三星宣布全球首座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂开始量产
三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
据介绍，三星7LPP、6LPP工艺主要生产先进的移动SoC芯片，本季度内陆续出货，具体客户均未披露，不过看起来7LPP会是对外代工主力，6LPP则可能是三星自用，或者仅限特定客户。
按照三星的说法，6LPP相比于7LPP可将晶体管密度增加约10％，并降低功耗，但彼此互相兼容，针对7LPP工艺设计的IP可以直接复用，从而大大降低成本。
在路线图上，三星还规划了5LPE、4LPE、3GAE、3GAP等更先进的工艺，都会使用EUV极紫外光刻，其中5nm、4nm都可以算作7nm工艺的深度升级，3nm则是全新设计。
高通刚刚发布的第三代5G基带骁龙X60就采用三星5nm工艺制造，3nm则会在今年完成开发，放弃使用多年的FinFET晶体管架构。
三星V1工厂2018年2月开工建设，2019年下半年开始试产，未来将迅速扩大产能，到今年底7LPP EUV和更新工艺的总产能将是去年底的三倍，累计投资也将达60亿美元。
责任编辑：wv
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
三星电子
+关注
关注
34文章
15859浏览量
180986 -
EUV
+关注
关注
8文章
605浏览量
86004
发布评论请先 登录
相关推荐
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉；三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机，加快开发1nm 芯片 据报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA
发表于 10-31 10:56
•810次阅读
简述光刻工艺的三个主要步骤
“ 光刻作为半导体中的关键工艺，其中包括3大步骤的工艺：涂胶、曝光、显影。三个步骤有一个异常，整个光刻工艺都需要返工处理，因此现场异常的处理
光刻工艺的基本知识
在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、MEMS器件，还是微纳光学元件都离不开光刻工艺的参与，其重要性不
日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术
近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）发布了一项重大研究报告，宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外（EUV）光刻技术。这一创新技术超越
三星否认晶圆代工厂生产缺陷传闻
近日，韩国三星电子代工晶圆制造工厂的生产缺陷传闻在业界引起了广泛关注。有消息传出，三星在第二代3纳米工艺生产过程中，发生了高达2500批次的
概伦电子NanoSpice通过三星代工厂3/4nm工艺技术认证
概伦电子(股票代码：688206.SH)近日宣布其新一代大容量、高性能并行SPICE仿真器NanoSpice通过三星代工厂3/4nm工艺技术认证，满足双方共同客户对高精度、大容量和高性
三星与新思科技携手，备战2nm工艺量产
在全球半导体行业迈向更高精度和更小尺寸的征途上，三星与新思科技近日宣布了一项重要的合作。这一合作旨在确保三星的2nm制造工艺能够顺利实现
今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV；理想 L9 出事故司机质疑 LCC，产品经理回应
1. ASML 今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV 根据报道，芯片制造设备商ASML今年将向台积电、英特尔、三星交付最新的高数值孔径极
发表于 06-06 11:09
•880次阅读
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意，未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头（包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规
中芯国际跃升至全球第三大晶圆代工厂
据研究机构Counterpoint 5月22日报告，中芯国际在2024年第一季度实现了显著的飞跃，成功跃升至全球第三大晶圆代工厂，仅次于行业巨头台积电和三星，市场份额达6%。这一成就标
三星拟应用金属氧化物抗蚀剂（MOR）于DRAM EUV光刻工艺
据悉，MOR作为被广泛看好的下一代光刻胶（PR）解决方案，有望替代现今先进芯片光刻工艺中的化学放大胶（CAR）。然而，CAR在提升PR分辨率、增强抗蚀能力及降低线边缘粗糙度上的表现已无法满足当前晶圆制造的产业标准。
英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统
来源：Yole Group 英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的
2024年最新全球EMS代工厂50强（TOP 50）
在科技产业中，EMS（ElectronicManufacturingServices，电子制造服务）代工厂扮演着至关重要的角色。它们为全球各地的品牌商提供从设计到生产、组装、测试到最终出货的全方位
三星泰勒市新晶圆厂量产推迟至2025年
早在2022年5月，三星就表达了在美国得克萨斯州泰勒市建芯片代工厂的意愿，初始投资设定为170亿美元，后追加至250亿美元。该工厂将配备极紫外光刻
工商网监
评论