据韩媒报道,三星电子副董事长李在镕在本周三(10月14日)亲自飞赴ASML(阿斯麦)荷兰总部会晤。
陪同李在镕的是三星芯片业务负责人Kim Ki-nam,ASML方面CEO Peter Wennink和CTO Martin Van den Brink均出面接待,规格颇高。
据称,双方探讨了的核心是EUV光刻机的供应和装配(5nm),同时也就面向AI等领域的下一代光刻机研发合作交换了意见,讨论中还各自发表了对当前新冠肺炎疫情的看法。
资料显示,三星和ASML在EUV极紫外光刻上的合作可追溯到2000年,三星在2012年的时候还投资入股ASML以加强合作,目前,三星持有ASML 1.5%股份。
另据了解,ASML正在开发NXE-5000,是其现有主力出货EUV光刻机NXE-3400B的完全换代型号。
责编AJX
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
三星电子
+关注
关注
34文章
15856浏览量
180924 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1147浏览量
47255 -
AMSL
+关注
关注
0文章
10浏览量
3223
发布评论请先 登录
相关推荐
HyperLith软件 EUV光刻交流
nm光刻机中的光学系统称为反折射系统。该术语意味着它同时使用透镜(折射)和反射镜(反射)元件来引导和调节来自激光器的光。
极紫外光刻
正在开发的EUV光刻,以满足特征尺寸低于22 n
发表于 11-24 22:06
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片 据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA
发表于 10-31 10:56
•782次阅读
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
三星电子任命半导体业务新负责人,加码AI芯片市场
三星电子近日宣布,任命Young Hyun Jun为半导体部门的新负责人,此举旨在进一步加码AI芯片市场,以追赶包括SK海力士在内的竞争对手。
后门!ASML可远程锁光刻机!
与ASML进行光刻机问题沟通时,负责人做出了保证,他们有能力远程锁控芯片制造设备。 这就意味着ASML传承了欧美企业留有“后门”的习惯,而伴随着这样一则信息的揭露,或许很有可能会被美国所利用,彻底走向不可控的局面,而ASML丝毫不加以掩饰,这其中很可能存
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连续三
三星电子更换设备解决方案部门负责人
三星电子近日宣布重要人事调整,旨在进一步优化公司管理结构和推动业务发展。未来事业企划团负责人全永铉将出任设备解决方案(DS)部门负责人,全面接管芯片等业务的全球运营。
台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特
小鹏汽车迎来新AI负责人,研发XNGP技术
小鹏汽车近日迎来新的AI团队负责人——Cruise公司前高级资深机器学习工程师LiuXianming。他将带领小鹏AI团队研发XNGP技术,为公司的自动驾驶领域注入新的活力。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
发表于 03-21 11:31
•5849次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,ASML 也为其 NXE 系列传统数值孔径
传光刻机巨头ASML将离开荷兰 荷兰政府寻求挽留
近日,光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息,这令业界哗然。据悉,荷兰政府为阻止这一可能发生的变故,已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划
三星清空ASML股份,11年盈利超16倍
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥
荷兰政府撤销ASML光刻机出口许可 中方回应美停止对华供光刻机
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
评论