0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻机中国能造吗 光刻机技术面临的难题

西西 来源:(百家号和腾讯整合而成 作者:(百家号和腾讯整 2020-07-23 17:31 次阅读

这段时间中国的科研成果想必大家都有了解,当然其中最让人关注的就是5G技术,尽管5G技术是去年就开始问世的,但是今年5G已经开始国内普及甚至走进了国际上很多国家。当然除了5G技术之外还有一项很重要的研究成果。

那就是中国的光刻机技术,大家应该也还记得前段时间中国的光刻机技术突破了西方国家的技术封锁。这一次的技术突破让中国的光刻机精度往前走了很多一步,而在当时网上很多人也对中国的光刻机技术非常的关注。

不过很多人其实并不了解光刻机技术,只知道这项技术可以用来制造芯片,所以有很多人认为中国光刻机技术突破封锁,那么是不是代表着中国能够自主生产芯片了。不过有很多人发现这段时间中国的芯片依旧是进口为主,有很多网友就表示:就不能自己造吗?

其实对于这个问题的答案,一些了解光刻机的人应该就知道,中国目前的技术确实还不能够自己造芯片。因为尽管我们在光刻机技术上做出了重大突破,但是这个精度距离国际上的先进水平还是有一段距离,所以目前进口的芯片还是要好一些。

目前我们还真没有攻克尖端光刻机这个技术难题,确实被人“掐住”了脖子。大家很是着急,都盼望着祖国可以快点研制出这个神器。

但是很不幸地告诉大家,不要说未知的5nm光刻机,就是目前已知的7nm光刻机中国也不可能独自造出,世界任何国家都不可能凭一己之力造出,这跟时间没关系!

虽然看起来光刻机就是在绘制一个电路板,但是光刻机的精准度是以纳米为计算单位的,其误差要求在2nm之内,大家就可以想象是有多么精细的技术才能实现这么小的误差了。除了顶尖的做工技术,还要配合顶级的光源,现在最先进的技术,配备的是极紫外光,目前我国还是达不到。

7nm代表了目前世界上最顶级的制造水平,5nm是极限荷兰的ASML基本垄断了高端光刻机领域,特别是最新的EUV极紫外光光刻机有生产7纳米制成的能力,ASML全球市场份额100%。

根据物理学常识小于纳米级的光刻机纯粹是胡说八道。一个纳米里只能排列8个硅原子,任何物质的晶体都达不到完美,都具有缺陷和原子空位。

5nm技术理论上已经接近极限,世界上目前没有任何一个国家可以制造出5nm光刻机,甚至没有实力去研究。

中国芯片制造方面顶尖的中芯国际只有28纳米的生产工艺,14纳米工艺才刚刚开始量产,但是请注意中芯国际用的光刻机是进口的,并不是国产的。中国芯片制造只能占到世界7.3%的份额。

由于中国大陆没有能力生产高规格芯片,华为的麒麟990只能交给中国台湾地区的台积电代工生产。

国内上海微电子芯片公司的光刻机水平最高,刚刚突破90纳米工艺。

90纳米是英特尔2000年奔腾4处理器的水平,距离7纳米顶尖水平还有差好几个珠穆朗玛峰。

最顶尖的7nm光刻机没有任何一个国家可以独自制造出来,荷兰不行,美国同样不行

(百家号和腾讯整合而成)

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    453

    文章

    50394

    浏览量

    421786
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1147

    浏览量

    47251
  • 5G
    5G
    +关注

    关注

    1353

    文章

    48367

    浏览量

    563365
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    718

    浏览量

    41178
  • 7nm
    7nm
    +关注

    关注

    0

    文章

    267

    浏览量

    35309
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

    时,摩尔定律开始面临挑战。一些光刻机巨头选择了保守策略,寄希望于F2准分子光源157nm波长的干式光刻技术。2002年,浸润式光刻的构想被提
    的头像 发表于 11-24 11:04 121次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>介绍

    光刻机的工作原理和分类

    ,是半导体产业皇冠上的明珠。芯片的加工过程对精度要求极高,光刻机通过一系列复杂的技术手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图
    的头像 发表于 11-24 09:16 152次阅读

    一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、
    的头像 发表于 11-22 09:09 236次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻机</b>的结构及双工件台<b class='flag-5'>技术</b>

    一文了解光刻机成像系统及光学镀膜技术

    高端光刻机研发是一个系统工程,涉及到各方面技术的持续改进和突破,在材料科学方面涉及低吸收损耗石英材料、高纯度薄膜材料的开发,在精密光学领域涉及精密光学加工技术、镀膜技术、光学集成装配
    的头像 发表于 11-21 13:43 138次阅读
    一文了解<b class='flag-5'>光刻机</b>成像系统及光学镀膜<b class='flag-5'>技术</b>

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 714次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机 据彭博社爆料称,有美国官员就大陆攻台的后果私下向荷兰和中国台湾官员表达担忧。对此,光刻机制造商阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely
    的头像 发表于 05-22 11:29 5728次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机
    的头像 发表于 05-17 17:21 900次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 1725次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
    发表于 03-21 11:31 5837次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 1128次阅读

    ASML光刻机技术的领航者,挑战与机遇并存

    ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色,其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
    发表于 03-05 11:26 1114次阅读

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4459次阅读

    光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
    发表于 01-29 09:37 2634次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>结构及IC制造工艺工作原理

    荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机

    在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
    的头像 发表于 01-03 15:22 1084次阅读

    英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机

    如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元,并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
    的头像 发表于 12-28 11:31 832次阅读