 13:22 333次阅读
    国产<b class='flag-5'>光刻胶</b>通过<b class='flag-5'>半导体</b>工艺量产验证

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 411次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 711次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 1146次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶后烘技术

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1700次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘技术

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
    的头像 发表于 07-09 16:06 803次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    通常要考虑光刻胶是否过期失效了。接下来我们介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感,在光照或高温条件下其性能
    的头像 发表于 07-08 14:57 1322次阅读

    一文读懂半导体工艺制程的光刻胶

    光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正受到紫外光照射的部分在显影时被去除,负受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
    的头像 发表于 04-24 11:37 3193次阅读
    一文读懂<b class='flag-5'>半导体</b>工艺制程的<b class='flag-5'>光刻胶</b>

    康达新材投资2.89亿元建设半导体光刻胶关键材料光引发剂技术项目

    康达新材表示,为了贯彻其“新材料+电子科技”战略,优化旗下彩晶光电产品构成,填补内地资源空缺,推进国产进程,解决半导体光刻胶核心材料受限问题,打破国际技术和市场垄断
    的头像 发表于 04-16 09:44 864次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2845次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 5022次阅读