0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

DMD无掩膜光刻技术解析

h1654155282.3538 来源:昊量光电 作者:昊量光电 2020-08-13 15:09 次阅读

光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上,然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机,带有图形的石英板称为掩膜,光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。具体光刻流程如下图所示

光刻技术是集成电路制造、印刷电路板制造以及微机电元件制造等微纳加工领域的核心技术之一。进入21世纪以来,随着电子信息产业的高速发展,集成电路的需求出现了井喷式的增长。使的对掩膜的需求急剧增加,目前制作掩膜的主要技术是电子束直写,但该制作效率非常低下,并且成本也不容小觑,在这种背景下人们把目光转移到了无掩膜光刻技术。

备受关注的无掩膜光刻技术大概可以分为两类:

1)带电粒子无掩膜光刻;例如电子束直写和离子束光刻技术等。

2)光学无掩膜技术;例如DMD无掩膜光刻技术、激光直写、干涉光刻技术、衍射光学元件光刻技术等。

其中DMD无掩膜光刻技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。设备原理图图下图所示。相对于传统的光刻设备,DMD无掩膜光刻机无需掩膜,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。相对于激光直写设备,DMD芯片上的每一个微镜都可以等效看成一束独立光源,其曝光的过程相当于多光束多点同时曝光可极大提高生产效率特别是对于结构繁琐的图形。

该设备光源采用波长为365nm的紫外LED,相比于激光或者汞灯,LED光源具有更长的使用寿命稳定性。LED光源的使用寿命可达到10000小时。采用10倍物镜单次曝光面积达到1mm0.6mm,并在1s内完成曝光。若配备电动平移台,可完成套刻和光刻拼接,拼接面积可达25mm*25mm,拼接误差优于0.5μm并且拥有自动聚焦和对准功能。

应用案例:

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻技术
    +关注

    关注

    1

    文章

    143

    浏览量

    15796
  • DMD
    DMD
    +关注

    关注

    3

    文章

    54

    浏览量

    30507
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻光刻模具的关系

    光刻(也称为光罩)和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用,但它们的功能和应用有所不同。 光刻
    的头像 发表于 10-14 14:42 193次阅读

    基版在光刻中的作用

    想必大家都有所了解,光刻机对芯片制造的重要性,而光版又称光罩,光等; 光
    的头像 发表于 10-09 14:24 224次阅读

    光刻版制作流程

    光刻版的制作是一个复杂且精密的过程,涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻
    的头像 发表于 09-14 13:26 514次阅读

    版的技术迭代

    版产品诞生至今约70多年,是电子制造行业中使用的生产制具。由于技术演变较慢,下游运用广泛且不同行业对
    的头像 发表于 09-10 14:00 283次阅读
    <b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版的<b class='flag-5'>技术</b>迭代

    版与光刻胶的功能和作用

    版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。‌ 版‌,也称为光罩、光
    的头像 发表于 09-06 14:09 514次阅读

    芯片光刻的保存方法

    光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。 版有两种:一种
    的头像 发表于 09-04 14:55 192次阅读

    半导体版制造工艺及流程

    之后就成为光版。板可分为光版和投影
    的头像 发表于 08-19 13:20 1030次阅读
    半导体<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版制造工艺及流程

    微流控光刻制作

    微流控光刻的制作过程涉及多个步骤,‌包括设计、‌制版、‌曝光、‌显影、‌刻蚀等,‌最终形成具有特定图形结构的版。‌ 首先,‌设计阶段
    的头像 发表于 08-08 14:56 263次阅读

    新思科技x Multibeam推出业界首款可量产电子束光刻系统 无需

      基于的传统光刻技术,其成本正呈指数级攀升。而无的电子束
    的头像 发表于 05-22 18:41 2139次阅读

    SPIE Proceedings | 透镜极紫外缺陷分析

    ,相互配合才可能完成。其中光学的质量直接关系到芯片最终的良品率。 近日,来自著名的瑞士保罗谢勒研究所的研究人员报告了一种光化透镜成像方法可以用于检测极紫外(EUV)
    的头像 发表于 05-10 06:34 238次阅读
    SPIE Proceedings | <b class='flag-5'>无</b>透镜极紫外<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>缺陷分析

    光刻设计与加工制造服务,请问可以加工二元光学器件吗?

    光刻设计与加工制造服务,请问可以加工二元光学器件吗?相位型光栅那种.
    发表于 04-22 06:24

    基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

    电子束光刻(e-beam lithography,EBL)是光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的
    的头像 发表于 03-04 10:19 1790次阅读
    基于SEM的电子束<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技术</b>开发及研究

    一文弄懂半导体版制造工艺及流程

    微电子制造过程中的图形转移母版版(Photomask)又称光罩、光光刻
    发表于 01-06 11:33 3.1w次阅读
    一文弄懂半导体<b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版制造工艺及流程

    光刻版保护常见的类型有哪些?

    版保护,mask pellicle,是一种透明的薄膜,在生产中覆盖在版的表面。顾名思义,主要对
    发表于 01-04 18:15 1094次阅读
    <b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>掩</b><b class='flag-5'>膜</b>版保护<b class='flag-5'>膜</b>常见的类型有哪些?

    2024年,光的价格将会上涨

    近日报道,由于中国芯片制造公司和晶圆代工厂对光的需求仍然非常强劲,光市场的短缺情况并未得到缓解,预计到2024年光
    的头像 发表于 11-29 18:25 1239次阅读