0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

台积电狂砸440亿购买55台EUV光刻机,以加快相关工艺制程发展

如意 来源:快科技 作者:万南 2020-09-28 16:31 次阅读

芯片制程已经推进到了7nm以下,这其中最关键的核心设备就要数EUV光刻机了,目前全世界只有荷兰ASML(阿斯麦)可以制造。

来自Digitimes的报道称,台积电打算在2021年底前购置55台EUV光刻机,以加快EUV相关工艺制程的发展。

实际上,当前全球一半投入使用的EUV光刻机都在台积电手中,而截止今年二季度结束,ASML累计出货了大概71台光刻机,也就是台积电安装(注意,从获取零件到校准机器使用还需要小半年时间)了30台左右,还有25台的缺口。

ASML今年下半年计划出货22台光刻机,明年全年最多50台,换言之,台积电打算抢下这其中超过1/3的供货。

更关键的是,一台EUV光刻机的价格大概是1.2亿美元(约合8亿元人民币),也就是在2020年底前,台积电买EUV机器就要花超过440亿元人民币,大约相当于台积电当前两个月的总收入了。
责编AJX

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 台积电
    +关注

    关注

    44

    文章

    5634

    浏览量

    166478
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1150

    浏览量

    47397
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    606

    浏览量

    86020
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机加快开发1nm 芯片   据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)
    发表于 10-31 10:56 812次阅读

    3nm制程需求激增,全年营收预期上调

    近期迎来3nm制程技术的出货高潮,预示着其在半导体制造领域的领先地位进一步巩固。随着苹果iPhone 16系列新机发布,预计搭载的A18系列处理器将采用
    的头像 发表于 09-10 16:56 662次阅读

    拟200亿购群创南科厂,加速封装与制程发展

    近日,市场盛传200亿新台币的高价收购群创光电位于台南的南科四厂,该厂为一家5.5代LCD面板厂。据悉,
    的头像 发表于 08-13 11:36 712次阅读

    今日看点丨ASML今年将向、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

    1. ASML 今年将向、三星和英特尔交付High-NA EUV   根据报道,芯片制造设备商ASML今年将向
    发表于 06-06 11:09 881次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV
    的头像 发表于 05-27 14:37 644次阅读

    都嫌贵的光刻机,大力推玻璃基板,英特尔代工的野心和危机

    电子发烧友网报道(文/吴子鹏)此前,高级副总裁张晓强在技术研讨会上表示,“ASML最新的高数值孔径极紫外光刻机(high-NA EUV
    的头像 发表于 05-27 07:54 2536次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪光刻机

    disable)相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪
    的头像 发表于 05-22 11:29 5767次阅读

    扩增特种工艺制程产能,推出N4e新节点

     电业务发展及海外运营副总裁张晓强表示,“以往会先审查后决定是否建设新工厂,而现在,我
    的头像 发表于 05-22 09:31 420次阅读

    A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利
    的头像 发表于 05-17 17:21 989次阅读

    张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

    据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV
    的头像 发表于 05-15 14:42 632次阅读

    ASML发货第二High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 819次阅读

    光刻机发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、
    发表于 03-21 11:31 6272次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的<b class='flag-5'>发展</b>历程及<b class='flag-5'>工艺</b>流程

    英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商

    英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止,英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂,据报道它们的售价约为3.8
    的头像 发表于 03-06 14:49 461次阅读
    英特尔成为全球首家<b class='flag-5'>购买</b>3.8<b class='flag-5'>亿</b>美元高数值孔径<b class='flag-5'>光刻机</b>的厂商

    日本拟补贴7300亿日元 熊本县第二工厂提上日程

    日本拟补贴7300亿日元 据日媒报道日本政府拟向
    的头像 发表于 02-23 14:25 717次阅读

    消息称1nm制程厂选址确定

    据消息人士透露,已经决定将其1nm制程厂选址在嘉义科学园区。为了满足这一先进制程技术的需求,
    的头像 发表于 01-23 15:15 1307次阅读