Gigaphoton将于2020年引进新型ArF浸没式激光器

半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社宣布，2020年将增加全新产品，其中包括采用新技术的最新半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”这2种机型。

配备加快技术转移的新技术

半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，2020年将增加全新产品，其中包括采用新技术的最新半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”这2种机型。

随着近年来IoT的普及以及AI的实际运用，半导体用途不断扩大，从而要求半导体芯片需要进一步加快通信速度，实现更大数量的数据处理。尤其在2020年，5G（第5代移动通信）开始面向普通人群提供服务，因此需要10nm以下节点的小型、高速、低功耗逻辑IC以及用于存储爆炸性增长数据的大容量存储芯片。

新型ArF浸没式激光器“GT66A”配备了新开发的光学模块，成功降低了空间相干，并改善了曝光面的光束均匀性。新型KrF用激光器“G60K”进行了时隔约15年的全型号变更，通过引进新型电源单元，实现了以往1.5倍的输出。Gigaphoton通过这些新技术为芯片制造商提供支持。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“随着引进IoT的产业设备及家电的普及，配合AI与5G，同时推动工厂、医疗、汽车、社会基础设施等多个领域的实时化以及智能化。我们将通过配备新技术的新产品线，为新一代产业界的发展做出贡献。”