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中芯国际:美国新规对10nm及以下先进工艺研发有重大不利影响

璟琰乀 来源:搜狐科技 作者:梁昌均 2020-12-21 09:26 次阅读

中芯国际 12 月 20 日晚间发布说明公告称,公司被列入 “实体清单”后,根据美国相关法律法规的规定,针对适用于美国《出口管制条例》的产品或技术,供应商须获得美国商务部的出口许可才能向公司供应;对用于 10nm 及以下技术节点(包括极紫外光技术)的产品或技术,美国商务部会采取 “推定拒绝”(Presumption of Denial)的审批政策进行审核;同时公司为部分特殊客户提供代工服务也可能受到一定限制。

在说明公告中,中芯国际表示,经初步评估,该事项对公司短期内运营及财务状况无重大不利影响,对 10nm 及以下先进工艺的研发及产能建设有重大不利影响。公司将持续与美国政府相关部门进行沟通,并视情况采取一切可行措施,积极寻求解决方案,力争将不利影响降到最低。

值得一提的是,有媒体报道称,在中芯国际新任副董事长蒋尚义的帮助下,中芯国际将寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)就 EUV 光刻设备进行谈判。中芯国际一直难以从阿斯麦获得 EUV 光刻设备,尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响,但仍存顾虑。

责任编辑:haq

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