0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

iCoupler技术为AC/DC设计中的氮化镓(GaN)晶体管

电子设计 来源:电子设计 作者:电子设计 2020-12-26 04:10 次阅读

大规模数据中心、企业服务器或电信交换站使得功耗快速增长,因此高效AC/DC电源对于电信和数据通信基础设施的发展至关重要。但是,电力电子行业中的硅MOSFET已达到其理论极限。同时,近来氮化镓(GaN)晶体管已成为能够取代硅基MOSFET的高性能开关,从而可提高能源转换效率和密度。为了发挥GaN晶体管的优势,需要一种具有新规格要求的新隔离方案。

GaN晶体管的开关速度比硅MOSFET要快得多,并可降低开关损耗,原因在于:

栅极电容和输出电容更低。

较低的漏源极导通电阻(RDS(ON))可实现更高的电流操作,从而降低了传导损耗。

无需体二极管,因此反向恢复电荷(QRR)低或为零。

GaN晶体管支持大多数包含单独功率因数校正(PFC)和DC-DC部分的AC/DC电源:前端、无电桥PFC以及其后的LLC谐振转换器(两个电感和一个电容)。此拓扑完全依赖于图1所示的半桥和全桥电路。

如果将数字信号处理器(DSP)作为主控制器,并用GaN晶体管替换硅MOSFET,就需要一种新的隔离技术来处理更高的开关频率。这主要包括隔离式GaN驱动器

图1.适合电信和服务器应用的典型AC/DC电源

典型隔离解决方案和要求

UART通信隔离

从以前的模拟控制系统转变为DSP控制系统时,需要将脉宽调制(PWM)信号与其他控制信号隔离开来。双通道ADuM121可用于DSP之间的UART通信。为了尽量减小隔离所需系统的总体尺寸,进行电路板组装时使用了环氧树脂密封胶。小尺寸和高功率密度在AC/DC电源的发展过程中至关重要。市场需要小封装隔离器产品

PFC部分隔离

与使用MOS相比,使用GaN时,传输延迟/偏斜、负偏压/箝位和ISO栅极驱动器尺寸非常重要。为了使用GaN驱动半桥或全桥晶体管,PFC部分可使用单通道驱动器ADuM3123,LLC部分则使用双通道驱动器ADuM4223 。

为隔离栅后的器件供电

ADI公司的isoPower?技术专为跨越隔离栅传输功率而设计,ADuM5020紧凑型芯片解决方案采用该技术,能够使GaN晶体管的辅助电源与栅极的辅助电源相匹配。

隔离要求

为了充分利用GaN晶体管,要求隔离栅极驱动器最好具有以下特性:

●最大允许栅电压<7 V

●开关节点下dv/dt>100 kV/ms ,CMTI为100 kV/?s至200 kV/?s

●对于650 V应用,高低开关延迟匹配≤50 ns

●用于关断的负电压箝位(–3 V)

有几种解决方案可同时驱动半桥晶体管的高端和低端。关于传统的电平转换高压驱动器有一个传说,就是最简单的单芯片方案仅广泛用于硅基MOSFET。在一些高端产品(例如,服务器电源)中,使用ADuM4223双通道隔离驱动器来驱动MOS,以实现紧凑型设计。但是采用GaN时,电平转换解决方案存在一些缺点,如传输延迟很大,共模瞬变抗扰度(CMTI)有限,用于高开关频率的效果也不是很理想。与单通道驱动器相比,双通道隔离驱动器缺少布局灵活性。同时,也很难配置负偏压。表1对这些方法做了比较。

表1.驱动GaN半桥晶体管不同方法的比较

图2.在isoPower器件中实现UART隔离和PFC部分隔离,需要采用ISO技术及其要求

对于GaN晶体管,可使用单通道驱动器。ADuM3123是典型的单通道驱动器,可使用齐纳二极管和分立电路提供外部电源来提供负偏压(可选),如图3所示。

新趋势:定制的隔离式GaN模块

目前,GaN器件通常与驱动器分开封装。这是因为GaN开关和隔离驱动器的制造工艺不同。未来,将GaN晶体管和隔离

栅驱动器集成到同一封装中将会减少寄生电感,从而进一步增强开关性能。一些主要的电信供应商计划自行封装GaN系统,构建单独的定制模块。从长远来看,用于GaN系统的驱动器也许能够集成到更小的隔离器模块中。如图4所示,ADuM110N等微型单通道驱动器(低传输延迟、高频率)和isoPower ADuM5020设计简单,可支持这一应用趋势。

图3.用于GaN晶体管的单通道、隔离式isoCoupler驱动器

图4.iCoupler ADuM110N和isoPower ADuM5020非常适合Navitas GaN模块应用

结论

与传统硅基MOSFET相比,GaN晶体管具有更小的器件尺寸、更低的导通电阻和更高的工作频率等诸多优点。采用GaN技术可缩小解决方案的总体尺寸,且不影响效率。GaN器件具有广阔的应用前景,特别是在中高电压电源应用中。采用ADI公司的iCoupler?技术驱动新兴GaN开关和晶体管能够带来出色的效益。

