全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计
想想几年前的全球半导体芯片市场，真的可谓哀嚎一片，一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天，我们不仅看到5nm工艺如期而至，台积电宣布2nm获得重大进展，就连光刻机的老大ASML也传来捷报，全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计。
ASML已完成1nm光刻机设计
近日，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。具体来看，ASML对于3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划，且1nm时代的光刻机体积将增大不少。
显然，1nm光刻机需要更强大的物理极性，2nm之后需要更高分辨率的曝光设备。目前已经投入量产的7nm、5nm工艺已经引入了0.33NA的EUV曝光设备，而ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计，预计在2022年实现商业化。
很高兴看到摩尔定律又起效了！
责任编辑:pj
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
台积电
+关注
关注
44文章
5642浏览量
166553 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1150浏览量
47418 -
半导体芯片
+关注
关注
60文章
918浏览量
70637
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷，芯片迎来新一轮“寒流”？
电子发烧友网报道（文/黄山明）作为芯片制造过程中的核心设备，光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片（7nm及以下）芯片量产的关键，但目前
日本首台EUV光刻机就位
本月底完成。 Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片，于 2027 年开始大规模生产芯片。 EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术，可形成超精细电路图案。该系统体积小，不易受到振动和其他
用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在193
光刻机的工作原理和分类
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位，被誉为芯片制
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉；三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机，加快开发1nm 芯片 据报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA
发表于 10-31 10:56
•814次阅读
俄罗斯首台光刻机问世
据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线
俄罗斯推出首台光刻机：350nm
来源：IT之家，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 据外媒报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示，该设备可确保生产350纳米工艺
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意，未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头（包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
ASML考虑推出通用EUV光刻平台
范登布林克指出，更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说，Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程，避免因使用 High NA 光刻机进行双重图案化导致的额外步骤及风险。
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
disable）台积电相应机器，而且还可以包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。 这就意味着阿斯麦（ASML）留了后门，随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
ASML发货第二台High NA EUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机
发表于 03-21 11:31
•6332次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台
工商网监
评论