据日经报道,日本信越化学将斥资300亿日元(约2.85亿美元),把光刻胶的产能提高20%,以扩充对半导体关键材料的供应。
根据报道,信越化学将会在日本和台湾地区兴建工厂,位于台湾地区云林工厂将先完成,预计2020年2月开始量产,届时信越化学将得以在台湾地区生产可与极紫外光(EUV)光刻技术兼容的光刻胶,以满足台积电等台厂客户的需求。
日本的工厂将建在新泻县,预计2022年开始运作。届时台湾地区的光刻胶将增产50%,日本的增产20%,同时也会陆续招募新员工。新建的两座工厂除了满足台湾台湾地区和日本的需求之外,还能够为中国大陆和韩国提供服务。
光刻胶是半导体供应链的关键材料,随着半导体应用的日益广泛,光刻胶市场将在未来五年成长60%,达到2500亿日元的规模,目前全球的光刻胶生产还是以日本的为主,其掌握着80%的市占率,光是信越化学一家就占到了20%~30%,另外JSR和TOK也在日本和海外生产EUV光刻胶,住友化学和Fujifilm也在这方面虎视眈眈。
责任编辑:lq
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
原文标题:【产业动态】信越化学拟斥资2.85亿美元在日本和台湾地区建厂
文章出处:【微信号:gh_c8682fd6f974,微信公众号:半导体促进会】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
相关推荐
共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
发表于 11-01 11:08
•81次阅读
本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
发表于 10-31 15:59
•116次阅读
根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结
发表于 07-10 13:46
•556次阅读
一般光刻过程文章中简单介绍过后烘工艺但是比较简单,本文就以下一些应用场景下介绍后烘的过程和作用。 化学放大正胶 机理 当使用“正常”正胶时,曝光完成后光反应也就完成了,但是
发表于 07-09 16:08
•1017次阅读
形态。这种方法的主要应用领域是剥离过程,在剥离过程中,底切的形态可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜,有助于获得干净的剥离光刻胶结构。 在图像反转烘烤步骤中,光刻胶的热稳定性和化
发表于 07-09 16:06
•450次阅读
通常要考虑光刻胶是否过期失效了。接下来我们将介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感,在光照或高温条件下其性能
发表于 07-08 14:57
•657次阅读
在被超60亿美元收购后,日本光刻胶巨头JSR积极寻求扩大规模,以适应全球芯片制造行业的快速发展。
发表于 04-29 14:37
•664次阅读
与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
发表于 03-20 11:36
•2246次阅读
据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
发表于 01-26 09:18
•479次阅读
光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
发表于 01-03 18:12
•1149次阅读
据日经新闻消息,日本富士电机(Fuji Electric)将在2024~2026年度的3年内向半导体领域投资2000亿日元(折合人民币约100亿元)规模。
发表于 12-29 10:22
•690次阅读
匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响
发表于 12-15 09:35
•1746次阅读
光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越
发表于 12-14 15:20
•1029次阅读
光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶
发表于 11-13 18:14
•1403次阅读
甘利明在此次内阁修订案中表示,日本半导体补贴、日本企业补贴和台湾半导体芯片二期扩建工程将分别确保1.9万亿日元、5900亿
发表于 11-10 10:27
•743次阅读
评论