据韩媒etnews报道,消息人士透露,三星电子副会长李在鎔日前前往欧洲,主要目的在于访问ASML荷兰总部。
该报道称,三星电子目前正计划在韩国华城、平泽以及美国的奥斯汀等地建立EUV生产体系。因此,确保EUV光刻机的数量有望成为三星半导体成长的关键。
而三星电子代工业务的最大竞争对手是台积电,其在全球市占率超过50%,而三星的市占仅为17%,仍在致力于缩小差距。此前有消息称,台积电加速先进制程推进,近期扩大释单,累计EUV光刻机至2021年底将超过50台,而三星的这一数字预计仅为25台。
据悉,ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,年产量为40余台,台积电方面希望获得全数供应。EUV光刻机的价格昂贵,每台要价约1.3亿美元,由于是EUV制程必需的关键设备,台积电与三星电子的竞争日益激烈。
此前韩国业内人士指出,三星明年将获得10台ASML为其预留的EUV光刻机。现李在鎔亲自到访后,这一供应量可望增加。
李在鎔除了访问ASML外,也将前往瑞士等欧洲其他国家,目的在于强化三星当地的运营,除了半导体事业外,也针对人工智能、5G等业务进行相关投资考察。
责任编辑:tzh
-
半导体
+关注
关注
335文章
27939浏览量
224913 -
台积电
+关注
关注
44文章
5711浏览量
167352 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1159浏览量
47716
发布评论请先 登录
相关推荐
组成光刻机的各个分系统介绍

光刻机的工作原理和分类
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
日本与英特尔合建半导体研发中心,将配备EUV光刻机
半导体产业竞速:Hyper-NA EUV光刻机挑战与机遇并存
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
台积电未确定是否采购阿斯麦高数值孔径极紫外光刻机
ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案
光刻机的发展历程及工艺流程

ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

评论