国内晶圆代工厂领头羊中芯国际人事地震冲上网络热搜,联席CEO梁孟松辞职后的去向问题(中芯未立即批准梁的辞职,未来仍有变数)成为网友关心的话题。已经有网友开始喊话:梁孟松可以去华为嘛。
梁孟松服务过的公司,除现在的中芯国际,还有博士毕业后去的第一家公司AMD,以及后来的台积电、三星半导体。四换东家(包括中芯国际这次)的经历,除从AMD辞职有报效生养地的意思外,其余3次均是迫于无奈,从三星半导体辞职,则是因为台积电起诉其违反竞业协议,被法院判决需立即从三星离职,并不得在2015年9月前回到三星。从台积电辞职和这次请辞中芯又极其相似,都是因为人事任命,感觉自己委屈。
台积电对梁孟松的打击尤甚,因为他攻克大马士革铜制程,对台积电获得今日地位居功至伟,本不应有愤而出走结局。
2003年之前,台积电、IBM以及日本的芯片制造商正在进行一场决战,即解决130nm工艺的铝布线材料问题。130nm是微米级工艺制程向纳米级工艺制程过渡的关键节点,谁解决了这个节点的铝布线材料问题,谁就能在随后的竞赛中冲到前面,获得大量客户。
这个铝布线问题是怎么回事呢?简单说就是耐电迁移性问题。在芯片内部较高的电流密度下,电子沿铝布线往阳极流动,在流动的过程中,与铝原子发生碰撞,将动量转移给铝原子,使其往阳极移动,久而久之形成突起物(晶须),同时在阴极方向形成空洞。
晶须和空洞会造成芯片内部短路和断路,使整个芯片报废。而且随着芯片制造工艺从微米级向纳米级过渡,铝布线越来越细,电迁移问题会越来越突出,最终导致整个芯片行业停滞不前。
1998年的时候,IBM就提出用铜代替铝进行布线。铜这种材料相对于铝,简直就是芯片制造厂眼中的优等生:电阻率低,熔点高、原子质量大,耐热且耐电子迁移。但既然这么优秀,为何铜迟迟没有替代铝呢?因为它缺点也很突出:难以利用干法蚀刻进行微细加工,意味着原来的制造工艺被废,制造成本上升;铜向绝缘膜和硅基板的扩散速度较快,会改变晶体管性质,使芯片报废;附着性较差,芯片良率和寿命极低。
在前辈、后生都被铜布线问题困扰的情况下,谁最先给出解决方案,谁就是领头羊。说白了,行业开始重新洗牌。
最终,梁孟松领导的先进模组团队替台积电赢得了这场比赛,经此一役,台积电也从行业跟跑变成领跑。梁孟松也因此被媒体誉为“是台积电可排进前5名的研发人才”,成为公司创始人张忠谋的左右手。
但祸福相倚,故事并没有迎来皆大欢喜的结局。
2006年7月,台积电副总蒋尚义退休,公司计划提拔两个研发副总,其中一个职位确定为来自英特尔、资历更深的罗唯仁,另一个职位需在梁孟松和孙元成两人中产生。后来的结果是,孙元成坐上研发副总位置,为台积电立下汗马功劳的梁孟松却名落孙山,调到其它部门。
为此,梁孟松在2008年负气出走,进入三星。后来,梁孟松被台积电起诉违反竞业协议后,《工商时报》报道了庭审细节:“‘他们在未经我同意下,发布人事命令’、‘这几乎使得我无法面对公司所有认识我的人’、‘凭我的资历要我去一个不能发挥的单位’、‘我感到被欺骗、被侮辱,高层完全不重视我’。说到激动处,梁孟松哽咽如泣,随即大声说‘我对台积电贡献很多,这件事,我没面子’……”
从公开的信息看,梁孟松这次从中芯国际辞职,事情起因和台积电如出一辙,都与未和他事先足够沟通有关,让他感觉不被尊重。
由此也可以看出,梁孟松是典型的理工男处事风格,技术攻关能力强,但为人处事不够圆滑,性子也比较急,有委屈忍不了,否则不会负气出走。在梁孟松手下呆过的中芯员工透露,梁能力强,做事风风火火,对自己及下属要求极其严格,因此在部分员工中并不受欢迎。
实际上,梁孟松从中芯国际辞职的消息传出后,员工从网络透露出的反应也是两极分化,有的高兴地要放鞭炮,指其在公司搞“清洗”,有的则感觉惋惜,希望中芯国际能留住他。但以梁孟松的个性,留下的可能较小。
那么,华为能否将梁孟松招致麾下?
目前来看,华为要突破美国技术封锁,成为IDM芯片商是路径之一,但走这条路,华为最大的短板是制造,几乎是从0起步,对梁孟松这样的逻辑芯片工艺制程领军人才是求贤若渴的。如能招到麾下,华为倒是可以节省不少独自摸索的时间。而且从目前看,国内的芯片制造公司还难以提供让梁发挥的平台,长江存储、合肥长鑫是大厂无疑,但都是做存储的,和梁擅长的逻辑芯片工艺(主要用于SoC芯片)相差太远。
但问题是,华为不是梁唯一的去处,他还有一个选择是重新回到三星。他在三星做的还算开心,当初之所以离开,纯粹是因为台积电所逼。目前这个时间段,早过了他与台积电的竞业期限。更为重要的是,三星正在与台积电苦战,也需要梁孟松回来破解僵局。
总之,如梁孟松从中芯国际离职,去处第一是三星,如有可能,也会解华为燃眉之急,就看华为是否愿意抓住这个机会。最终的谜底如何,让我们拭目以待。
责任编辑:tzh
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