光刻机被美国制裁阻挠之后,中国企业发挥了曲线救芯的创新思维,从韩国代理商购买了二手ASML浸没式光刻机,有望打破美日欧垄断,实现12英寸国产芯片生产!
受美国阻挠及新冠疫情影响,此前我国企业向ASML订购的EUV光刻机迟迟未能到货。如今,中企有望在其他供应商处找到转机。
在耗时近4个月后,晶瑞股份斥资1102.5万美元(约合人民币7129万元),从韩国代理商SK Hynix处购买的二手ASML浸没式光刻机(XT 1900Gi)已顺利到货。
据报道,该司预计2021年上半年完成设备的安装调试,用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶;并期望在3年内完成ArF光刻胶产品相关技术参数及产品定型,实现规模化生产。
所谓光刻胶,是一种对光敏感的有机混合物,主要应用于芯片制造环节中微细图形的加工。据晶瑞股份董事长吴天舒介绍,该设备有利于解决我国在集成电路制造领域关键材料“卡脖子”难题,待光刻胶成功研发后,也将为国产12英寸芯片的制造提供重要材料。
虽然光刻胶研发难度比光刻机的难度要小,但在核心材料上,目前我国仍然需要从海外进口。
而当前全球光刻胶市场基本被欧盟以及日本等几家大型企业垄断,在关键材料领域,信越化学、合成橡胶、富士胶片等日企则掌握着主要话语权。
因此,近年来我国也一直试图打破日本在光刻胶领域的垄断,近年来已有晶瑞股份、南大光电、以及上海新阳等中企入局。
2020年12月17日,南大光电发布公告称,该司研发的ArF光刻胶产品已通过客户使用认证,标志着国内第一只国产ArF光刻胶的诞生。
除了中企加速入局,“国家队”也集中力量帮助该领域的发展。去年9月份,在华为被断供一天后,中科院院长白春礼表示,将把美国“卡脖子清单”变成我国科研任务清单进行布局,集中全院的力量攻克难关。
编辑:hfy
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