中芯国际与ASML就EUV光刻设备进行谈判
据国外媒体报道，当地时间周二，富时罗素（FTSE Russell）表示，从明年1月7日起，将把海康威视和中芯国际从富时中国A50指数和富时中国50指数中剔除。
富时中国A50是外国投资者进入中国境内股票市场的普遍渠道，而富时中国50则包括在大陆和海外上市的中国公司。
中芯国际及其控股子公司是集成电路晶圆代工企业之一，提供0.35微米到14纳米不同技术节点的晶圆代工与技术服务。
近日，业内观察人士表示，在新任副董事长蒋尚义的帮助下，中芯国际正寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦（ASML）就EUV光刻设备进行谈判。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
中芯国际
+关注
关注
27文章
1417浏览量
65287 -
晶圆
+关注
关注
52文章
4854浏览量
127824 -
光刻设备
+关注
关注
0文章
21浏览量
6497
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷，芯片迎来新一轮“寒流”？
电子发烧友网报道（文/黄山明）作为芯片制造过程中的核心设备，光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片（7nm及以下）芯
日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术
近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）发布了一项重大研究报告，宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外（EUV）光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体制造业的标准界限，其设计的光刻设备
ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机，将芯片密度限制再缩小
ASML再度宣布新光刻机计划。据报道，ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光机（EUV），将缩小最高电晶体密度芯片的设计限制。 ASM
阿斯麦(ASML)与比利时微电子(IMEC)联合打造的High-NA EUV光刻实验室正式启用
近日，全球领先的半导体制造设备供应商阿斯麦(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)共同宣布，位于荷兰费尔德霍芬的High-NAEUV光刻实验室正式启用。这一里程碑式的事件标志着双方合作研发的高
后门！ASML可远程锁光刻机！
来源：国芯网，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 5月22日消息，据外媒报道，台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机，暗藏后门，可以在必要的
ASML考虑推出通用EUV光刻平台
范登布林克指出，更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说，Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程，避免因使用 High NA 光刻机进行双重图案化导致的额外步骤及风险。
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特
台积电张晓强：ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道，荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价，高达3.5亿欧元（约合27.16亿元人民币）。而现有EUV
ASML发货第二台High NA EUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
)光刻机，并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就，不仅标志着ASML公司技术创新的新高度，也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前，全球仅有两台高数值孔径EUV
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲
三星清空ASML股份，11年盈利超16倍
根据资料显示，在2012年，为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用，并获得EUV光刻机的优先供应，在2012年，英特尔、台积电、三星均斥
ASML为什么能在EUV领域获胜？
在讨论ASML以及为何复制其技术如此具有挑战性时，分析通常集中在EUV机器的极端复杂性上，这归因于竞争对手复制它的难度。
发表于 01-17 10:46
•352次阅读
与ASML达成历史性协议，三星将在2nm芯片制造取得优势
现时，ASML是全球唯一的EUV光刻机制造商，这台设备主要应用于生产7nm及以下制程芯片。目前，ASML年产此类
工商网监
评论