日本对韩出口半导体材料管制重审，光刻胶许可延期

据共同社报道，日本经济产业省于当地时间12月20日对韩国的半导体材料出口管制政策进行了重新审查，关于涂覆在基板上的感光剂“光刻胶”，针对特定企业间的交易调整了运用：能够获得许可的期限从目前的原则上半年增至最长3年。

对日本出口企业而言，此举有利于减少事务手续。这是日本7月宣布加强对韩出口管制以来首次调整运用。可能是为定于24日举行的日韩首脑会谈做铺垫。

据悉，日本7月对光刻胶、用于清洗半导体的“氟化氢”以及用于智能手机有机EL显示屏的“氟化聚酰亚胺”三种产品加强了对韩出口管制。此前向对韩出口企业发放有效期3年的许可，省略个别申请，但7月4日以后变为对每份合同逐一审核并判断是否允许出口。有效期也改为原则上半年，运用变得更加严格。

经产省就本次调整运用说明称，关于光刻胶以外的两种材料，或将根据日韩企业间的实际业绩情况决定是否放宽出口管制。但经产省强调本次做法只是个别企业间交易的修改，并非撤回对韩出口加强管制本身。

对此，韩国总统府相关人士评价说：“此次措施是由日本政府主动采取的，虽然也可以看作是一部分进展，但是作为对出口限制问题的根本解决方案，还是不够的”。

从事对韩光刻胶业务的化工企业负责人表示：“冷静地接受该调整。不论措施如何，根据规则严肃应对的方针不变。”