审核编辑:符乾江


声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • GaN
    GaN
    +关注

    关注

    19

    文章

    1919

    浏览量

    73011
  • 氮化镓晶体管

    关注

    0

    文章

    12

    浏览量

    6420
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    CG2H80015D氮化(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)规格书

    电子发烧友网站提供《CG2H80015D氮化(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)规格书.pdf》资料免费下载
    发表于 09-04 11:27 0次下载

    晶体管的主要材料有哪些

    晶体管的主要材料是半导体材料,这些材料在导电性能上介于导体和绝缘体之间,具有独特的电子结构和性质,使得晶体管能够实现对电流的有效控制。以下将详细探讨晶体管的主要材料,包括硅(Si)、锗(Ge)、
    的头像 发表于 08-15 11:32 1080次阅读

    GaN晶体管的应用场景有哪些

    GaN氮化晶体管,特别是GaN HEMT(高电子迁移率晶体管),近年来在多个领域展现出广泛
    的头像 发表于 08-15 11:27 764次阅读

    GaN晶体管和SiC晶体管有什么不同

    GaN氮化晶体管和SiC(碳化硅)晶体管作为两种先进的功率半导体器件,在电力电子、高频通信及高温高压应用等领域展现出了显著的优势。然而
    的头像 发表于 08-15 11:16 696次阅读

    GaN晶体管的基本结构和性能优势

    GaN氮化晶体管,特别是GaN HEMT(高电子迁移率晶体管),是近年来在电力电子和高频通
    的头像 发表于 08-15 11:01 902次阅读

    氮化GaN)的最新技术进展

    本文要点氮化是一种晶体半导体,能够承受更高的电压。氮化器件的开关速度更快、热导率更高、导通电阻更低且击穿强度更高。
    的头像 发表于 07-06 08:13 786次阅读
    <b class='flag-5'>氮化</b><b class='flag-5'>镓</b>(<b class='flag-5'>GaN</b>)的最新<b class='flag-5'>技术</b>进展

    CGHV96050F1卫星通信氮化高电子迁移率晶体管CREE

    CGHV96050F1是款碳化硅(SiC)基材上的氮化(GaN)高电子迁移率晶体管(HEMT)。与其它同类产品相比,这些GaN内部搭配CG
    发表于 01-19 09:27

    氮化是什么晶体,是离子晶体还是原子晶体

    氮化是一种化合物,化学式GaN,由(Ga)和氮(N)两种元素组成。它是一种化合物晶体,由原
    的头像 发表于 01-10 10:23 5731次阅读

    氮化是什么结构的材料

    的结构通常采用六方晶系,属于闪锌矿型结构。在氮化晶体原子和氮原子交替排列,形成紧密堆积的晶格结构。
    的头像 发表于 01-10 10:18 3132次阅读

    氮化是什么晶体类型

    氮化晶体结构。氮化晶体结构属于六方晶系,也被称为wurtzite结构。在
    的头像 发表于 01-10 10:03 3576次阅读

    氮化mos型号有哪些

    氮化GaN)MOS,是一种基于氮化材料制造的金属氧化物半导体场效应
    的头像 发表于 01-10 09:32 2100次阅读

    氮化功率器件结构和原理

    晶体管)结构。GaN HEMT由以下主要部分组成: 衬底:氮化功率器件的衬底采用高热导率的材料,如氮化硅(Si3N4),以提高器件的热扩散
    的头像 发表于 01-09 18:06 2991次阅读

    CGHV40180 L波段功率放大器CREE

    事通讯设备产品规格描述:180瓦;DC-2GHz;氮化高电子迁移率晶体管最低频率(MHz):0最高频率(MHz):2000最高值输出功率(W):200增益值(分贝):24.0效率(%
    发表于 01-02 12:05

    在金刚石上制造出的氮化晶体管散热性能提高2.3倍

    氮化GaN晶体管在工作过程中产生的热量和由此引起的温升会导致性能下降并缩短器件的寿命,因此亟需开发有效的散热方法。
    的头像 发表于 12-22 10:47 1051次阅读
    在金刚石上制造出的<b class='flag-5'>氮化</b><b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>晶体管</b>散热性能提高2.3倍

    英特尔发力具有集成驱动器的氮化GaN器件

    在最近的IEDM大会上,英特尔表示,已将 CMOS 硅晶体管氮化 (GaN) 功率晶体管集成,用于高度集成的48V设备。
    的头像 发表于 12-14 09:23 1118次阅读
    英特尔发力具有集成驱动器的<b class='flag-5'>氮化</b><b class='flag-5'>镓</b><b class='flag-5'>GaN</b>器件