0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

AMSL公布最先进光刻机的最新进程 生产率已提高18%

如意 来源:快科技 作者:万南 2020-10-15 09:47 次阅读

10月14日,荷兰ASML(阿斯麦)公布了光刻机产品的最新进展。

其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统,终于敲定最终规格。

具体来说,30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出货交付,客户还需要一定时间等待,价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。

目前,ASML已经投产的最先进光刻机是3400C,但主力出货型号是3400B。参数方面,3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小时可曝光125片晶圆。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证,四季度早期开始正式出货。

据悉,在截止9月30日的单季度,ASML共获得60台光刻机收入,出货了10台EUV光刻机。
责编AJX

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 晶圆
    +关注

    关注

    52

    文章

    5039

    浏览量

    128724
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1159

    浏览量

    47802
  • AMSL
    +关注

    关注

    0

    文章

    10

    浏览量

    3265
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 846次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 206次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代
    的头像 发表于 01-20 09:44 602次阅读
    如何<b class='flag-5'>提高</b><b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 1161次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

    纳米级别的分辨。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统   光源系统是光刻机的心脏,负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源,但随着技术的进步,目前多采用
    的头像 发表于 01-07 10:02 1024次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    用来提高光刻机分辨的浸润式光刻技术介绍

      本文介绍了用来提高光刻机分辨的浸润式光刻技术。 芯片制造:光刻技术的演进 过去半个多世纪,摩尔定律一直推动着半导体技术的发展,但当
    的头像 发表于 11-24 11:04 1476次阅读
    用来<b class='flag-5'>提高</b><b class='flag-5'>光刻机</b>分辨<b class='flag-5'>率</b>的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色     光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位,被誉为芯片制
    的头像 发表于 11-24 09:16 3971次阅读

    一文看懂光刻机的结构及双工件台技术

    光刻机作为IC制造装备中最核心、技术难度最大的设备,其重要性日益凸显。本文将从光刻机的发展历程、结构组成、关键性能参数以及双工件台技术展开介绍。 一、光刻机发展历程 光刻机的发展历程
    的头像 发表于 11-22 09:09 2880次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻机</b>的结构及双工件台技术

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产
    的头像 发表于 05-28 15:47 916次阅读

    Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产
    的头像 发表于 05-27 14:37 757次阅读

    ASML考虑推出通用EUV光刻平台

    范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨。他进一步解释说,Hyper NA 光刻机将简化先进制程
    的头像 发表于 05-23 09:51 576次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连续三个季度成为阿斯麦(ASML)最大市场,而
    的头像 发表于 05-22 11:29 5895次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV
    的头像 发表于 05-17 17:21 1203次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 1119次阅读

    光刻机的常见类型解析

    光刻机有很多种类型,但有时也很难用类型进行分类来区别设备,因为有些分类仅是在某一分类下的分类。
    发表于 04-10 15:02 2343次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的常见类型解析