Q1:HTOL算FIT的时候 老化电压有很多组 那么计算电压加速系数的时候,每组电压都需要算吗?还是怎么样的?Answer:以core电压为准,1.1V按照1.21V做也是在安全范围内,没有加压。
Q2:Die表面钝化层的具体作用有哪些?及不同种类芯片的钝化层工艺是否存在差异?Answer:钝化层一般是氮化硅,有些用氮氧化硅,有些在氮化硅上面再长一层PI Polyimide。
Q3:钝化层氮化硅,和二氧化硅,厚度多少A?Answer: 3000+6000A。具体看工艺,不过差不多就是这个数据。可以直接问foundry 或者去查interconnect model document, 或者查XRC文件,都会有passivation厚度信息。
Q4:Sensor 和memory 之类的芯片做ATE测试时有必要做WLBI(提高温度和电压)测试,来对处于早期失效边缘的芯片进行筛选和分类吗?
Answer: WLBI 是指wafer level BI, NAND 根据产品等级, 高DPPM等级的要做BI, 50cycle full array 读写, week point stress 等。可以wafer level 也可以封装后做。电压corner 一样都会做的。起码worst corner 测试。还是看产品DPPM需求。高DPPM等级大概为每百万颗芯片的缺陷数,还是1颗芯片每百万像素的缺陷数呢?两者都可以算,看产品卡什么样spec,如果一个像素fail就认为这颗料fail,还是允许一些fail bit, 对于NAND 有redundancy Column,及CRC纠错,一般客户按芯片DPPM要求。
Q5:关于CSP封装在FT测试中对芯片温度校准的一些方法吗?目的是需要通过测试当前芯片温度从而对芯片内部T-sensor进行校准。
Answer: 可以的,chuck温度就是设定温度。一般TS测试用尽量低的功耗模式,最好只有TS在工作。 开放环境芯片TS要求0.5℃精度较难,用腔体结构的有可能。1%的精度还是可以达到的。 要准的话你可能要把斜率也要校准出来,单点还不行。一般应用时, 计算出来的温度 = 25度 + 斜率 * (readout_code - TS_code@25c)。斜率和ts_code@25c 都是校准出来的。如果要求不高,斜率不校准,用个常数。
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