台积电和三星均已投入5nm工艺的量产,前者代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等,后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。其实从7nm开始,台积电和三星就开始引入EUV光刻,但过程层数较少。按照ASML(阿斯麦)的说法,迭代到5nm后,EUV的层数达到了10~14层,包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm,对EUV的依赖将更甚。
根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV***的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV***产能将达到45~50台的规模。
毕竟,2019年ASML仅出货了26台,去年三季度后全年累计出货23台(全年预估35台),可谓少得可怜。
另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV***TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
台积电
+关注
关注
44文章
5609浏览量
166111 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1147浏览量
47249 -
ASML
+关注
关注
7文章
718浏览量
41176
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?
电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前EUV
ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机,将芯片密度限制再缩小
ASML再度宣布新光刻机计划。据报道,ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光机(EUV),将缩小最高电晶体密度芯片的设计限制。
后门!ASML可远程锁光刻机!
来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程锁定! 据《联合早报》报道,荷兰
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的
台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特
台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1
ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑
光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 ASML公司一季度订单下滑 光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷了,阿斯麦(ASML)在4月17日披露的一季度订单远低于市场预期,这使得阿斯麦(
阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
)光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两台高数值孔径EUV
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
发表于 03-21 11:31
•5834次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来
三星清空ASML股份,11年盈利超16倍
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、
佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机
Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的
评论