0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中芯国际EUV光刻机谈判在即?

我快闭嘴 来源:创投时报 作者:BU 2021-01-04 14:28 次阅读

受前段时间,CEO梁孟松辞职的影响,中芯国际股价一度出现大幅动荡。

但在12月30日,中芯国际H股价格一度上涨超过16%,中芯国际的市值大涨167亿。而在次日,中芯国际股价再度飙升8.33%,令人瞩目。

关于中芯国际市值上涨的缘由,有消息称是受EUV***谈判在即的影响。一旦EUV***到手,国产芯片有望打通5nm。

不久前曾有消息人士称,中芯国际将寻求同荷兰ASML就EUV***问题展开谈判的机会,希望能采购EUV***。

据悉,这项谈判的牵线人,便是近来回归中芯国际的蒋尚义。或许这是为何,中芯国际执意邀请蒋尚义回归的原因。

蒋尚义曾是台积电核心人物,不仅有着丰厚的经验,在半导体行业的威望也颇高。中芯国际与ASML的谈话,很大概率是由蒋尚义促成。

目前,中芯国际可量产制程已经来到了14nm,产能正在不但扩大。而中芯国际第二代N+1制程,也可以进行小量试产,预计在2021年实现风险量产。

中芯国际的第二代N+1制程,虽然芯片本身并不是7nm制程,但效果却同7nm相近。

同时,据曝光的梁孟松辞职信上显示,在5nm、3nm上,中芯国际也做好了准备。据悉,中芯国际5nm和3nm最核心的8大项技术已经有序展开,只待EUV***的到来,就可以进入全面开发阶段。

也就是说,一旦EUV***到手,中芯国际便有望攻克5nm难题,带领国产芯片追上台积电、三星

由此,中芯国际市值数日实现增长。不过,想要买到ASML的EUV***谈何容易,要绕过美国的重重阻挠。

2018年,中芯国际便成功向ASML订购一台EUV***,并约定在2019年年初交货。但是,此事最终在美国对荷兰政府的多次施压下,没有了音讯。

至今,ASML的这台EUV***还没有到厂。因此,中芯国际若是真与ASML谈成功,又该如此抵住美国的压力,是一个不小的问题。

EUV***制作复杂、工作量庞大,从生产到交付大约要一年的时间,在这一年里,可能会有很多意想不到的问题发生,令人担忧。

不过,尽管困难颇多,还是希望中芯国际能够买来EUV***,带领国产芯片突破海外垄断,保证中国芯片产业安全可控。

你认为,中芯国际买到EUV***的可能性大吗?
责任编辑:tzh

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    452

    文章

    50167

    浏览量

    420593
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1413

    浏览量

    65243
  • 三星电子
    +关注

    关注

    34

    文章

    15844

    浏览量

    180855
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    603

    浏览量

    85935
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新一轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前
    的头像 发表于 10-17 00:13 2599次阅读

    纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

    电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机光刻技术。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索不完全依赖于
    的头像 发表于 03-09 00:15 3981次阅读
    纳米压印<b class='flag-5'>光刻</b>技术应用<b class='flag-5'>在即</b>,能否掀起芯片制造革命?

    日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术

    近日,日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)发布了一项重大研究报告,宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外(EUV光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体制造业的标准界限,其设计的光刻设备能够采用更小巧的
    的头像 发表于 08-03 12:45 819次阅读

    俄罗斯首台光刻机问世

    据外媒报道,目前,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已组装并制造了第一台国产光刻机,作为泽廖诺格勒技术生产线
    的头像 发表于 05-28 15:47 680次阅读

    Rapidus对首代工艺0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus),只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
    的头像 发表于 05-27 14:37 572次阅读

    后门!ASML可远程锁光刻机

    来源:国网,谢谢 编辑:感知视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程锁定! 据《联合早报》报道,荷兰
    的头像 发表于 05-24 09:35 485次阅读

    荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机

    disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连续三个季度成为阿斯麦(ASML)最大市场,而
    的头像 发表于 05-22 11:29 5703次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
    的头像 发表于 05-17 17:21 862次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
    的头像 发表于 04-29 10:44 747次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 849次阅读

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
    发表于 03-21 11:31 5580次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 494次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4011次阅读

    光刻机结构及IC制造工艺工作原理

    光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
    发表于 01-29 09:37 2459次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>结构及IC制造工艺工作原理

    三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台

    EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包
    的头像 发表于 11-22 16:46 692次阅读